一种铜柱密封微纳制造设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种铜柱密封微纳制造设备，包括铜柱密封微纳制造设备主体，所述铜柱密封微纳制造设备主体的两侧开设有凸形凹槽。本实用新型专利技术通过设置第一螺纹杆和第二螺纹杆，第二滑动块通过第一螺纹通孔和第二螺纹通孔与第一螺纹杆和第二螺纹杆螺纹连接，转动第一螺纹杆和第二螺纹杆，使第二滑动块向下移动到需要调节高度的距离，然后停止转动第一螺纹杆，继续转动第二螺纹杆，由于第二螺纹杆转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体上，从而使第二螺纹杆带着铜柱密封微纳制造设备主体向上移动，调节铜柱密封微纳制造设备主体的高度，达到了方便调节铜柱密封微纳制造设备主体高度的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种铜柱密封微纳制造设备
本技术涉及电子元件生产
，具体为一种铜柱密封微纳制造设备。
技术介绍
随着科技的发展，尤其是电子元件领域，为了使电子元件具有更强的工作效率，更低的能量消耗，电子元件进入了纳米制造的时代，通过纳米制造能够制造出性能更强悍，功耗更低的电子元件，如现在市面上出现了一种铜柱密封微纳制造设备，用来提高电路板上铜柱的工作性能。但是市面上的铜柱密封微纳制造设备大都是一体式设备，难以稳定的调节其高度来适应不同的生产线，导致使用不便，需要进行改进。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种铜柱密封微纳制造设备，具备了方便调节铜柱密封微纳制造设备高度的优点，解决了市面上的铜柱密封微纳制造设备大都是一体式设备，难以稳定的调节其高度来适应不同的生产线，导致使用不便的问题。为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种铜柱密封微纳制造设备，包括铜柱密封微纳制造设备主体，所述铜柱密封微纳制造设备主体的两侧开设有凸形凹槽，所述铜柱密封微纳制造设备主体的内壁通过凸形凹槽滑动连接有第一滑动块。所述第一滑动块的侧面固定连接有第二滑动块，所述第二滑动块的表面通过凸形凹槽与铜柱密封微纳制造设备主体的内壁滑动连接，所述第二滑动块的顶部开设有第一螺纹通孔，所述第二滑动块的内壁通过第一螺纹通孔螺纹连接有第一螺纹杆，两个第一螺纹杆的底部转动连接有一个底板，所述第二滑动块的顶部开设有第二螺纹通孔，所述第二滑动块的内壁通过第二螺纹通孔螺纹连接有第二螺纹杆，两个第二螺纹杆的底部通过凸形凹槽转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体内壁的顶部。优选的，所述第一螺纹杆和第二螺纹杆上靠近其顶部的表面固定连接有转动把手。优选的，所述底板的顶部固定连接有缓冲垫，所述底板的底部固定连接有高摩擦垫。优选的，所述第一滑动块上朝向铜柱密封微纳制造设备主体内壁的一侧开设有球形槽，所述第一滑动块的内壁通过球形槽转动连接有滚珠，所述滚珠的表面通过凸形凹槽与铜柱密封微纳制造设备主体的内壁接触。优选的，所述铜柱密封微纳制造设备主体的两侧标记有刻度，所述刻度的零刻度线靠近铜柱密封微纳制造设备主体的底部。与现有技术相比，本技术的有益效果如下：本技术通过设置第一螺纹杆和第二螺纹杆，第二滑动块通过第一螺纹通孔和第二螺纹通孔与第一螺纹杆和第二螺纹杆螺纹连接，转动第一螺纹杆和第二螺纹杆，使第二滑动块向下移动到需要调节高度的距离，然后停止转动第一螺纹杆，继续转动第二螺纹杆，由于第二螺纹杆转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体上，从而使第二螺纹杆带着铜柱密封微纳制造设备主体向上移动，调节铜柱密封微纳制造设备主体的高度，达到了方便调节铜柱密封微纳制造设备主体高度的效果。附图说明图1为本技术的正视图；图2为本技术的俯视图；图3为本技术俯视图的剖视示意图；图4为本技术侧视图的剖视示意图。图中：1-铜柱密封微纳制造设备主体、2-凸形凹槽、3-第一滑动块、4-第二滑动块、5-第一螺纹通孔、6-第一螺纹杆、7-底板、8-第二螺纹通孔、9-第二螺纹杆、10-转动把手、11-缓冲垫、12-高摩擦垫、13-球形槽、14-滚珠。具体实施方式下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。请参阅图1至图2，本技术提供一种技术方案：一种铜柱密封微纳制造设备，包括铜柱密封微纳制造设备主体1，铜柱密封微纳制造设备主体1用于对铜柱进行加工，铜柱密封微纳制造设备主体1的两侧标记有刻度，刻度的零刻度线靠近铜柱密封微纳制造设备主体1的底部，通过设置零刻度线靠近铜柱密封微纳制造设备主体1的底部的刻度，从而通过观察第二滑动块4移动的距离，进而能够准确的调节铜柱密封微纳制造设备主体1的高度，铜柱密封微纳制造设备主体1的两侧开设有凸形凹槽2，凸形凹槽2的设置使第二滑动块4和第一滑动块3沿着凸形凹槽2滑动，铜柱密封微纳制造设备主体1的内壁通过凸形凹槽2滑动连接有第一滑动块3，第一滑动块3的设置用于防止第二滑动块4脱离凸形凹槽2，第一滑动块3上朝向铜柱密封微纳制造设备主体1内壁的一侧开设有球形槽13，第一滑动块3的内壁通过球形槽13转动连接有滚珠14，滚珠14的表面通过凸形凹槽2与铜柱密封微纳制造设备主体1的内壁接触，球形槽13用于将滚珠14转动连接在第一滑动块3上，从而使第一滑动块3在凸形凹槽2中的滑动更流畅。