防水性透明薄膜、防水性透明薄膜的制造方法、显示器和光学调整薄膜技术

提供一种具有优异的防水性和透明性且不会因膜剥落造成防水性降低的防水性透明薄膜，能够简易且有效率地生产该防水性透明薄膜的防水性透明薄膜的制造方法，以及可隔绝水滴等加以保护，并且可视性优异的显示器和光学调整薄膜。本发明专利技术的一方式的防水性透明薄膜，是对表面之中的至少一部分的区域实施过防水处理的防水性透明薄膜，其特征在于，上述防水处理区域的表层部含有碳、氟和氧，在以X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上，上述氟原子含量在上述表面显示最大值，随着上述深度的增加而递减。本发明专利技术的另一方式是具备上述防水性透明薄膜的显示器。本发明专利技术的再一方式是外层使用有上述防水性透明薄膜的光学调整薄膜。

Manufacturing method, display and optical adjustment film of waterproof transparent film and waterproof transparent film

【技术实现步骤摘要】
防水性透明薄膜、防水性透明薄膜的制造方法、显示器和光学调整薄膜
本专利技术涉及防水性透明薄膜、防水性透明薄膜的制造方法、显示器和光学调整薄膜。
技术介绍
作为给薄膜赋予防水性的技术，已知有形成聚四氟乙烯(Polytetrafluoroethylene：PTFE)等的含氟膜的技术。作为该技术，已知有将防水性涂层剂涂敷在薄膜表面的手法，在薄膜的表面上成膜含PTFE等的薄膜的手法等。将防水性涂层剂涂敷于薄膜表面而在薄膜上形成膜时，该薄膜与膜的粘接性弱，由于该膜剥落而有可能导致防水性降低。提出有一种防水处理方法，其通过一边使含有氟系树脂的材料蒸发而在薄膜上蒸镀氟，再一边使氟系气体的等离子体发生而使氟离子轰击薄膜表面，从而形成对薄膜的密接性优异的薄膜(日本特开平5－171410号公报)。根据该防水处理方法，薄膜与膜的密接性虽优异，但要求薄膜有透明性时，该薄膜有可能损失透明性。【现有技术文献】【专利文献】【专利文献1】日本特开平5－171410号公报
技术实现思路
鉴于上述问题，本专利技术的目的在于，提供一种具有优异的防水性和透明性，且不会因膜剥落造成防水性降低的防水性透明薄膜，能够简易且有效率地生本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种防水性透明薄膜，其特征在于，是对表面之中的至少一部分的区域实施过防水处理的防水性透明薄膜，上述防水处理区域的表层部含有碳、氟和氧，在由X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上，上述氟原子含量在上述表面显示最大值，随着上述深度的增加而递减。

【技术特征摘要】
2017.12.25 JP 2017-247486;2018.02.20 JP 2018-028311.一种防水性透明薄膜，其特征在于，是对表面之中的至少一部分的区域实施过防水处理的防水性透明薄膜，上述防水处理区域的表层部含有碳、氟和氧，在由X射线光电子能谱法测定的上述表层部的深度方向的氟原子含量的分布曲线上，上述氟原子含量在上述表面显示最大值，随着上述深度的增加而递减。2.根据权利要求1所述的防水性透明薄膜，其中，由X射线光电子能谱法测定的氟原子相对于上述表层部的表面的碳原子、氟原子、氧原子和氮原子的合计的含有比为15％以上，C1s窄带谱被分离成(C－C,C－H)、C－O、(O－C＝O,CHF)、CFx(x＝1～2)和CFx(x＝2～3)这5种峰，由CFx(x＝1～2)和CFx(x＝2～3)的峰得到的CFx的结合状态的存在量相对于由上述5种峰得到的C全体的结合状态的存在量的比为8％以上。3.根据权利要求1或权利要求2所述的防水性透明薄膜，其中，上述氟原子的含有比在上述表层部的距表面深10nm处为5％以下。4.根据权利要求1或权利要求2所述的防水性透明薄膜，其中，在上述表层部氟含量比氧含量多。5.根据权利要求1或权利要求2所述的防水性透明薄膜，其中，在上述表层部的距表面深10nm以上，氟含量比氧含量少。6.根据权利要求1所述的防水性透明薄膜，其中，上述防水处理区域与上述防水处理区域外的总光线透射率的差在5％以内，雾度的差在1％以内，且透射光谱的黄色度b＊的差在2以内。7.根据权利要求2所述的防水性透明薄膜，其中，上述防水处理区域与上述防水处理区域外的总光线透射率的差在5％以内，雾度的差在1％以内，且透...

【专利技术属性】
技术研发人员：慈幸范洋，川上信之，矶村良幸，碇贺充，冲本忠雄，
申请(专利权)人：株式会社神户制钢所，
类型：发明
国别省市：日本,JP