特征识别结构、制作方法、驱动方法及相关装置制造方法及图纸

技术编号:21398314 阅读:29 留言:0更新日期:2019-06-19 06:49
本发明专利技术提供一种特征识别结构、制作方法、驱动方法及相关装置。特征识别结构包括:设置在衬底基板上的多个第一电极和多个第二电极,多个第一电极与多个第二电极在衬底基板上的正投影相互交叉以构成多个交叠区域;多个功能图形,设置在多个第一电极与多个第二电极之间,功能图形在衬底基板上的正投影位于交叠区域内;功能图形的材料包括压电材料,功能图形至少包括两种类别的子图形,不同类别的子图形的压电系数不同。本发明专利技术在第一电极与第二电极之间设置具有不同压电系数的功能图形,以构成不同压电效果的压电传感器,可感应不同的按压级别,从而实现更多种类的触控识别。

【技术实现步骤摘要】
特征识别结构、制作方法、驱动方法及相关装置
本专利技术涉及显示器件的触控识别
,特别是一种特征识别结构、制作方法、特征识别装置及驱动方法。
技术介绍
随着终端的发展,需要触控识别的应用得到越来越多的普及。常见的触控识别主要包括:指纹识别和按压指令识别。现有终端的触控识别结构不能实现多级别的压力识别,因此一种触控识别结构无法用于识别不同类型的触控意图。比如目前的移动终端中,指纹识别模块和按压动作识别模块分别为单独的结构,指纹识别模块外置在终端表面(例如手机的Home键),只能提供指纹识别;而按压动作识别模块则设置在屏幕内侧,只能对按压命令进行识别。由此可见,不同类型的触控识别结构无法相互集成,这不利于手机等移动终端向轻量化和小型化发展。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种特征识别结构、制作方法、驱动方法及相关装置,能够基于一种触控识别结构识别出多级别的压力。为实现上述目的,一方面,本专利技术的实施例提供一种特征识别结构,包括:设置在衬底基板上的多个第一电极和多个第二电极,所述多个第一电极与所述多个第二电极在所述衬底基板上的正投影相互交叉以构成多个交叠区域;多个功能图形,设置在所本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种特征识别结构,其特征在于,包括:设置在衬底基板上的多个第一电极和多个第二电极,所述多个第一电极与所述多个第二电极在所述衬底基板上的正投影相互交叉以构成多个交叠区域;多个功能图形,设置在所述多个第一电极与所述多个第二电极之间,所述功能图形在所述衬底基板上的正投影位于所述交叠区域内;所述功能图形的材料包括压电材料,所述功能图形至少包括两种类别的子图形,不同类别的子图形的压电系数不同。

【技术特征摘要】
1.一种特征识别结构,其特征在于,包括:设置在衬底基板上的多个第一电极和多个第二电极,所述多个第一电极与所述多个第二电极在所述衬底基板上的正投影相互交叉以构成多个交叠区域;多个功能图形,设置在所述多个第一电极与所述多个第二电极之间,所述功能图形在所述衬底基板上的正投影位于所述交叠区域内;所述功能图形的材料包括压电材料,所述功能图形至少包括两种类别的子图形,不同类别的子图形的压电系数不同。2.根据权利要求1所述的特征识别结构,其特征在于,所述功能图形包括:间隔设置的第一类子图形和第二类子图形;至少一个第一类子图形在所述衬底基板上的正投影以及至少一个第二类子图形在所述衬底基板上的正投影位于同一交叠区域内。3.根据权利要求1所述的特征识别结构,其特征在于,所述功能图形包括:第一类子图形和第二类子图形;相邻的两个交叠区域中,其中一者仅包括第一类子图形在所述衬底基板的正投影,另一者仅包括第二类子图形在所述衬底基板的正投影。4.根据权利要求3所述的特征识别结构,其特征在于,所述第一电极沿第一方向延伸,且多个第一电极沿第二方向相互平行设置;在第一方向上的相邻的两个交叠区域中,其中一者仅包括第一类子图形在所述衬底基板的正投影,另一者仅包括第二类子图形在所述衬底基板的正投影。5.一种特征识别结构的制作方法,其特征在于,包括:提供一衬底基板;在所述衬底基板上依次形成多个第一触控电极、多个压电图形以及多个第二触控电极;其中,所述多个第一电极与所述多个第二电极在所述衬底基板上的正投影相互交叉以构成多个交叠区域;所述多个功能图形,设置在所述多个第一电极与所述多个第二电极之间,且在所述衬底基板上的正投影位于所述交叠区域内;所述功能图形的材料包括压电材料,所述功能图形至少包括两种类别的子图形,不同类别的子图形的压电系数不同。6.一种特征识别装置,包括如权利要求1-4所述的特征识别结构,其特征在于,包括:输入模块,用于向第一电极输入检测信号;接收模块,用于从第二电极接收感应信号;存储模块,用于存储有压力级别与触控识别模式的对照关系;确定模块,用于确定所述感应信号的压力级别;处理模块,用于根据所述感应信号的压力级别,从所述存储...

【专利技术属性】
技术研发人员:班圣光曹占锋姚琪高延凯
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司
类型:发明
国别省市:北京,11

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