像素界定结构及其制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本申请涉及显示技术领域，具体而言，涉及一种像素界定结构、像素界定结构的制作方法、显示面板及显示装置。该像素界定结构包括：第一像素界定部，形成在衬底基板上，且所述第一像素界定部具有像素开口；凸块图案，形成在所述衬底基板上并位于所述像素开口内，且所述凸块图案与所述第一像素界定部之间具有间隙；第二像素界定部，形成在所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面上。该方案能够保证有机发光功能层的膜厚均匀性，避免咖啡环效应的产生，从而可提高发光效果。

【技术实现步骤摘要】
像素界定结构及其制作方法、显示面板及显示装置
本申请涉及显示
，具体而言，涉及一种像素界定结构、像素界定结构的制作方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
目前，OLED(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极管)器件中的有机发光功能层主要通过喷墨打印工艺形成，也就是说，可通过喷墨打印机将有机发光溶液精确地填充到像素界定结构界定的像素区内，以形成有机发光功能层，但通过此方式形成的有机发光功能层的膜厚均匀性较差且容易有咖啡环效应，从而容易影响发光效果。需要说明的是，在上述
技术介绍
部分公开的信息仅用于加强对本申请的背景的理解，因此可以包括不构成对本领域普通技术人员已知的现有技术的信息。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种像素界定结构、像素界定结构的制作方法、显示面板及显示装置，能够保证有机发光功能层的膜厚均匀性，避免咖啡环效应的产生，从而可提高发光效果。本申请第一方面提供了一种像素界定结构，其包括：第一像素界定部，形成在衬底基板上，且所述第一像素界定部具有像素开口；凸块图案，形成在所述衬底基板上并位于所述像素开口内，且所述凸块图案与所述第一像素界定部之间具有间隙；第二像素界定部，形成在所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面上。在本申请的一种示例性实施例中，所述凸块图案关于所述像素开口的中心线镜像对称。在本申请的一种示例性实施例中，所述凸块图案包括多个间隔设置的凸块，且从所述凸块图案的中心至所述凸块图案的边缘，相邻所述凸块之间的间隙距离逐渐增大。在本申请的一种示例性实施例中，所述凸块的厚度小于所述第一像素界定部的厚度。在本申请的一种示例性实施例中，所述凸块的厚度为0.5μm至1.0μm，所述第一像素界定部的厚度为1.0μm至2.0μm。在本申请的一种示例性实施例中，所述第一像素界定部及所述凸块图案采用亲液材料制作而成，所述第二像素界定部采用疏液材料制作而成。在本申请的一种示例性实施例中，所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影位于所述第一像素界定部靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内。在本申请的一种示例性实施例中，所述第二像素界定部远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二像素界定部靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内。在本申请的一种示例性实施例中，所述第二像素界定部靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影面积等于所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影面积。本申请第二方面提供了一种像素界定结构的制作方法，其包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成第一像素界定薄膜，所述第一像素界定薄膜具有至少一个像素区域，所述像素区域包括第一部及环绕所述第一部的第二部；对所述第一部进行第一图案化处理，以形成凸块图案；对所述第二部进行第二图案化处理，以形成具有像素开口的第一像素界定部，所述像素开口内具有所述凸块图案，且所述第一像素界定部与所述凸块图案之间具有间隙；在所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面形成第二像素界定部，以形成像素界定结构。在本申请的一种示例性实施例中，所述对所述第一部进行第一图案化处理，以形成凸块图案，包括：在所述第一像素界定薄膜上形成光刻胶层；对所述光刻胶层进行曝光、显影，以形成覆盖所述第一部的光刻胶图案；以所述光刻胶图案作为光刻掩膜对所述第一部进行干刻工艺，以形成凸块图案；去除所述光刻胶图案。在本申请的一种示例性实施例中，所述第一像素界定薄膜采用光刻有机材料制作而成；所述对所述第一部进行第一图案化处理，以形成凸块图案，包括：对所述第一部进行曝光、显影，以形成所述凸块图案。在本申请的一种示例性实施例中，所述第一像素界定部采用亲液材料制作而成，所述第二像素界定部采用疏液材料制作而成；在对所述第二部进行第二图案化处理，以形成具有像素开口的第一像素界定部之后，且在所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面形成第二像素界定部之前，还包括：对所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面进行改性处理，以使所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面能够与所述第二像素界定部兼容。本申请第三方面提供了一种显示面板，其包括：衬底基板；像素界定结构，形成在所述衬底基板上，所述像素界定结构为上述任一项所述的像素界定结构；有机发光功能层，形成在所述像素界定结构限定的像素开口内。本申请第四方面提供了一种显示装置，其包括上述所述的显示面板。本申请提供的技术方案可以达到以下有益效果：本申请所提供的像素界定结构、像素界定结构的制作方法、显示面板及显示装置，通过在第一像素界定部的像素开口内设置凸块图案，可对填充在像素开口内的有机发光溶液的表面张力进行破坏，从而可缓解有机发光溶液在液体表面张力的作用下向中间聚拢的情况，也就是说，在凸块图案的作用下，可增大像素开口内有机发光溶液向边缘(第一像素界定部所在的位置)流动的量，从而可缓解形成的有机发光功能层出现中间厚且边缘薄的情况，提高了像素开口内有机发光功能层的膜厚均匀性，缓解了出现咖啡环效应的情况，继而提高了发光效果。应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。附图说明此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1示出了本申请实施例所述的像素界定结构的剖视示意图；图2示出了本申请实施例所述的像素界定结构的平面示意图；图3示出了本申请实施例所述的像素界定结构的制作方法的流程图；图4示出了完成步骤S302之后的示意图；图5示出了完成步骤S306之后的示意图；图6示出了完成步骤S3080之后的示意图；图7示出了完成步骤S3082之后的示意图；图8示出了本申请实施例所述的显示面板的剖视示意图。图9示出了本申请实施例所述的显示面板的制作方法的流程图。附图标记：10、衬底基板；11、第一像素界定薄膜；110、第一像素界定部；111、像素开口；112、凸块；12、第二像素界定薄膜；120、第二像素界定部；13、保护层；14、有机发光功能层。具体实施方式现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本申请将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。虽然本说明书中使用相对性的用语，例如“上”“下”来描述图标的一个组件对于另一组件的相对关系，但是这些术语用于本说明书中仅出于方便，例如根据附图中所述的示例的方向。能理解的是，如果将图标的装置翻转使其上下颠倒，则所叙述在“上”的组件将会成为在“下”的组件。当某结构在其它结构“上”时，有可能是指某结构一体形成于其它结构上，或指某结构“直接”设置在其它结构上，或指某结构通过另一结构“间接”设置在其它结构上。用语“一个”、“一”、“该”、“所述”用以表示存在一个或多个要素/组成部分/等；用语“包括”和“具有”用以表示本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种像素界定结构，其特征在于，包括：第一像素界定部，形成在衬底基板上，且所述第一像素界定部具有像素开口；凸块图案，形成在所述衬底基板上并位于所述像素开口内，且所述凸块图案与所述第一像素界定部之间具有间隙；第二像素界定部，形成在所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面上。

