一种离子注入机垂直扫描装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种离子注入机垂直扫描装置，离子注入机包括真空腔室及位于真空腔室内的靶台，垂直扫描装置包括支架、主轴、用于驱动主轴升降的第一驱动机构、以及用于驱动主轴旋转的第二驱动机构，所述真空腔室设于所述支架上，所述主轴上端与所述靶台相连，主轴下端延伸至所述真空腔室外、并与所述第一驱动机构和第二驱动机构相连。本发明专利技术具有可减少占用真空工艺腔室空间，避免影响工艺腔室极限真空度等优点。

A Vertical Scanning Device for Ion Implanter

The invention discloses a vertical scanning device of an ion implanter, which comprises a vacuum chamber and a target platform located in the vacuum chamber. The vertical scanning device comprises a support, a spindle, a first driving mechanism for driving the spindle to rise and fall, and a second driving mechanism for driving the spindle to rotate. The vacuum chamber is arranged on the support, and the end of the spindle is said with the target platform. The lower end of the spindle extends outdoors to the vacuum chamber and is connected with the first driving mechanism and the second driving mechanism. The invention has the advantages of reducing the occupancy of vacuum process chamber space and avoiding affecting the limit vacuum degree of the process chamber.

【技术实现步骤摘要】
一种离子注入机垂直扫描装置
本专利技术涉及离子注入机，尤其涉及一种离子注入机垂直扫描装置。
技术介绍
离子注入机是半导体工艺中的关键设备之一。为了保证离子注入剂量的均匀性，离子注入设备通常需要采用一定的扫描方式。由于硅片尺寸越来越大以及离子注入工艺要求越来越高，早期的批量式靶盘已经很难满足新的工艺要求，单片注入靶台逐步成为当前离子注入机的主流。在这类注入机系统中，一般的要求是：离子束在水平方向经过电扫描、电磁铁等修正，最终到达靶台时是平行发散的，即离子束在水平方向保持稳定不变，然后通过配备的扫描装置使靶台作上下往复运动实现垂直扫描，同时通过靶台的倾斜运动实现离子注入角度的调整。申请人的已授权专利CN104409307B公开了一种离子注入机扫描装置及扫描方法，其通过比较简单的运动机构来实现垂直扫描运动，通过水平旋转机构使靶台绕扫描轴旋转来校正角度，可以实现较精确的注入角度控制。其不足之处在于，运动机构中的丝杠及导轨副、驱动部件等大部分均位于真空工艺腔室内，导致真空工艺腔室体积过大，且丝杠及导轨副等需要润滑，润滑所使用的油、脂会极大地影响工艺腔室内的极限真空度。此外，磁流体密封与直线电机本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种离子注入机垂直扫描装置，离子注入机包括真空腔室(1)及位于真空腔室(1)内的靶台(2)，垂直扫描装置包括支架(3)、主轴(4)、用于驱动主轴(4)升降的第一驱动机构(5)、以及用于驱动主轴(4)旋转的第二驱动机构(6)，其特征在于：所述真空腔室(1)设于所述支架(3)上，所述主轴(4)上端与所述靶台(2)相连，主轴(4)下端延伸至所述真空腔室(1)外、并与所述第一驱动机构(5)和第二驱动机构(6)相连。

【技术特征摘要】
1.一种离子注入机垂直扫描装置，离子注入机包括真空腔室(1)及位于真空腔室(1)内的靶台(2)，垂直扫描装置包括支架(3)、主轴(4)、用于驱动主轴(4)升降的第一驱动机构(5)、以及用于驱动主轴(4)旋转的第二驱动机构(6)，其特征在于：所述真空腔室(1)设于所述支架(3)上，所述主轴(4)上端与所述靶台(2)相连，主轴(4)下端延伸至所述真空腔室(1)外、并与所述第一驱动机构(5)和第二驱动机构(6)相连。2.根据权利要求1所述的离子注入机垂直扫描装置，其特征在于：所述主轴(4)上端穿设于一密封座(7)中，所述密封座(7)与主轴(4)之间自下而上依次设有第一密封圈(41)、第二密封圈(42)及第三密封圈(43)，所述第一密封圈(41)和第二密封圈(42)之间设有第一密封隔套(44)，所述第二密封圈(42)和第三密封圈(43)之间设有第二密封隔套(45)，所述第一密封隔套(44)和第二密封隔套(45)均与所述主轴(4)之间具有空隙，所述第一密封隔套(44)上设有与下侧空隙连通的第一抽真空通道(46)，所述第二密封隔套(45)上设有与上侧空隙连通的第二抽真空通道(47)，上侧空隙内的气压低于下侧空隙内的气压。3.根据权利要求2所述的离子注入机垂直扫描装置，其特征在于：所述支架(3)与所述密封座(7)之间连接有用于防止所述主轴(4)沿径向偏移的支撑组件(31)，所述支撑组件(31)包括一对分设于所述主轴(4)两侧的第一限位导轨(311)和一对分设于所述主轴(4)两侧的第二限位导轨(312)，所述第一限位导轨(311)和所述第二限位导轨(312...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁卫华，彭立波，程文进，许波涛，徐松，王迪平，周波，
申请(专利权)人：中国电子科技集团公司第四十八研究所，
类型：发明
国别省市：湖南,43