The utility model discloses a pressurized cleaning device, which comprises an upper chamber and a lower chamber. The upper chamber is articulated and fastened to the lower chamber to form a sealing space. The top of the upper chamber is provided with an air inlet and a water inlet, the air inlet is connected with the air inlet and the water inlet is connected with the water inlet; the bottom of the lower chamber is provided with an air vent; the sealing space is provided with a ring tooling and the ring tooling is arranged in the ring tooling. A circular step is arranged around and a collecting groove is arranged below the lower cavity. The cleaning equipment of the utility model places the parts on the ring tooling with steps, and the ring tooling clamps are fastened on the ring chuck in the sealing space of the cleaning equipment, and then the cleaning medium is added to the sealing space from the top of the sealing space under the action of pressure. These media are cleaned through the holes or special-shaped holes and slots on the parts, so that the parts are balanced under pressure. The effect of washing can ensure that the force of parts is uniform during cleaning, reduce scrap, improve the efficiency of cleaning, and minimize the influence of human factors.
【技术实现步骤摘要】
一种增压清洗设备
本技术属于半导体材料清洗设备
,具体涉及一种增压清洗设备。
技术介绍
半导体零件材料为脆性材料,现有部分型号的零件加工之后,上面同时有数百甚至上千个小孔或异形孔,现有的疏通清洗技术手段多为风枪、高压水枪或钻头及硬物疏通后再用超声波或化学药剂清洗,因为半导体材料疏水特性,在小孔或异形孔及缝隙中没有重力或压强时会产生气室,导致化学药剂或清水无法在孔内流通,从而无法达到清洁零件的要求。而且脆性材料在局部受压不均的情况下会出现裂纹、崩边、破损等问题,现有技术是将零件装夹在夹具上,通过人工操作,逐一对零件的孔进行清理,首先局部接触点的压力会受力不均,其次清洗效率低下。在零件清洗过程中,因人为操作时具有不可控性,因此对零件的清洁度并不可控,导致零件达不到清洁要求,人工在逐一疏通小孔或异形孔时容易破坏表面完整度的同时零件因材料特性也会导致孔径内壁损伤,这样加工时间长,效率低,且会因为人工操作时的不确定性,从而报废零件。针对上述问题,提出本技术。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种增压清洗设备。为实现上述技术目的,本技术的技术方案是:一种增压清洗设备,包括上腔体2及下腔体1,其中:下腔体设于支架4上,上腔体2通过铰接件16铰接扣合于下腔体1上形成密封空间,上腔体2顶部设有空气入口13及入水口14,空气入口13连接连接进气管22,入水口14连接进水管8;下腔体1底部设有通气孔;密封空间内设有设有环形工装10,环形工装10内周设有放置圆形零件9的环形台阶,环形工装10水平卡扣于密封空间内壁上的环形台阶卡槽11上;下腔体1下方设有收集槽3,收集槽3设于支架4上 ...
【技术保护点】
1.一种增压清洗设备,其特征在于,包括上腔体(2)及下腔体(1),其中:所述下腔体设于支架(4)上,所述上腔体(2)通过铰接件(16)铰接扣合于下腔体(1)上形成密封空间,所述上腔体(2)顶部设有空气入口(13)及入水口(14),所述空气入口(13)连接连接进气管(22),所述入水口(14)连接进水管(8);所述下腔体(1)底部设有通气孔;所述密封空间内设有设有环形工装(10),所述环形工装(10)内周设有放置圆形零件(9)的环形台阶,所述环形工装(10)水平卡扣于密封空间内壁上的环形台阶卡槽(11)上;所述下腔体(1)下方设有收集槽(3),所述收集槽(3)设于支架(4)上。
【技术特征摘要】
1.一种增压清洗设备,其特征在于,包括上腔体(2)及下腔体(1),其中:所述下腔体设于支架(4)上,所述上腔体(2)通过铰接件(16)铰接扣合于下腔体(1)上形成密封空间,所述上腔体(2)顶部设有空气入口(13)及入水口(14),所述空气入口(13)连接连接进气管(22),所述入水口(14)连接进水管(8);所述下腔体(1)底部设有通气孔;所述密封空间内设有设有环形工装(10),所述环形工装(10)内周设有放置圆形零件(9)的环形台阶,所述环形工装(10)水平卡扣于密封空间内壁上的环形台阶卡槽(11)上;所述下腔体(1)下方设有收集槽(3),所述收集槽(3)设于支架(4)上。2.根据权利要求1所述的一种增压清洗设备,其特征在于,所述上腔体(2)顶部设有泄压口(15),所述泄压口(15)设有泄压阀,所述泄压阀通过泄压管线(17)连接下腔体(1)底部的回流口(19)。3.根据权利要求1所述的一种增压清洗设备,其特征在于,所述上腔体(2)上设有压力表(21),所述压力表(21)用于测量零件(9)上...
【专利技术属性】
技术研发人员:吴明庆,袁林锋,
申请(专利权)人:北京亦盛精密半导体有限公司,
类型:新型
国别省市:北京,11
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。