【技术特征摘要】
1.一种像素界定结构，其特征在于，包括：第一像素界定部，形成在衬底基板上，且所述第一像素界定部具有像素开口；凸块图案，形成在所述衬底基板上并位于所述像素开口内，且所述凸块图案与所述第一像素界定部之间具有间隙；第二像素界定部，形成在所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面上。2.根据权利要求1所述的像素界定结构，其特征在于，所述凸块图案关于所述像素开口的中心线镜像对称。3.根据权利要求2所述的像素界定结构，其特征在于，所述凸块图案包括多个间隔设置的凸块，且从所述凸块图案的中心至所述凸块图案的边缘，相邻所述凸块之间的间隙距离逐渐增大。4.根据权利要求3所述的像素界定结构，其特征在于，所述凸块的厚度小于所述第一像素界定部的厚度。5.根据权利要求4所述的像素界定结构，其特征在于，所述凸块的厚度为0.5μm至1.0μm，所述第一像素界定部的厚度为1.0μm至2.0μm。6.根据权利要求1所述的像素界定结构，其特征在于，所述第一像素界定部及所述凸块图案采用亲液材料制作而成，所述第二像素界定部采用疏液材料制作而成。7.根据权利要求1至6中任一项所述的像素界定结构，其特征在于，所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影位于所述第一像素界定部靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内。8.根据权利要求1至6中任一项所述的像素界定结构，其特征在于，所述第二像素界定部远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影位于所述第二像素界定部靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影内。9.根据权利要求1至6中任一项所述的像素界定结构，其特征在于，所述第二像素界定部靠近所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影面积等于所述第一像素界定部远离所述衬底基板的表面在所述衬底基板上的正投影面积。10.一种像素界定结构的制作方法，其特征在于，包括：提供一衬底基板；...

【专利技术属性】
技术研发人员：邹振游，李梁梁，伍蓉，孔凯斌，霍亚洲，席文星，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，福州京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11