The utility model discloses a waveguide end polishing device, which comprises a bottom plate, a transverse sliding mechanism fixed on the bottom plate, a longitudinal sliding mechanism sliding on the transverse sliding mechanism and a grinding and polishing table sliding connected with the longitudinal sliding mechanism; and a fixed seat is fixed on the bottom of the bottom plate. The purpose of the utility model is to provide a polishing device for waveguide end surface. Under the polishing table of the polishing device, there are horizontal sliding mechanism and longitudinal sliding mechanism respectively. The coordinated operation of the horizontal sliding mechanism and the longitudinal sliding mechanism can realize the turning of the polishing table in a circular or 8-shaped shape, so that the waveguide end surface can be polished from multiple angles and the polishing effect can be achieved. Better results.
【技术实现步骤摘要】
一种波导端面抛光装置
本技术涉及
，具体涉及一种波导端面抛光装置。
技术介绍
波导是一种用来约束或引导电磁波的结构，通常，波导专指各种形状的空心金属波导管和表面波波导，前者将被传输的电磁波完全限制在金属管内，又称封闭波导，后者将引导的电磁波约束在波导结构的周围，又称开波导，目前工厂在加工波导时，需经过切断等步骤，切割后波导端面切口不平整，需要对波导管端面进行抛光，现有技术中光波导端面抛光一般是将光波导器件夹持在抛光设备的夹具中，将夹具中的光波导的端面与抛光设备中的研磨抛光盘相互摩擦进行抛光，由于条件的限制，现有的研磨抛光盘均是做圆周运动、横向运动或是纵向运动从而对光波导的端面进行研磨抛光，其抛光效果不显著，且需要转动夹具的位置从而实现研磨抛光盘从不同角度对光波导端面进行抛光的效果，在转换过程中浪费时间，效率低下，且其抛光效果不好。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种波导端面抛光装置，该抛光装置的研磨抛光工作台底下分别设置横向滑动机构和纵向滑动机构，横向滑动机构和纵向滑动机构的配合运行可以实现研磨抛光工作台呈圆周或者是8字形转动，从而可以对...
【技术保护点】
1.一种波导端面抛光装置，其特征在于，包括底板(1)、固定安装在底板(1)上的横向滑动机构(2)、滑动安装在横向滑动机构(2)上的纵向滑动机构(3)和与纵向滑动机构(3)滑动连接的研磨抛光工作台(4)；所述底板(1)的底部固定安装有固定座(5)。
【技术特征摘要】
1.一种波导端面抛光装置，其特征在于，包括底板(1)、固定安装在底板(1)上的横向滑动机构(2)、滑动安装在横向滑动机构(2)上的纵向滑动机构(3)和与纵向滑动机构(3)滑动连接的研磨抛光工作台(4)；所述底板(1)的底部固定安装有固定座(5)。2.根据权利要求1所述的一种波导端面抛光装置，其特征在于，所述横向滑动机构(2)包括固定在底板(1)上的横向固定板(6)，所述横向固定板(6)上转动连接有横向移动丝杠(7)，所述横向固定板(6)上平行设置有横向滑台(8)，所述横向移动丝杠(7)位于横向滑台(8)之间，所述底板(1)上固定设置有横向伺服电机(9)，所述横向伺服电机(9)的输出端固定连接有带轮一(17)，所述横向移动丝杠(7)的一端贯穿横向固定板(6)固定连接有带轮二(18)，所述带轮一(17)和带轮二(18)通过传送带(10)进行连接。3.根据...
【专利技术属性】
技术研发人员：华平壤，姜城，
申请(专利权)人：派尼尔科技天津有限公司，
类型：新型
国别省市：天津,12
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