一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，该阵列基板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置的栅线和数据线，且所述栅线所在层位于所述数据线所在层与所述衬底基板之间，所述阵列基板还包括：位于所述衬底基板与所述栅线所在层之间的缓冲层；所述缓冲层包括多个过孔，所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅线和所述数据线的交叉区域在所述衬底基板上的正投影。通过在数据线和栅线的交叉区域处，将缓冲层设置过孔，从而可以去除缓冲层在交叉区域处的异物，避免该异物刺破栅线和数据线之间的绝缘层导致栅线和数据线短路的问题。

An array substrate, its fabrication method, display panel and display device

The invention discloses an array substrate, its fabrication method, display panel and display device. The array substrate includes a substrate substrate, and a grid line and data line intersected on the substrate, and the grid line layer is located between the data line layer and the substrate substrate substrate. The array substrate also includes: a substrate substrate substrate and a grid line. A buffer layer between the layers comprises a plurality of through holes which are projected on the substrate to cover the cross area of the grid line and the data line. By setting a hole in the buffer layer at the intersection area of the data line and the grid line, the foreign body in the intersection area of the buffer layer can be removed, and the problem of short circuit between the grid line and the data line caused by the foreign body piercing the insulation layer between the grid line and the data line can be avoided.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置。
技术介绍
目前，在阵列基板的制作过程中，为了防止有源层的制备工艺导致衬底基板上的成分进入有源层，导致有源层的性能下降，因此，在有源层与衬底基板之间设置有缓冲层。在缓冲层的沉积过程中会存在颗粒物等异物，若该异物位于栅线和数据线的交叉区域内，在后续的制作工艺中，会存在该异物刺穿栅线和数据线之间的膜层，导致栅线和数据线短路，从而无法实现正常显示。因此，如何避免栅线和数据线在交叉区域内短路是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本专利技术提供了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，用以解决相关技术中缓冲层沉积的过程中产生异物导致栅线和数据线在交叉区域内产生短路的问题。第一方面，本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置的栅线和数据线，且所述栅线所在层位于所述数据线所在层与所述衬底基板之间；所述阵列基板还包括：位于所述衬底基板与所述栅线所在层之间的缓冲层；所述缓冲层包括多个过孔，所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅线和所述数据线的交叉区域在所述衬底基板上的正投影。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述阵列基板还包括：位于所述过孔内的填充部，且所述填充部位于所述栅线背离所述衬底基板的一侧；所述填充部背离所述衬底基板一侧的平面与所述缓冲层背离所述衬底基板一侧的平面齐平。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述阵列基板还包括：位于所述栅线所在层与所述数据线所在层之间的层间介质层。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，在所述交叉区域内，所述层间介质层包括与所述过孔对应设置的第一凹槽，所述数据线位于所述第一凹槽内；所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一凹槽在所述衬底基板上的正投影。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，在除所述交叉区域外，所述阵列基板还包括：位于所述缓冲层与所述栅线所在层之间的有源层。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板中，所述层间介质层包括与所述有源层对应设置的第二凹槽；与所述数据线同层设置的源漏电极位于所述第二凹槽内。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成缓冲层；在所述缓冲层上与预设的栅线和数据线的交叉区域处形成过孔；在所述缓冲层上依次形成栅线和数据线。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，在所述缓冲层上与预设的栅线和数据的交叉区域处形成过孔，具体包括：利用第一掩膜版进行曝光显影在所述缓冲层上形成过孔。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，所述方法还包括：在形成所述栅线之后，利用第二掩膜版形成填充所述过孔的填充部。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，所述第一掩膜版与所述第二掩膜版为同一掩膜版。