显示基板的制作方法及显示基板、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置，涉及显示技术领域，以解决由于成膜厚度不均匀所造成的发光不均匀，及避免后续制作过程中阴极层断裂的问题。其中制造方法包括：在衬底基板上形成像素界定层，像素界定层的材料包括电致变形材料，像素界定层包括阻挡坝，阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角≤90°；极化阻挡坝；向阻挡坝施加与极化方向相同的电场，使阻挡坝的侧面中部鼓起，阻挡坝的侧面靠近衬底基板的区域与阻挡坝的底面之间的夹角＞90°；在子像素有效显示区域内形成子像素；向阻挡坝施加与极化方向相反的电场，使阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。上述制造方法应用于诸如有机发光二极管显示装置制作中。

The Manufacturing Method of Display Substrate and Display Substrate and Display Device

【技术实现步骤摘要】
显示基板的制作方法及显示基板、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置。
技术介绍
OLED(OrganicLightEmittingDiode，有机发光二极管)显示屏具有主动发光、高对比度、超轻薄、耐低温、响应速度快、功耗低、视角广、抗震能力强等优点，而且适用于柔性显示和3D显示中，是显示领域的关注焦点。OLED显示基板包括诸如彩色树脂材料形成的子像素，目前对于子像素的制作，主要有两种制作工艺：蒸镀工艺和喷墨打印工艺。喷墨打印工艺的工艺过程较为简单，能够实现大批量生产；同时相对于传统的蒸镀工艺，喷墨打印技术更加精确，尤其是处理大尺寸显示基板时更具优势。如图1所示，喷墨打印工艺制作OLED显示基板时，需要预先在衬底基板1上形成像素界定层2，像素界定层2用于界定出子像素的有效显示区域，使子像素墨水准确流入该有效显示区域。然而，在一些现有技术中存在子像素墨水沿着像素界定层2的侧壁攀爬的现象，导致子像素成膜厚度不均匀，进而引起子像素发光不均匀。在另一些现有技术中，喷墨打印子像素后，后续制程中出现阴极层断裂的问题。
技术实现思路
本专利技术的实施例提供一种显示基板及其制造方法、显示装置，以解决由于子像素成膜厚度不均匀所造成的发光不均匀的问题，同时避免后续制作过程中阴极层断裂。为达到上述目的，本专利技术的实施例采用如下技术方案：第一方面，本专利技术的实施例提供了一种显示基板的制造方法，包括：在衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层的材料包括电致变形材料，所述像素界定层包括用于界定出子像素有效显示区域的阻挡坝，所述阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角小于或等于90°；极化所述阻挡坝，所述阻挡坝的极化方向由所述阻挡坝的底面指向所述阻挡坝的顶面或者由所述阻挡坝的顶面指向所述阻挡坝的底面；向所述阻挡坝施加与所述极化方向相同的电场，使所述阻挡坝的侧面中部鼓起，所述阻挡坝的侧面靠近所述衬底基板的区域与所述阻挡坝的底面之间的夹角大于90°；在所述子像素有效显示区域内形成子像素；向所述阻挡坝施加与所述极化方向相反的电场，使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。在上述显示基板的制作方法中，像素界定层中的阻挡坝的材料包括电致变形材料，对阻挡坝进行极化后，由于电致变形材料的电致变形性质，通过施加并控制阻挡坝的极化方向上的电场，使阻挡坝产生沿其极化方向上的形变：在形成子像素之前，通过对阻挡坝施加与阻挡坝极化方向相同的电场，让阻挡坝产生压缩形变，使阻挡坝的侧面鼓起(即阻挡坝的侧面靠近衬底基板的区域与阻挡坝的底面之间的夹角大于90°)，以限制在制备子像素时子像素墨水沿着阻挡坝的侧面攀爬，从而使子像素的成膜厚度均匀，进而提高了显示装置的发光均匀性；在子像素形成之后，使阻挡坝的侧面鼓起回缩(即阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角小于或等于90°)，以避免后续制作阴极层时阴极层出现断裂，保证了显示装置的有效显示面积不缩小。可选的，在所述形成子像素的步骤之后，还包括对所形成的子像素进行干燥的步骤；在所述对所形成的子像素进行干燥的步骤中，执行所述使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩的步骤。可选的，采用撤去施加在所述阻挡坝上的电场的方式，或者采用向所述阻挡坝施加与所述极化方向相反的电场的方式，使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。可选的，在所述在衬底基板上形成像素界定层的步骤之前，还包括：在所述底基板上形成第一电极层；在向所述阻挡坝施加电场时，将用于提供电场的外接电源的其中一个电压端与所述第一电极层电连接，将所述外界电源的另外一个电压端与所述阻挡坝的顶面电连接。可选的，所述在所述子像素有效显示区域内形成子像素的步骤采用喷墨打印工艺。可选的，在向所述阻挡坝施加与所述极化方向相反的电场的步骤之后，还包括：在所述子像素及所述像素界定层背向所述衬底基板的一侧形成第二电极层。第二方面，本专利技术的实施例提供了一种显示基板，包括设置于所述衬底基板上的像素界定层，所述像素界定层的材料包括电致变形材料；所述像素界定层包括用于界定出子像素有效显示区域的阻挡坝；所述阻挡坝配置为：在形成所述像素界定层的初始状态下，及在所述子像素有效显示区域内形成子像素之后，所述阻挡坝侧面与底面所呈的夹角小于或等于90°；在所述子像素有效显示区域内形成子像素之前及之中，所述阻挡坝的侧面中部鼓起，所述阻挡坝的侧面靠近所述衬底基板的区域与所述阻挡坝的底面之间的夹角大于90°。上述显示基板所能产生的有益效果与第一方面所提供的显示基板的制作方法的有益效果相同，此处不再赘述。可选的，在形成所述像素界定层的初始状态下，及在所述子像素有效显示区域内形成子像素之后，所述阻挡坝的截面的形状为梯形、类梯形或矩形。可选的，所述电致变形材料包括极性高分子材料和二氧化硅气凝胶的复合材料；或者，所述电致变形材料包括二氧化钛和硅橡胶的复合材料。第三方面，本专利技术的实施例提供了一种显示装置，包括第二方面所提供的显示基板。上述显示装置所能产生的有益效果与第二方面所提供的显示基板的有益效果相同，此处不再赘述。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。图1为显示基板的俯视图；图2为现有技术中像素界定层的第一种截面图；图3为现有技术中像素界定层的第二种截面图；图4a～4g为本专利技术实施例所提供的显示基板的第一种制作方法的各步骤图；图5a～5d为本专利技术实施例所提供的显示基板的第二种制作方法的步骤图；图6为本专利技术实施例所提供的阻挡坝的一种截面示意图；图7为本专利技术实施例所提供的阻挡坝的另一种截面示意图。附图标记说明：1-衬底基板；2-像素界定层；21-阻挡坝；3-子像素；4-第一电极层；5-第二电极层；6-阴极层；7-突沿。具体实施方式正如
技术介绍
所述，现有技术中存在子像素墨水沿着像素界定层2的侧壁攀爬的问题，或存在喷墨打印子像素的后续制程中阴极层断裂的问题，本专利技术的专利技术人经研究发现，产生上述问题的原因在于：如图1、2所示，在一些现有技术中，像素界定层2的阻挡坝(bank)的截面形状为正梯形(即阻挡坝截面的相互平行的两条边中，远离衬底基板1的边的长度小于靠近衬底基板1的边的长度)，这样阻挡坝的侧壁坡度较缓，因此在制作子像素3时会出现子像素墨水沿阻挡坝的侧壁攀爬的现象，从而造成子像素3成膜的厚度在靠近阻挡坝的区域与中央区域不一致，导致子像素发光不均匀。如图1、3所示，在另一些现有技术中，将像素界定层2的阻挡坝(bank)设置为截面形状为负梯形(即阻挡坝截面的相互平行的两条边中，靠近衬底基板1的边的长度小于远离衬底基板1的边的长度)，虽然限制了子像素墨水的沿阻挡坝的侧壁攀爬，但在后续制作子像素3上方的阴极层6时，截面形状为负梯形的阻挡坝的侧壁坡度较陡峭，侧壁与顶面所形成的突沿7将造成阴极层6在突沿7处断裂，从而导致显示基板的部分区域断路，显示基板的有效显示面积缩小。若要避免阴极层6断裂，又需要额外增加阴极层6的镀膜厚度。基于上述分析结果，本专利技术的专利技术人提出一种技术方案：使用电致变形材料制作像素界定层，像素界定层的初本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层的材料包括电致变形材料，所述像素界定层包括用于界定出子像素有效显示区域的阻挡坝，所述阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角小于或等于90°；极化所述阻挡坝，所述阻挡坝的极化方向由所述阻挡坝的底面指向所述阻挡坝的顶面或者由所述阻挡坝的顶面指向所述阻挡坝的底面；向所述阻挡坝施加与所述极化方向相同的电场，使所述阻挡坝的侧面中部鼓起，所述阻挡坝的侧面靠近所述衬底基板的区域与所述阻挡坝的底面之间的夹角大于90°；在所述子像素有效显示区域内形成子像素；使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。

