用于调节粒子束显微镜的方法技术

一种用于调节粒子束显微镜的方法，当调节粒子束显微镜时，执行以下步骤：A：将束调节装置设置为第一设置W1，将物镜激励至第一物镜激励值I1，并且记录第一图像；B：将所述束调节装置设置为第二设置W2，并且记录第二图像；C：将所述束调节装置设置为所述第一设置W1，将所述物镜激励至第二物镜激励值I2，并且记录第三图像；D：将所述束调节装置设置为所述第二设置W2，并且记录第四图像；以及E：将所述束调节装置设置为根据这些图像确定的优化的设置Wopt，将所述物镜激励至第三物镜激励值I3＝I1+K*(I2‑I1)，并且记录进一步图像。

A Method for Adjusting Particle Beam Microscope

A method for adjusting particle beam microscopy is described. When adjusting the particle beam microscopy, the following steps are performed: A: setting the beam adjusting device as the first setting W1, exciting the objective to the first objective excitation value I1, and recording the first image; B: setting the beam adjusting device as the second setting W2, and recording the second image; C: setting the beam adjusting device as the first setting. One is to set W 1, excite the objective to the second objective excitation value I2, and record the third image; D: set the beam adjusting device to the second setting W2, and record the fourth image; and E: set the beam adjusting device to the optimized setting Wopt determined by these images, excite the objective to the third objective excitation value I3=I1+K* (I2 I1), and record it. Further images.

