一种过程装备与控制工程专用反应釜制造技术

本实用新型专利技术涉及反应釜技术领域，具体涉及一种过程装备与控制工程专用反应釜，包括反应釜本体、底座、旋转电机、转轴、螺杆、支架、清洁刷、开关、反应釜开盖、泄压通道、收集罩、滑槽、滑块、弹簧、泄压盖、密封垫和气孔，本实用新型专利技术的底座和螺杆可随意拆卸，旋转电机配合清洁刷的使用可以让本实用新型专利技术能够随时为反应釜内壁进行清洗，方便实用；另外反应釜开盖的设计让本实用新型专利技术在使用过程中内部产生的压力可以通过泄压盖自动排出，解决了反应釜开盖无法及时排放釜内压力的问题，保护了反应釜的安全从而提高了反应釜的工作效率。

A Special Reactor for Process Equipment and Control Engineering

The utility model relates to the technical field of reaction kettle, in particular to a special reaction kettle for process equipment and control engineering, including the reactor body, base, rotating motor, rotating shaft, screw, support, cleaning brush, switch, reaction kettle cover, relief channel, collecting cover, slider, spring, relief cover, sealing cushion and air hole. The base and screw of the utility model can follow. The utility model can clean the inner wall of the reactor at any time with the help of the rotary motor and the cleaning brush, which is convenient and practical. In addition, the design of the opening cover of the reactor enables the pressure generated in the internal of the reactor to be automatically discharged through the relief cover during the use of the reactor, thus solving the problem that the opening cover of the reactor can not discharge the pressure in time, and protecting the safety of the reactor. Thus, the working efficiency of the reactor is improved.

