一种用于滤波器生产的刻蚀装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种用于滤波器生产的刻蚀装置，包括刻蚀主机、喷淋装置、激光定位刻蚀头、装置外壳、传送带、从动轮、主动轮、控制主机和伺服电机，刻蚀主机设置在装置外壳上，多个激光定位刻蚀头设置在装置外壳上，与刻蚀主机连接，喷淋装置设置在装置外壳上，从动轮和主动轮设置在装置外壳内部下端，传送带嵌套在从动轮和主动轮上，主动轮与伺服电机连接，控制主机独立设置，与刻蚀主机及伺服电机信号连接，该实用新型专利技术的用于滤波器生产的刻蚀装置，通过多刻蚀头对一整个电子部件进行分级刻蚀，克服单个刻蚀头刻蚀一整个电子部件产生的偏差问题。

【技术实现步骤摘要】
一种用于滤波器生产的刻蚀装置
本技术涉及滤波器生产领域，特别涉及一种用于滤波器生产的刻蚀装置。
技术介绍
滤波器是一种精密仪器，其上包含很多精密的电子部件，这些电子部件在加工过程中需要进行刻蚀。目前的刻蚀装置均是通过一个刻蚀头不断动态调整来对一整个电子部件进行刻蚀，这不可避免的带来了较大误差。CN201410356255.1本专利技术公开了一种刻蚀装置及刻蚀方法。其中刻蚀装置包括：反应腔；晶圆固定装置，晶圆固定装置用于将晶圆固定在反应腔的顶部且晶圆的待刻蚀面朝向反应腔的底部；气体注入口，气体注入口设置在反应腔底部，用于向反应腔通入刻蚀气体；激励线圈，激励线圈环绕反应腔设置，用于将刻蚀气体激发成等离子体；以及偏压提供装置，偏压提供装置与晶圆固定装置相连，用于对晶圆固定装置中的晶圆施加偏压。本专利技术实施例的刻蚀装置不受刻蚀材料种类限制，无论刻蚀反应产物的挥发性高低均可用持续地进行刻蚀，具有刻蚀速率高、适用范围广、工艺成本低的优点。上述专利在刻蚀时就是通过一个刻蚀头不断动态调整来对一整个电子部件进行刻蚀，因此在刻蚀过程中会产生较大误差。
技术实现思路
本技术所要解决的技术问题是提供一种通过多刻蚀本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于滤波器生产的刻蚀装置，其特征在于，包括刻蚀主机、喷淋装置、激光定位刻蚀头、装置外壳、传送带、从动轮、主动轮、控制主机和伺服电机，刻蚀主机设置在装置外壳上，多个激光定位刻蚀头设置在装置外壳上，与刻蚀主机连接，喷淋装置设置在装置外壳上，从动轮和主动轮设置在装置外壳内部下端，传送带嵌套在从动轮和主动轮上，主动轮与伺服电机连接，控制主机独立设置，与刻蚀主机及伺服电机信号连接。

【技术特征摘要】
1.一种用于滤波器生产的刻蚀装置，其特征在于，包括刻蚀主机、喷淋装置、激光定位刻蚀头、装置外壳、传送带、从动轮、主动轮、控制主机和伺服电机，刻蚀主机设置在装置外壳上，多个激光定位刻蚀头设置在装置外壳上，与刻蚀主机连接，喷淋装置设置在装置外壳上，从动轮和主动轮设置在装置外壳内部下端，传送带嵌套在从动轮和主动轮上，主动轮与伺服电机连接，控制主机独立设置，与刻蚀主机及伺服电机信号连接。2.根据权利要求1所述的用于滤波器生产的刻蚀装置，其特征在于，所述激光定位刻蚀头包括激光定位装置和等离子刻蚀头，激光定位装置设置在等离子刻蚀头上，激光定位装置与控制主机信号连接。3.根据权利要求1所述用于滤波器生产的刻蚀装置，其特征在于，所述传送带包括传送履带和安置槽，多个安置槽等距设置在传送履带上。4.根据权利要求3所述的用于滤波器生产的刻蚀装...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴文明，
申请(专利权)人：深圳市比创达电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44