【技术实现步骤摘要】
一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置
本技术涉及光学校准
，尤其涉及一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置。
技术介绍
在显微成像中，由于技术的革新和新型成像方式的快速发展，开放式光路的自扩展性越来越好，商业显微镜中也往往伴随结合多种成像手段。但在保证成像分辨率和速度提高的同时，扩展性光路的稳定性也是用户所关注的问题。细微的误差往往会在成像精度上造成潜在影响。同时随着大尺寸面阵CCD图像传感器需求增多，一些新研制的CCD产品中靶面与机械安装定位面往往存在有较大夹角误差的问题，而封装的CCD产品技术说明中也常常未给出相应数据。CCD图像传感器收集进入摄像头的信号并呈现在计算机屏幕上，当CCD图像传感器固定不动时，则出现在计算机屏幕上的是像在焦平面附近的2D图。当CCD图像传感器与定位面有微小的夹角时，所成的图像也会出现微小的失真，对计算像的各项数据产生一定的误差。因此在对成像图像进行各项计算前，往往需要先行进行CCD校准，减小误差。现有的检测CCD靶面与机械安装面夹角的方法多是非接触光学测量方式，焦面测量法，其主要存在的问题为：(1)精确度低。由...
【技术保护点】
1.一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置，其特征在于，所述装置包括照明光源(1)、待测荧光物质(2)、含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)、显微物镜(5)、反射镜(6)、偏振元件组(7)、滤光片(8)、聚束透镜(9)、水平移动轴(10)、成像透镜(11)和CCD图像传感器(13)，所述照明光源(1)、含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)、显微物镜(5)依次同轴设置，所述偏振元件组(7)、滤光片(8)、聚束透镜(9)、成像透镜(11)和CCD图像传感器(13)依次同轴设置，所述待测荧光物质(2)位于含金属层芯片基底(3)上且能够被照明光源(1)发出的照明光...
【技术特征摘要】
1.一种基于泄露辐射成像的CCD靶面安装校准装置，其特征在于，所述装置包括照明光源(1)、待测荧光物质(2)、含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)、显微物镜(5)、反射镜(6)、偏振元件组(7)、滤光片(8)、聚束透镜(9)、水平移动轴(10)、成像透镜(11)和CCD图像传感器(13)，所述照明光源(1)、含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)、显微物镜(5)依次同轴设置，所述偏振元件组(7)、滤光片(8)、聚束透镜(9)、成像透镜(11)和CCD图像传感器(13)依次同轴设置，所述待测荧光物质(2)位于含金属层芯片基底(3)上且能够被照明光源(1)发出的照明光直接辐照到，从而出射荧光，所述荧光透过含金属层芯片基底(3)、折射率匹配油(4)和显微物镜(5)后再经过反射镜(6)反射通过偏振元件组(7)与滤光片(8)，从而过滤掉伴随的照明光，再经过聚束透镜(9)和成像透镜(11)收集信号于CCD图像传感器(13)，所述成像透镜(11)设置于水平移动轴(10)上并能在水平移动轴(10)水平移动。2.根据权利要求1所述的基于泄露辐射成像的...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄学鹍，陈漪恺，周芊江，左苇，沈中华，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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