一种抛光台温度控制装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及一种抛光台温度控制装置，包括恒温热水箱和恒温冷水箱，所述恒温热水箱和恒温冷水箱通过引流泵与电磁三通调节阀相连接，所述电磁三通调节阀通过混合缓冲箱与抛光台的进水口相连接，所述抛光台的出水口通过回水温度传感器与回水箱相连接；所述抛光台的上部设置有辐射温度传感器；所述恒温热水箱和恒温冷水箱内设置有热交换器和混合搅拌器，所述恒温热水箱和恒温冷水箱的上部和下部分别设置有上温度传感器、下温度传感器。本实用新型专利技术能够对抛光台的温度进行精确的控制，将抛光台的工作温度长时间控制在合理范围内，不会产生温度波动，大大保证了抛光质量。

A Polishing Table Temperature Control Device

The utility model relates to a temperature control device for a polishing table, which comprises a constant temperature hot water tank and a constant temperature cold water tank. The constant temperature hot water tank and the constant temperature cold water tank are connected with an electromagnetic three-way regulating valve through a drainage pump, the electromagnetic three-way regulating valve is connected with the water inlet of the polishing table through a mixed buffer box, and the water outlet of the polishing table is connected with a return water tank through a return water temperature sensor. The upper part of the polishing table is provided with a radiation temperature sensor; the thermostat hot water tank and the thermostat cold water tank are provided with a heat exchanger and a mixer; the upper and lower parts of the thermostat hot water tank and the thermostat cold water tank are respectively provided with an upper temperature sensor and a lower temperature sensor. The utility model can precisely control the temperature of the polishing table, control the working temperature of the polishing table in a reasonable range for a long time, and will not produce temperature fluctuation, thus greatly ensuring the polishing quality.