在一种可能的实现方式中，在本专利技术实施例提供的上述阵列基板的制作方法中，所述方法还包括：在所述栅线所在层背离所述衬底基板的一侧形成层间介质层；在所述层间介质层上形成与所述过孔对应的第一凹槽，与有源层对应的第二凹槽。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板，该显示面板包括第一方面任一实施例所述的阵列基板。第四方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括第三方面实施例提供的显示面板。本专利技术有益效果如下：本专利技术实施例提供了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置，该阵列基板包括：衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置的栅线和数据线，且所述栅线所在层位于所述数据线所在层与所述衬底基板之间，所述阵列基板还包括：位于所述衬底基板与所述栅线所在层之间的缓冲层；所述缓冲层包括多个过孔，所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅线和所述数据线的交叉区域在所述衬底基板上的正投影。通过在数据线和栅线的交叉区域处，将缓冲层设置过孔，从而可以去除缓冲层在交叉区域处的异物，避免该异物刺破栅线和数据线之间的绝缘层导致栅线和数据线短路的问题。附图说明图1相关技术中阵列基板的结构示意图；图2为本专利技术实施例提供的阵列基板的平面结构示意图；图3为本专利技术实施例提供的阵列基板沿数据线延伸方向的剖面结构示意图之一；图4为本专利技术实施例提供的阵列基板沿数据线延伸方向的剖面结构示意图之二；图5a-5f为本专利技术实施例提供的阵列基板的制作过程的结构示意图；图6为本专利技术实施例提供的显示装置的结构示意图。具体实施方式相关技术中的阵列基板，如图1所示，包括衬底基板01，位于衬底基板01上的缓冲层02，在制作缓冲层02的过程中，异物A同时沉积到了栅线03和数据线05的交叉区域，刺穿层间介质层04，使得栅线03和数据线05短路，影响了阵列基板的正常显示。针对相关技术中的阵列基板存在的上述问题，本专利技术实施例提供了一种阵列基板、其制作方法、显示面板及显示装置。为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。附图中各部件的形状和大小不反应真实比例，目的只是示意说明本
技术实现思路
。本专利技术实施例提供了一种阵列基板，如图2和图3所示，该阵列基板包括：衬底基板1，以及位于衬底基板1上交叉设置的栅线3和数据线5，且栅线3所在层位于数据线5所在层与衬底基板之间；阵列基板还包括：位于衬底基板1与栅线3所在层之间的缓冲层2；缓冲层2包括多个过孔21，过孔21在衬底基板1上的正投影覆盖栅线3和数据线5的交叉区域在衬底基板1上的正投影。具体地，在本专利技术实施例提供的阵列基板中，通过在数据线和栅线的交叉区域处，将缓冲层设置过孔，从而可以去除缓冲层在交叉区域处的异物，避免该异物刺破栅线和数据线之间的绝缘层导致栅线和数据线短路的问题。可选地，在本专利技术实施例提供的阵列基板中，如图2和图3所示，阵列基板还包括：位于过孔21内的填充部6，且填充部6位于栅线3背离衬底基板1的一侧；填充部6背离衬底基板1一侧的平面与缓冲层2背离衬底基板1一侧的平面齐平。具体地，在本专利技术实施例提供的阵列基板中，该填充部的设置可以使数据线制作在一个平面上，避免了如图1所示的相关技术中数据线05的凸起位置C容易产生断线的问题。可选地，在本专利技术实施例提供的阵列基板中，如图3所示，阵列基板还包括：位于栅线3所在层与数据线5所在层之间的层间介质层4。其中，该层间介质层可以采用二氧化硅、氮化硅、高分子材料或气凝胶等。可选地，在本专利技术实施例提供的阵列基板中，如图4所示，在交叉区域内，层间介质层4包括与过孔对应设置的第一凹槽，数据线4位于第一凹槽内；过孔在衬底基板1上的正投影覆盖第一凹槽在衬底基板1上的正投影。具体地，在本专利技术实施例提供的阵列基板中，相关技术中，如图1所示，在制作层间介质层04时，也会在数据线05与栅线03的交叉区域内存在异物B，该异物B也会导致栅线03本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置的栅线和数据线，且所述栅线所在层位于所述数据线所在层与所述衬底基板之间，其特征在于，所述阵列基板还包括：位于所述衬底基板与所述栅线所在层之间的缓冲层；所述缓冲层包括多个过孔，所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅线和所述数据线的交叉区域在所述衬底基板上的正投影。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括衬底基板，以及位于所述衬底基板上交叉设置的栅线和数据线，且所述栅线所在层位于所述数据线所在层与所述衬底基板之间，其特征在于，所述阵列基板还包括：位于所述衬底基板与所述栅线所在层之间的缓冲层；所述缓冲层包括多个过孔，所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述栅线和所述数据线的交叉区域在所述衬底基板上的正投影。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：位于所述过孔内的填充部，且所述填充部位于所述栅线背离所述衬底基板的一侧；所述填充部背离所述衬底基板一侧的平面与所述缓冲层背离所述衬底基板一侧的平面齐平。3.如权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：位于所述栅线所在层与所述数据线所在层之间的层间介质层。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，在所述交叉区域内，所述层间介质层包括与所述过孔对应设置的第一凹槽，所述数据线位于所述第一凹槽内；所述过孔在所述衬底基板上的正投影覆盖所述第一凹槽在所述衬底基板上的正投影。5.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，在除所述交叉区域外，所述阵列基板还包括：位于所述缓冲层与所述栅线所在层之间的有源层。6.如权利要求5所述的阵列基板，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：王海涛，王庆贺，汪军，李广耀，张扬，刘军，王东方，
申请(专利权)人：合肥鑫晟光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：安徽,34