一种封闭式镀膜系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种封闭式镀膜系统，包括依次线性循环设置的上料端、缓存台、加热腔、正表面镀膜腔一、加热腔、缓冲腔、正表面镀膜腔二、缓冲腔、卸载腔、缓存台、载板移载机构、硅片翻转机构、缓存台、加热腔、缓冲腔、背表面镀膜腔一、缓冲腔、加热腔、缓冲腔、背表面镀膜腔二、缓冲腔、卸载腔、缓存台及下料端。本实用新型专利技术具有产能高、成本投入低、硅片无卡点印痕、外界环境对硅片表面的污染少及系统通用性高等优点。

A Closed Coating System

The utility model discloses a closed coating system, which comprises a feeding end, a buffer table, a heating chamber, a positive surface coating chamber, a heating chamber, a buffer chamber, a positive surface coating chamber, a buffer chamber, an unloading chamber, a buffer desk, a loading mechanism of a carrier plate, a silicon wafer turnover mechanism, a buffer desk, a heating chamber, a buffer chamber, a back surface coating chamber, a buffer chamber, and an adding chamber. Hot chamber, buffer chamber, back surface coating chamber 2, buffer chamber, unloading chamber, buffer table and blanking end. The utility model has the advantages of high productivity, low cost, no card mark on the silicon wafer, less pollution to the surface of the silicon wafer by the external environment, and high generality of the system.

【技术实现步骤摘要】
一种封闭式镀膜系统
本技术涉及太阳能电池硅片制造
，特别涉及一种用于硅片的封闭式镀膜系统。
技术介绍
近些年来环保要求越来越高，化石能源的污染问题越来越受到重视，而且由于化石能源的不可再生性，寻求新的能源形式迫在眉睫。在众多新型能源中，光伏发电技术脱颖而出。在光伏发电技术中硅片是核心元件，而生产太阳能硅片的工序繁多，包括从其前期的硅材料提纯、铸锭、开方、切片，到后期的制绒、扩散、清洗、PECVD镀膜、印刷、烧结等工序，也就是说，在硅锭被切成硅片后，其还要经过很多工序处理才能使其成为有着发电功能的电池片。由于硅片的表面处理需要经过多道镀膜工序以及中间流转过程，现有技术多道镀膜工序之间通常单独进行，多道镀膜工序之间通过独立的设备进行流转及卸载、上料，由于各道工序相对独立运行，其具有如下不足：①多道工序相对独立运行，硅片的周转工序繁琐且自动化程度低；②硅片在各道工序之间周转时，由于体系难以密封而导致硅片容易受到环境污染而导致品控困难；③不同的镀膜产品需要开发专门的镀膜设备，成本投入较高。
技术实现思路
为解决上述技术问题，本技术提供了一种封闭式镀膜系统，包括：设置在封闭室内且相互平行的正表面本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种封闭式镀膜系统，其特征在于，包括：设置在封闭室内且相互平行的正表面镀膜线体及背表面镀膜线体，所述正表面镀膜线体与背表面镀膜线体的两端分别为上下料线体及周转线体；所述上下料线体包括由输送线连接的上料端及下料端，所述上料端对应所述正表面镀膜线体的进料口，所述下料端对应所述背表面镀膜线体的出料口；所述周转线体包括由输送线连接的载板移载机构及硅片翻转机构，所述载板移载机构对应所述正表面镀膜线体的出料口，所述硅片翻转机构对应所述背表面镀膜线体的进料口；所述正表面镀膜线体包括沿输送线依次设置的正表面镀膜腔一、正表面隔离腔、正表面镀膜腔二及正表面卸载腔，所述上料端对应所述正表面镀膜腔一，所述载板移载...

【技术特征摘要】
1.一种封闭式镀膜系统，其特征在于，包括：设置在封闭室内且相互平行的正表面镀膜线体及背表面镀膜线体，所述正表面镀膜线体与背表面镀膜线体的两端分别为上下料线体及周转线体；所述上下料线体包括由输送线连接的上料端及下料端，所述上料端对应所述正表面镀膜线体的进料口，所述下料端对应所述背表面镀膜线体的出料口；所述周转线体包括由输送线连接的载板移载机构及硅片翻转机构，所述载板移载机构对应所述正表面镀膜线体的出料口，所述硅片翻转机构对应所述背表面镀膜线体的进料口；所述正表面镀膜线体包括沿输送线依次设置的正表面镀膜腔一、正表面隔离腔、正表面镀膜腔二及正表面卸载腔，所述上料端对应所述正表面镀膜腔一，所述载板移载机构对应所述正表面卸载腔；所述背表面镀膜线体包括沿输送线依次设置的背表面镀膜腔一、背表面隔离腔、背表面镀膜腔二及背表面卸载腔，所述硅片翻转机构对应所述背表面镀膜腔一，所述下料端对应所述背表面卸载腔。2.根据权利要求1所述的一种封闭式镀膜系统，其特征在于，所述正表面镀膜线体还包括设置在所述正表面镀膜腔一前端输送线上的缓存台及加热腔，所述上料端的出料口对应所述正表面镀膜腔一前端缓存台的进料口。3.根据权利要求2所述的一种封闭式镀膜系统，其特征在于，所述正表面隔离腔包括依次设置在所述正表面镀膜腔一与正表面镀膜腔二之间输送线上的加热腔及缓冲腔。4.根据权利要求3所述的一种封闭式镀膜系统，其特征在于，所述正表面卸载腔前端的输送线上还设置有缓冲腔，所述正表面卸载腔后端的输送线上还设置有缓存台，所述正表面卸载腔后端缓存台的出料口对应所述载板移载机构的进料...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱广东，上官泉元，喻大伟，赵慧超，庄正军，侯岳明，
申请(专利权)人：常州比太科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32