【技术实现步骤摘要】
一种二硫化钼除硅用防腐型反应釜
本技术属于二硫化钼制备
，尤其涉及一种二硫化钼除硅用防腐型反应釜。
技术介绍
二硫化钼是一种带有金属光泽的黑色粉末，具有抗磁性以及半导体的性质，可用作线性光电导体和显示P型或N型导电性能的半导体，具有整流和换能的作用。同时，二硫化钼也是一种重要的固体润滑剂，其产品具有分散性好，不粘结的优点，可添加在各种油脂里，形成绝不粘结的胶体状态，能增加油脂的润滑性和极压性，也适用于高温、高压、高转速高负荷的机械工作状态，延长设备寿命。目前，传统的二硫化钼除硅制备工艺中，通用的方法是向耐腐蚀的聚四氟乙烯反应釜中加入50%氢氟酸和钼精矿，通过加热反应釜夹套使反应釜的内腔保持一定温度，经搅拌并反应一定时间后，通过过滤、水洗、干燥、粉碎的过程制备出含硅符合要求的二硫化钼粉体。但是耐腐蚀的聚四氟乙烯反应釜的传热效果差，反应加热到一定温度需要的时间长，能耗高，且聚四氟乙烯反应釜的强度小，软化点低，反应温度受到一定限制，制造成本高，而普通的不锈钢反应釜和搪玻璃反应釜对氢氟酸的耐腐蚀性都不好，不能满足二硫化钼的除硅制备。
技术实现思路
本技术的目的是针对上述存在...
【技术保护点】
1.一种二硫化钼除硅用防腐型反应釜，包括釜体和搅拌装置，其特征在于，所述搅拌装置竖直设置于所述釜体内，且所述釜体的内壁和搅拌装置上均设置有防腐涂覆层，所述防腐涂覆层为二硫化钼层。
【技术特征摘要】
1.一种二硫化钼除硅用防腐型反应釜，包括釜体和搅拌装置，其特征在于，所述搅拌装置竖直设置于所述釜体内，且所述釜体的内壁和搅拌装置上均设置有防腐涂覆层，所述防腐涂覆层为二硫化钼层。2.根据权利要求1所述的二硫化钼除硅用防腐型反应釜，其特征在于，所述防腐涂覆层的厚度为12-15微米。3.根据权利要求1所述的二硫化钼除硅用防腐型反应釜，其特征在于，所述釜体通过支座固定于水平面上，且釜体外壁上套装有夹套。4.根据权利要求3所述的二硫化钼除硅用防腐型反应釜，其特征在于，所述夹套上部设置有进水管，夹套底端一侧设置有出水管，所述夹套内紧贴所述釜体外壁设置有红外线加热管。5.根据权利要求1所述的二硫化钼除硅用防腐型反应釜，其特征在于，所述釜体顶端设置有釜盖，所述釜盖上呈圆周分布有一个人孔、...
【专利技术属性】
技术研发人员：成兰兴，丁为公，赵腾飞，赵增兵，王柏楠，师传兴，赵怡丽，
申请(专利权)人：洛阳申雨钼业有限责任公司，
类型：新型
国别省市：河南,41
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