【技术实现步骤摘要】
一种过程装备与控制工程专用反应釜
本技术涉及反应釜
，具体涉及一种过程装备与控制工程专用反应釜。
技术介绍
目前市面上的反应釜广泛应用于石油、化工、橡胶、农药、染料、医药和食品等行业，用来完成硫化、硝化、氢化、烃化、聚合、缩合等工艺过程的压力容器，原理是将反应釜中的各种液体通过浆式搅拌器搅拌，使物料分散均匀，从而充分反应。反应釜多种多样，其中过程装备与控制工程专用反应釜在反应过程中和反应之后无法对反应釜内壁上的粘合物进行清除，长期使用容易导致表面淤积，严重增加后期清洗难度，增大清洗成本；另外现有的过程装备与控制工程专用反应釜的开盖装置大多为密封的，当反应釜开盖装置内部压力过大时，不能够及时进行解压，从而降低了反应釜的工作效率。
技术实现思路
针对现有技术的不足，本技术公开了一种过程装备与控制工程专用反应釜，用于解决现有的过程装备与控制工程专用反应釜清洁不方便以及反应釜开盖无法及时排放釜内压力的问题。具体技术方案如下：一种过程装备与控制工程专用反应釜，包括反应釜本体、底座、旋转电机、转轴、螺杆、支架、清洁刷、开关、反应釜开盖、泄压通道、收集罩、滑槽、滑块、弹簧、泄压盖、密封垫和气孔，所述反应釜本体的底部通过螺纹连接有底座，所述底座的表面设有开关，所述底座内腔中心设有旋转电机，所述旋转电机的转轴竖直设于底座的顶部，所述反应釜本体的内腔中心竖直设有螺杆，所述螺杆与转轴螺纹连接，所述反应釜本体的内壁设有一圈清洁刷，所述清洁刷与螺杆之间通过支架固定连接，所述反应釜本体的顶部螺纹连接有反应釜开盖，所述反应釜开盖的内腔顶部中心处竖直设有泄压通道，所述泄压通道的底部设有收集罩，所述泄压通道的内壁表面设有滑槽，所述滑槽的表面滑动连接有滑槽，所述反应釜开盖的顶部中心设有泄压盖，所述泄压盖的底部与滑块的顶部通过弹簧固定连接，所述泄压盖与反应釜开盖的接触面设有密封垫，所述密封垫下方的泄压盖侧壁设有多组气孔；优选的，所述底座的表面设有电源插孔，所述电源插孔与旋转电机和开关通过导线电性连接；优选的，所述清洁刷为海绵刷；优选的，所述收集罩为硅胶材料制成；优选的，所述收集罩的直径不大于反应釜本体釜口直径。有益效果：本技术的底座和螺杆可随意拆卸，旋转电机配合清洁刷的使用可以让本技术能够随时为反应釜内壁进行清洗，方便实用；另外反应釜开盖的设计让本技术在使用过程中内部产生的压力可以通过泄压盖自动排出，解决了反应釜开盖无法及时排放釜内压力的问题，保护了反应釜的安全从而提高了反应釜的工作效率。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本技术结构示意图；图2为图1中反应釜开盖结构示意图；图3为图2中泄压盖结构示意图。附图标记如下：1、反应釜本体，2、底座，3、旋转电机，4、转轴，5、螺杆，6、支架，7、清洁刷，8、开关，9、反应釜开盖，10、泄压通道，11、收集罩，12、滑槽，13、滑块，14、弹簧，15、泄压盖，16、密封垫，17、气孔。具体实施方式为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。参看图1-3：一种过程装备与控制工程专用反应釜，包括反应釜本体1、底座2、旋转电机3、转轴4、螺杆5、支架6、清洁刷7、开关8、反应釜开盖9、泄压通道10、收集罩11、滑槽12、滑块13、弹簧14、泄压盖15、密封垫16和气孔17，所述反应釜本体1的底部通过螺纹连接有底座2，所述底座2的表面设有开关8，所述底座2内腔中心设有旋转电机3，所述底座2的表面设有电源插孔，所述电源插孔与旋转电机3和开关8通过导线电性连接，所述旋转电机3的转轴4竖直设于底座2的顶部，所述反应釜本体1的内腔中心竖直设有螺杆5，所述螺杆5与转轴4螺纹连接，所述反应釜本体1的内壁设有一圈清洁刷7，所述清洁刷7与螺杆5之间通过支架6固定连接，其中所述清洁刷7为海绵刷，所述反应釜本体1的顶部螺纹连接有反应釜开盖9，所述反应釜开盖9的内腔顶部中心处竖直设有泄压通道10，所述泄压通道10的底部设有收集罩11，所述收集罩11为硅胶材料制成，所述收集罩11的直径不大于反应釜本体1釜口直径，所述泄压通道10的内壁表面设有滑槽12，所述滑槽12的表面滑动连接有滑槽12，所述反应釜开盖9的顶部中心设有泄压盖15，所述泄压盖15的底部与滑块13的顶部通过弹簧14固定连接，所述泄压盖15与反应釜开盖9的接触面设有密封垫16，所述密封垫16下方的泄压盖15侧壁设有多组气孔17。当本技术需要进行内壁清洁时，把底座2的电源插孔通过电线与外部电源连接，然后启动开关8，此时旋转电机3转动带动螺杆5转动，从而使清洁刷7能够沿着反应釜本体1的内壁旋转进行清洗；本技术在使用时，反应釜本体1内腔产生的压力会被收集罩11收集，然后传送到泄压通道10内腔并向上挤压滑块13，当压力大于弹簧14的弹力时，滑块13会沿着滑槽12向上滑动，此时弹簧14的顶部会把泄压盖15向上挤压，此时气孔17会暴露在外界，反应釜本体1内部的气体会通过气孔17排出到外界从而维持反应釜本体1内部的稳定。本技术的底座和螺杆可随意拆卸，旋转电机配合清洁刷的使用可以让本技术能够随时为反应釜内壁进行清洗，方便实用；另外反应釜开盖的设计让本技术在使用过程中内部产生的压力可以通过泄压盖自动排出，解决了反应釜开盖无法及时排放釜内压力的问题，保护了反应釜的安全从而提高了反应釜的工作效率。以上实施例仅用以说明本技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本技术各实施例技术方案的精神和范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种过程装备与控制工程专用反应釜，其特征在于：包括反应釜本体（1）、底座（2）、旋转电机（3）、转轴（4）、螺杆（5）、支架（6）、清洁刷（7）、开关（8）、反应釜开盖（9）、泄压通道（10）、收集罩（11）、滑槽（12）、滑块（13）、弹簧（14）、泄压盖（15）、密封垫（16）和气孔（17），所述反应釜本体（1）的底部通过螺纹连接有底座（2），所述底座（2）的表面设有开关（8），所述底座（2）内腔中心设有旋转电机（3），所述旋转电机（3）的转轴（4）竖直设于底座（2）的顶部，所述反应釜本体（1）的内腔中心竖直设有螺杆（5），所述螺杆（5）与转轴（4）螺纹连接，所述反应釜本体（1）的内壁设有一圈清洁刷（7），所述清洁刷（7）与螺杆（5）之间通过支架（6）固定连接，所述反应釜本体（1）的顶部螺纹连接有反应釜开盖（9），所述反应釜开盖（9）的内腔顶部中心处竖直设有泄压通道（10），所述泄压通道（10）的底部设有收集罩（11），所述泄压通道（10）的内壁表面设有滑槽（12），所述滑槽（12）的表面滑动连接有滑槽（12），所述反应釜开盖（9）的顶部中心设有泄压盖（15），所述泄压盖（15）的底部与滑块（13）的顶部通过弹簧（14）固定连接，所述泄压盖（15）与反应釜开盖（9）的接触面设有密封垫（16），所述密封垫（16）下方的泄压盖（15）侧壁设有多组气孔（17）。...

【技术特征摘要】
1.一种过程装备与控制工程专用反应釜，其特征在于：包括反应釜本体（1）、底座（2）、旋转电机（3）、转轴（4）、螺杆（5）、支架（6）、清洁刷（7）、开关（8）、反应釜开盖（9）、泄压通道（10）、收集罩（11）、滑槽（12）、滑块（13）、弹簧（14）、泄压盖（15）、密封垫（16）和气孔（17），所述反应釜本体（1）的底部通过螺纹连接有底座（2），所述底座（2）的表面设有开关（8），所述底座（2）内腔中心设有旋转电机（3），所述旋转电机（3）的转轴（4）竖直设于底座（2）的顶部，所述反应釜本体（1）的内腔中心竖直设有螺杆（5），所述螺杆（5）与转轴（4）螺纹连接，所述反应釜本体（1）的内壁设有一圈清洁刷（7），所述清洁刷（7）与螺杆（5）之间通过支架（6）固定连接，所述反应釜本体（1）的顶部螺纹连接有反应釜开盖（9），所述反应釜开盖（9）的内腔顶部中心处竖直设有泄压通道（10），所述泄压通道（10）的底部设有收...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘玉亮，于佩伶，张广林，
申请(专利权)人：山东科技大学，
类型：新型
国别省市：山东,37