一种匀流装置及其匀流实现方法制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种匀流装置，包括反应槽体，其特征在于，反应槽体下方设有副槽，副槽通过管道和泵浦与反应槽体的进液口连接，反应槽体的两侧分别设有溢流区，溢流区通过管道与副槽相通；反应槽体内的液体通过两侧的溢流区流入下方的副槽内，副槽内的液体通过泵浦将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。本发明专利技术通过将一个大型反应槽体分割成多个小型反应槽体的方式改善反应槽内药液的均匀性，并使反应物快速离开反应区，通过溢流区流入副槽内，副槽内的液体再通过泵浦和管路进入各个反应槽体,达到及时排走反应槽体中部的反应生成物并形成循环溢流的结构，解决了反应生成物堆积过久不能被及时排走的问题。

A Uniform Flow Device and Its Realization Method

The invention discloses a uniform flow device, which comprises a reaction tank body. Its characteristics are as follows: a sub-tank is arranged below the reaction tank body, and the sub-tank is connected with the liquid inlet of the reaction tank body through a pipeline and a pump; the two sides of the reaction tank body are respectively provided with an overflow zone, which is communicated with the sub-tank through a pipeline; the liquid in the reaction tank body flows into the sub-tank below through the overflow zone on both sides, and the liquid in the sub-tank is connected with the overflow zone on both sides. The liquid is pumped out and injected into the inlet of the reaction tank connected by a pipeline, thus circulating the liquid in the uniform flow tank. The invention improves the uniformity of the medicine liquid in the reaction tank by dividing a large reaction tank body into several small reaction tanks, and makes the reactant leave the reaction zone quickly, flows into the sub-tank through the overflow zone, and then the liquid in the sub-tank enters each reaction tank through the pump and pipeline, so as to achieve timely removal of the reaction products in the middle of the reaction tank body and form a circulating overflow structure. It solves the problem that the reaction products can not be discharged in time because they accumulate too long.

【技术实现步骤摘要】
一种匀流装置及其匀流实现方法
本专利技术涉及一种半导体及太阳能清洗设备和湿法处理设备,具体涉及一种链式清洗设备和湿法处理设备。
技术介绍
在链式清洗行业,产品通过传输通道传送的不同的工艺槽进行对应的化学腐蚀和清洗处理.由于设备产能的要求,一些化学处理槽长度需要做很长如2-3米的长度.产品与化学药液发生化学反应,会生产新的物质.由于传统槽体过长,化学药液只在产品进入槽体的首尾两端进行溢流,槽体中部的反应生成物不能被及时排走,如果反应生成物在产品周围堆积过久,会改变化学药液的浓度,在工艺上造成化学腐蚀的量发生不稳定的变化。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种能及时排走槽体中部的反应生成物的反应槽循环溢流结构。为了达到上述技术目的，本专利技术的技术方案是提供一种匀流装置，包括反应槽体，其特征在于，所述反应槽体下方设有副槽，所述副槽通过管道和泵浦与反应槽体的进液口连接，所述反应槽体的两侧分别设有溢流区，所述溢流区通过管道与副槽相通；所述反应槽体内的液体通过两侧的溢流区流入下方的副槽内，副槽内的液体通过泵浦将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。优选地，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种匀流装置，包括反应槽体(2)，其特征在于，所述反应槽体(2)下方设有副槽(5)，所述副槽(5)通过管道和泵浦(4)与反应槽体(2)的进液口连接，所述反应槽体(2)的两侧分别设有溢流区(3)，所述溢流区(3)通过管道与副槽(5)相通；所述反应槽体(2)内的液体通过两侧的溢流区(3)流入下方的副槽(5)内，副槽(5)内的液体通过泵浦(4)将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体(2)的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。

【技术特征摘要】
1.一种匀流装置，包括反应槽体(2)，其特征在于，所述反应槽体(2)下方设有副槽(5)，所述副槽(5)通过管道和泵浦(4)与反应槽体(2)的进液口连接，所述反应槽体(2)的两侧分别设有溢流区(3)，所述溢流区(3)通过管道与副槽(5)相通；所述反应槽体(2)内的液体通过两侧的溢流区(3)流入下方的副槽(5)内，副槽(5)内的液体通过泵浦(4)将液体抽出并注入通过管道连接的反应槽体(2)的进液口内，如此循环匀流槽内的液体。2.根据权利要求1所述的一种匀流装置，其特征在于，所述反应槽体(2)的尺寸略大于硅片(1)的尺寸；所述反应槽体(2)略大于硅片(1)的尺寸能快速将反应槽体(2)内的液体匀流出去，不会产生化学成分的堆积。3.根据权利要求2所述的一种匀流装置，其特征在于，所述反应槽体(2)底部的进液口设有匀流装置，所述匀流装置为多孔，液体通过多孔均匀注入反应槽体(2)内，改善反应槽体(2)内药液的均匀性。4.根据权利要求3所述的一种匀流装置，其特征在于，所述副槽(5)上设有多个首尾连接的反应槽体(2)，所述反应槽体(2)之间通过溢流区(3)间隔，所述每个溢流区(3)的底部均...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴洪烨，
申请(专利权)人：上海釜川自动化设备有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31