【技术实现步骤摘要】
用于调节粒子束显微镜的方法
本专利技术涉及用于调节粒子束显微镜的方法、在这方面尤其涉及调节粒子束相对于粒子束显微镜的物镜的主轴的位置的方法。
技术介绍
粒子束显微镜、比如电子束显微镜或离子束显微镜是必须进行调节以优化操作的复杂的技术系统。调节粒子束显微镜的一个方面涉及相对于物镜来调节指向待检查物体的粒子束，用物镜将粒子束聚焦在物体上。由于物镜的成像像差对粒子束的影响随着粒子穿过物镜的轨迹距物镜主轴的距离而增大，因此希望使穿过物镜的粒子束相对于主轴居中。为此，粒子束显微镜包括束调节装置，该束调节装置被布置在用于产生粒子束的粒子源与物镜之间、并且被设置成以某种方式来操纵或选择粒子束，使得粒子束以相对于物镜主轴居中的方式穿过物镜。典型地以用于调节粒子束显微镜的单独方法来确定对束调节装置的为此必需的设置，以改善粒子束显微镜的效率。从EP2309530B1中已知了用于此目的的常规方法。在这种常规方法(参照EP2309530B1的图2)中，在束调节装置为第一设置并且物镜为第一设置时记录第一图像。接下来，在束调节装置为第一设置并且物镜为第二设置时记录第二图像。接下来，在束调节装置为第二设置并且物镜为第一设置时记录第三图像。接下来，在束调节装置为第二设置并且物镜为第二设置时记录第四图像。由于这些不同的设置，所记录的这四个图像相对于彼此移位。可以通过分析这些图像来确定对应的位移，只要被成像物体足够地结构化。根据所确定的位移来计算束调节装置的优化设置。接下来使用束调节装置的这种优化设置以及物镜的第一设置，来记录高品质图像。希望进一步改善这种方法。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的是提出一种用于相对于粒子束显微镜中的物镜来调节粒子束的方法，该方法将产生比较好的结果。根据本专利技术提出了一种用于调节粒子束显微镜的方法，所述粒子束显微镜包括：用于产生粒子束的粒子源；用于将粒子束聚焦在物体上的物镜；以及被布置在所述粒子源与所述物镜之间的束路径中的束调节装置，并且其中，所述方法包括：以四种不同的设置来设置所述束调节装置和所述物镜并且在每种设置时记录物体的图像、基于这四个图像来确定所述束调节装置的优化设置并且记录所述束调节装置以优化设置进行设置时的至少一个进一步图像。根据示例性实施例，记录这四个图像包括以下措施：措施A：将所述束调节装置设置为第一设置W1，将所述物镜的激励设置为第一物镜激励值I1，并且记录所述物体的第一图像；措施B：将所述束调节装置设置为与所述第一设置W1不同的第二设置W2，将所述物镜的激励设置为所述第一物镜激励值I1，并且记录所述物体的第二图像；措施C：将所述束调节装置设置为第一设置W1，将所述物镜的激励设置为与所述第一物镜激励值I1不同的第二物镜激励值I2，并且记录所述物体的第三图像；措施D：将所述束调节装置设置为第二设置W2，将所述物镜的激励设置为所述第二物镜激励值I2，并且记录所述物体的第四图像。所述方法接下来进一步包括：基于所述第一图像、所述第二图像、所述第三图像、以及所述第四图像来确定所述束调节装置的优化设置Wopt；确定第三物镜激励值I3；并且将所述束调节装置设置为所述优化设置Wopt，将所述物镜的激励设置为所述第三物镜激励值I3，并且记录至少一个进一步图像；其中，确定第三物镜激励值I3，使得满足以下关系：I3＝I1+K*(I2-I1)其中I1是所述第一物镜激励值，I2是所述第二物镜激励值，I3是所述第三物镜激励值，并且K是预定值。在上文解释的常规方法中，在束调节装置的两种不同设置以及物镜的两种不同设置下记录四个图像。物镜的这两种不同设置是通过用于激励物镜的两种不同电流设置而产生。在这种情况下，相继地重复使用所述电流的不同设置。然而，由用于激励物镜的设置电流产生的、用于在给定时刻聚焦粒子束的磁场并不仅取决于在所述时刻设置的所述用于激励物镜的电流、而且还取决于先前历史设置的电流。这是由于磁性物镜的磁滞现象引起的。已经发现，在所述用于相对于物镜调节粒子束的常规方法中，物镜的磁滞现象是实现满足更高要求的优化结果的障碍。因此，在记录这四个图像、确定束调节装置的优化设置Wopt并且将束调节装置设置为优化设置Wopt以记录所述至少一个进一步图像之后，不将物镜的激励再次设置为第一物镜激励值I1、而是设置为根据上述关系确定的第三物镜激励值I3，以考虑物镜的磁滞现象的影响。预定值K取决于物镜的构型、并且可以例如通过实验来确定。如果假设第一物镜激励值之前被设置为准许记录物体的相对好的聚焦图像，则在所述常规方法中将物镜的用于相对于物镜调节粒子束的激励改变成第二物镜激励值、并且接下来再次设置回到第一物镜激励值。由于物镜的磁滞现象，在第二次将物镜的激励设置为第一物镜激励值时出现的磁场与在第一次将物镜的激励设置为第一物镜激励值时设置的磁场不同。然而，所述常规方法假设，相继执行的第一物镜激励值和第二物镜激励值的设置分别得到物镜的聚焦的相同设置。由于这种假设不被满足，因此不能充分地获得希望的调节。另一方面，在此所描述的实施例中执行的将物镜的激励设置为第三物镜激励值(考虑了物镜的磁滞现象)给出了更好的结果。根据进一步的示例性实施例，记录这四个图像的方法包括以下措施：措施A：将所述束调节装置设置为第一设置W1，将所述物镜的激励设置为第一物镜激励值I1，并且记录所述物体的第一图像；以及接下来措施B：将所述束调节装置设置为所述第一设置W1，将所述物镜的激励设置为与所述第一物镜激励值I1不同的第二物镜激励值I2，并且记录所述物体的第二图像；以及接下来措施C：将所述束调节装置设置为与所述第一设置W1不同的第二设置W2，将所述物镜的激励设置为所述第二物镜激励值I2，并且记录所述物体的第三图像；以及接下来措施D：将所述束调节装置设置为所述第二设置W2，将所述物镜的激励设置为与所述第一物镜激励值I1和所述第二物镜激励值12不同的第三物镜激励值I3，并且记录所述物体的第四图像。下文将解释在执行将物镜的激励设置为第三物镜激励值I3之前可以产生第三物镜激励值I3的一种方式。在该情况下，所述方法接下来进一步包括：基于所述第一图像、所述第二图像、所述第三图像、以及所述第四图像来确定所述束调节装置的优化设置Wopt；确定所述第三物镜激励值I3；并且将所述束调节装置设置为所述优化设置Wopt，将所述物镜的激励设置为所述第三物镜激励值I3，并且记录至少一个进一步图像；其中，确定第三物镜激励值I3，使得满足以下关系：I3＝I1+K*(I2-I1)其中I1是所述第一物镜激励值I1，I2是所述第二物镜激励值I2，I3是所述第三物镜激励值I3，并且K是预定值。再一次，在此根据所述指定关系来确定第三物镜激励值，以考虑磁滞现象的影响。在之前解释的方法中，执行了比如措施A至D等措施，这些措施在各自情况下包括设置所述束调节装置、激励所述物镜或甚至其他装置。这些设置措施不仅包括将装置设置为新的、改变的、且之前未设置过的值等措施。而是，这些措施包括将装置设置为使得在执行措施之后，将其设置为所需值，而与在执行所述措施之前被设置为的值无关。因此，尤其可能在此维持先前存在的设置。根据示例性实施例，所述束调节装置可以包括束偏转器，其中，设置所述束调节装置包括设置所述束偏转器的激励。所述束偏转器本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于调节粒子束显微镜的方法，其中，所述粒子束显微镜包括：用于产生粒子束的粒子源；用于将所述粒子束聚焦在物体上的物镜；以及被布置在所述粒子源与所述物镜之间的束路径中的束调节装置，并且其中，所述方法包括以下措施：措施A：将所述束调节装置设置为第一设置(W1)，将所述物镜的激励设置为第一物镜激励值(I1)，并且记录所述物体的第一图像；措施B：将所述束调节装置设置为与所述第一设置(W1)不同的第二设置(W2)，将所述物镜的激励设置为所述第一物镜激励值(I1)，并且记录所述物体的第二图像；措施C：将所述束调节装置设置为所述第一设置(W1)，将所述物镜的激励设置为与所述第一物镜激励值(I1)不同的第二物镜激励值(I2)，并且记录所述物体的第三图像；措施D：将所述束调节装置设置为所述第二设置(W2)，将所述物镜的激励设置为所述第二物镜激励值(I2)，并且记录所述物体的第四图像；并且其中，所述方法还包括：基于所述第一图像、所述第二图像、所述第三图像、以及所述第四图像来确定所述束调节装置的优化设置(Wopt)；确定第三物镜激励值(I3)；并且将所述束调节装置设置为所述优化设置(Wopt)，将所述物镜的激励设置为所述第三物镜激励值(I3)，并且记录至少一个进一步图像；其中，确定所述第三物镜激励值(I3)，使得满足以下关系：I3＝I1+K*(I2‑I1)其中I1是所述第一物镜激励值(I1)，I2是所述第二物镜激励值(I2)，I3是所述第三物镜激励值(I3)，并且K是预定值。...