【技术实现步骤摘要】
一种抛光台温度控制装置
本技术属于化学机械抛光设备
，特别涉及一种抛光台温度控制装置。
技术介绍
CMP(ChemicalMechanicalPlanarization)的加工过程，是对晶圆表面进行平坦化的过程，要对AL、Cu、W、STI氧化层及Low-k等材料进行抛光加工。由于抛光机理是通过化学作用后，对抛除材料形成络合物，后对络合物进行机械作用去除。所以化学作用是抛光过程中的重要作用。目前在抛光过程中采用的抛光液是分别加入了纳米级磨料的酸性或碱性的化学液体。在化学反应过程中具有热量的释放，从而造成温度的上升。抛光台上基板表面的抛光率不仅受到抛光面上接触压力的影响，还受到抛光面温度、供应的浆体浓度等的影响。抛光温度是影响半导体晶圆抛光速率与质量的一个重要参数。目前的抛光台温度控制装置对抛光台的温度控制不够精确，不能长时间将抛光温度稳定在合理的范围内，由此造成抛光的质量也不够稳定。
技术实现思路
有鉴于此，为了解决上述问题，本技术提供一种抛光台温度控制装置，能够对抛光台的温度进行精确的控制，将抛光台的工作温度长时间控制在合理范围内，不会产生温度波动，大大保证了抛光质量。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是：一种抛光台温度控制装置，包括恒温热水箱和恒温冷水箱，所述恒温热水箱和恒温冷水箱通过引流泵与电磁三通调节阀相连接，所述电磁三通调节阀通过混合缓冲箱与抛光台的进水口相连接，所述抛光台的出水口通过回水温度传感器与回水箱相连接；所述抛光台的上部设置有辐射温度传感器；所述恒温热水箱和恒温冷水箱内设置有热交换器和混合搅拌器，所述恒温热水箱和恒温冷水箱的上部和下部分别设置有上温度传感器、下温度传感器，还包括控制器，所述电磁三通调节阀、引流泵、回水温度传感器、辐射温度传感器、上温度传感器、下温度传感器、混合搅拌器分别与所述控制器相连接。进一步地，所述混合缓冲箱与抛光台的进水口之间还设置有第一开关阀，所述混合缓冲箱与第一开关阀之间还通过旁通管与回水箱相连接，所述旁通管上设置有第二开关阀。进一步地，所述抛光台上设置有抛光垫，所述抛光垫上部设置有抛光液喷嘴。进一步地，所述回水箱通过回水电磁三通调节阀分别与所述恒温热水箱和恒温冷水箱相连接。进一步地，所述恒温热水箱和恒温冷水箱上还分别设置有补水口，所述所述恒温热水箱和恒温冷水箱内分别设置有水位计。进一步地，所述恒温热水箱和恒温冷水箱外部分别设置有保温层。另外，在本技术所述技术方案中，凡未做特别说明的，均可采用本领域中的常规手段来实现本技术方案。本技术具有以下优点：本技术恒温热水箱和恒温冷水箱能够输送恒定温度的热水和冷水，控制器根据辐射温度传感器探测到的抛光台的温度，自动对电磁三通调节阀进行控制，进而调节热水和冷水的输入流量，并且在混合缓冲箱的进一步混合下，把合适温度、流量的热水输送至抛光台，对抛光台进行温度调节，将抛光台的温度控制在合理的范围内。上温度传感器、下温度传感器能够探测恒温热水箱和恒温冷水箱的上部和下部的温度，当上下部的温度差大于一阈值时，控制器能够及时控制混合搅拌器进行搅拌工作，将水箱内的水始终保持在合适的温度，减少水温的波动，从而能够进一步保证对抛光台的温度的精确控制。本技术能够对抛光台的温度进行精确的控制，将抛光台的工作温度长时间控制在合理范围内，不会产生温度波动，大大保证了抛光质量。附图说明图1是本技术的结构示意图。图中：1、恒温热水箱；2、恒温冷水箱；3、电磁三通调节阀；4、引流泵；5、混合缓冲箱；6、抛光台；7、回水温度传感器；9、辐射温度传感器；10、回水箱；11、回水电磁三通调节阀；12、第一开关阀；13、第二开关阀；14、抛光垫；15、抛光液喷嘴；16、补水口；17、热交换器；18、上温度传感器；19、下温度传感器；20、混合搅拌器；21、水位计。具体实施方式下面结合附图对本技术做进一步说明。参见图1，一种抛光台温度控制装置，包括恒温热水箱1和恒温冷水箱2，所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2通过引流泵4与电磁三通调节阀3相连接，所述电磁三通调节阀3通过混合缓冲箱5与抛光台6的进水口相连接，所述抛光台6的出水口通过回水温度传感器7与回水箱10相连接；所述抛光台6的上部设置有辐射温度传感器9。所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2内设置有热交换器17和混合搅拌器20，所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2的上部和下部分别设置有上温度传感器18、下温度传感器19，还包括控制器，所述电磁三通调节阀3、引流泵4、回水温度传感器7、辐射温度传感器9、上温度传感器18、下温度传感器19、混合搅拌器20分别与所述控制器相连接。本技术恒温热水箱1和恒温冷水箱2能够输送恒定温度的热水和冷水，控制器根据辐射温度传感器9探测到的抛光台6的温度，自动对电磁三通调节阀3进行控制，进而调节热水和冷水的输入流量，并且在混合缓冲箱5的进一步混合下，把合适温度、流量的热水输送至抛光台6，对抛光台6进行温度调节，将抛光台6的温度控制在合理的范围内。而回水温度传感器7能够探测回水的温度。上温度传感器18、下温度传感器19能够探测恒温热水箱1和恒温冷水箱2的上部和下部的温度，当上下部的温度差大于一阈值时，控制器能够及时控制混合搅拌器20进行搅拌工作，将水箱内的水始终保持在合适的温度，减少水温的波动，从而能够进一步保证对抛光台6的温度的精确控制。所述混合缓冲箱5与抛光台6的进水口之间还设置有第一开关阀12，所述混合缓冲箱5与第一开关阀12之间还通过旁通管与回水箱10相连接，所述旁通管上设置有第二开关阀13。进一步地，所述抛光台6上设置有抛光垫14，所述抛光垫14上部设置有抛光液喷嘴15。进一步地，所述回水箱10通过回水电磁三通调节阀11分别与所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2相连接。进一步地，所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2上还分别设置有补水口16，所述所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2内分别设置有水位计21。进一步地，所述恒温热水箱1和恒温冷水箱2外部分别设置有保温层。最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本专利技术的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本专利技术进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本专利技术各实施例技术方案的精神和范围。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光台温度控制装置，其特征在于：包括恒温热水箱和恒温冷水箱，所述恒温热水箱和恒温冷水箱通过引流泵与电磁三通调节阀相连接，所述电磁三通调节阀通过混合缓冲箱与抛光台的进水口相连接，所述抛光台的出水口通过回水温度传感器与回水箱相连接；所述抛光台的上部设置有辐射温度传感器；所述恒温热水箱和恒温冷水箱内设置有热交换器和混合搅拌器，所述恒温热水箱和恒温冷水箱的上部和下部分别设置有上温度传感器、下温度传感器，还包括控制器，所述电磁三通调节阀、引流泵、回水温度传感器、辐射温度传感器、上温度传感器、下温度传感器、混合搅拌器分别与所述控制器相连接。

【技术特征摘要】
1.一种抛光台温度控制装置，其特征在于：包括恒温热水箱和恒温冷水箱，所述恒温热水箱和恒温冷水箱通过引流泵与电磁三通调节阀相连接，所述电磁三通调节阀通过混合缓冲箱与抛光台的进水口相连接，所述抛光台的出水口通过回水温度传感器与回水箱相连接；所述抛光台的上部设置有辐射温度传感器；所述恒温热水箱和恒温冷水箱内设置有热交换器和混合搅拌器，所述恒温热水箱和恒温冷水箱的上部和下部分别设置有上温度传感器、下温度传感器，还包括控制器，所述电磁三通调节阀、引流泵、回水温度传感器、辐射温度传感器、上温度传感器、下温度传感器、混合搅拌器分别与所述控制器相连接。2.根据权利要求1所述的抛光台温度控制装置，其特征在于：所述混合缓冲箱与抛光...

【专利技术属性】
技术研发人员：方明喜，肖学才，常强，
申请(专利权)人：爱利彼半导体设备中国有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32