请参阅图1至图4，第一滑动块3的侧面固定连接有第二滑动块4，通过转动第一螺纹杆6和第二螺纹杆9，由于第二滑动块4和第一螺纹杆6和第二螺纹杆9螺纹连接，且第二滑动块4受到凸形凹槽2的限制难以转动，从而使第二滑动块4沿着第一螺纹杆6和第二螺纹杆9在凸形凹槽2中滑动，第二滑动块4的表面通过凸形凹槽2与铜柱密封微纳制造设备主体1的内壁滑动连接，第二滑动块4的顶部开设有第一螺纹通孔5，第二滑动块4通过第一螺纹通孔5与第一螺纹杆6螺纹连接，第二滑动块4的内壁通过第一螺纹通孔5螺纹连接有第一螺纹杆6，第一螺纹杆6和第二螺纹杆9上靠近其顶部的表面固定连接有转动把手10，转动把手10的设置用于方便的转动第一螺纹杆6和第二螺纹杆9，两个第一螺纹杆6的底部转动连接有一个底板7，底板7用于将铜柱密封微纳制造设备主体1安装在地面上，底板7的顶部固定连接有缓冲垫11，底板7的底部固定连接有高摩擦垫12，缓冲垫11的用于防止铜柱密封微纳制造设备主体1与底板7顶部的接触受到碰撞，高摩擦垫12的设置用于使底板7和地面接触的更稳定，第二滑动块4的顶部开设有第二螺纹通孔8，第二滑动块4通过第二螺纹通孔8螺纹连接第二螺纹杆9，第二滑动块4的内壁通过第二螺纹通孔8螺纹连接有第二螺纹杆9，两个第二螺纹杆9的底部通过凸形凹槽2转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体1内壁的顶部，当需要调节铜柱密封微纳制造设备主体1高度时，同步转动第一螺纹杆6和第二螺纹杆9，使第二滑动块4向下移动到需要调节高度的距离，然后停止转动第一螺纹杆6，继续转动第二螺纹杆9，由于第二螺纹杆9转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体1上，从而使第二螺纹杆9带着铜柱密封微纳制造设备主体1向上移动，调节铜柱密封微纳制造设备主体1的高度。工作原理：该种铜柱密封微纳制造设备使用时，当需要调节铜柱密封微纳制造设备主体1高度时，同步转动第一螺纹杆6和第二螺纹杆9，使第二滑动块4向下移动到需要调节高度的距离，然后停止转动第一螺纹杆6，继续转动第二螺纹杆9，由于第二螺纹杆9转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体1上，从而使第二螺纹杆9带着铜柱密封微纳制造设备主体1向上移动，调节铜柱密封微纳制造设备主体1的高度。尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权利要求及其等同物限定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种铜柱密封微纳制造设备，包括铜柱密封微纳制造设备主体(1)，其特征在于：所述铜柱密封微纳制造设备主体(1)的两侧开设有凸形凹槽(2)，所述铜柱密封微纳制造设备主体(1)的内壁通过凸形凹槽(2)滑动连接有第一滑动块(3)；所述第一滑动块(3)的侧面固定连接有第二滑动块(4)，所述第二滑动块(4)的表面通过凸形凹槽(2)与铜柱密封微纳制造设备主体(1)的内壁滑动连接，所述第二滑动块(4)的顶部开设有第一螺纹通孔(5)，所述第二滑动块(4)的内壁通过第一螺纹通孔(5)螺纹连接有第一螺纹杆(6)，两个第一螺纹杆(6)的底部转动连接有一个底板(7)，所述第二滑动块(4)的顶部开设有第二螺纹通孔(8)，所述第二滑动块(4)的内壁通过第二螺纹通孔(8)螺纹连接有第二螺纹杆(9)，两个第二螺纹杆(9)的底部通过凸形凹槽(2)转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体(1)内壁的顶部。

【技术特征摘要】
1.一种铜柱密封微纳制造设备，包括铜柱密封微纳制造设备主体(1)，其特征在于：所述铜柱密封微纳制造设备主体(1)的两侧开设有凸形凹槽(2)，所述铜柱密封微纳制造设备主体(1)的内壁通过凸形凹槽(2)滑动连接有第一滑动块(3)；所述第一滑动块(3)的侧面固定连接有第二滑动块(4)，所述第二滑动块(4)的表面通过凸形凹槽(2)与铜柱密封微纳制造设备主体(1)的内壁滑动连接，所述第二滑动块(4)的顶部开设有第一螺纹通孔(5)，所述第二滑动块(4)的内壁通过第一螺纹通孔(5)螺纹连接有第一螺纹杆(6)，两个第一螺纹杆(6)的底部转动连接有一个底板(7)，所述第二滑动块(4)的顶部开设有第二螺纹通孔(8)，所述第二滑动块(4)的内壁通过第二螺纹通孔(8)螺纹连接有第二螺纹杆(9)，两个第二螺纹杆(9)的底部通过凸形凹槽(2)转动连接在铜柱密封微纳制造设备主体(1)内壁的顶部。...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏焕涛，
申请(专利权)人：深圳市金宏鹰五金制品有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44