【技术特征摘要】
2017.11.15 DE 102017220398.61.一种用于调节粒子束显微镜的方法，其中，所述粒子束显微镜包括：用于产生粒子束的粒子源；用于将所述粒子束聚焦在物体上的物镜；以及被布置在所述粒子源与所述物镜之间的束路径中的束调节装置，并且其中，所述方法包括以下措施：措施A：将所述束调节装置设置为第一设置(W1)，将所述物镜的激励设置为第一物镜激励值(I1)，并且记录所述物体的第一图像；措施B：将所述束调节装置设置为与所述第一设置(W1)不同的第二设置(W2)，将所述物镜的激励设置为所述第一物镜激励值(I1)，并且记录所述物体的第二图像；措施C：将所述束调节装置设置为所述第一设置(W1)，将所述物镜的激励设置为与所述第一物镜激励值(I1)不同的第二物镜激励值(I2)，并且记录所述物体的第三图像；措施D：将所述束调节装置设置为所述第二设置(W2)，将所述物镜的激励设置为所述第二物镜激励值(I2)，并且记录所述物体的第四图像；并且其中，所述方法还包括：基于所述第一图像、所述第二图像、所述第三图像、以及所述第四图像来确定所述束调节装置的优化设置(Wopt)；确定第三物镜激励值(I3)；并且将所述束调节装置设置为所述优化设置(Wopt)，将所述物镜的激励设置为所述第三物镜激励值(I3)，并且记录至少一个进一步图像；其中，确定所述第三物镜激励值(I3)，使得满足以下关系：I3＝I1+K*(I2-I1)其中I1是所述第一物镜激励值(I1)，I2是所述第二物镜激励值(I2)，I3是所述第三物镜激励值(I3)，并且K是预定值。2.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述措施B之前或之后执行所述措施A，其中，在所述措施D之前或之后执行所述措施C，并且其中，在所述措施C和D之前执行所述措施A和B。3.一种用于调节粒子束显微镜的方法，其中，所述粒子束显微镜包括：用于产生粒子束的粒子源；用于将所述粒子束聚焦在物体上的物镜；以及被布置在所述粒子源与所述物镜之间的束路径中的束调节装置，并且其中，所述方法包括以下措施：措施A：将所述束调节装置设置为第一设置(W1)，将所述物镜的激励设置为第一物镜激励值(I1)，并且记录所述物体的第一图像；以及接下来措施B：将所述束调节装置设置为所述第一设置(W1)，将所述物镜的激励设置为与所述第一物镜激励值(I1)不同...

【专利技术属性】
技术研发人员：D普雷克斯扎斯，
申请(专利权)人：卡尔蔡司显微镜有限责任公司，
类型：发明
国别省市：德国,DE