【技术特征摘要】
1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：在衬底基板上形成像素界定层，所述像素界定层的材料包括电致变形材料，所述像素界定层包括用于界定出子像素有效显示区域的阻挡坝，所述阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角小于或等于90°；极化所述阻挡坝，所述阻挡坝的极化方向由所述阻挡坝的底面指向所述阻挡坝的顶面或者由所述阻挡坝的顶面指向所述阻挡坝的底面；向所述阻挡坝施加与所述极化方向相同的电场，使所述阻挡坝的侧面中部鼓起，所述阻挡坝的侧面靠近所述衬底基板的区域与所述阻挡坝的底面之间的夹角大于90°；在所述子像素有效显示区域内形成子像素；使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。2.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述形成子像素的步骤之后，还包括对所形成的子像素进行干燥的步骤；在所述对所形成的子像素进行干燥的步骤中，执行所述使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩的步骤。3.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，采用撤去施加在所述阻挡坝上的电场的方式，或者采用向所述阻挡坝施加与所述极化方向相反的电场的方式，使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。4.根据权利要求1所述的显示基板的制作方法，其特征在于，在所述在衬底基板上形成像素界定层的步骤之前，还包括：在所述底基板上形成第一电极层；在向所述阻挡坝施加电场时，将用于提供电场的外接电源的其中一个电压端与所述第一电极层电连接，将所述外接电源的另外一个电压端与所述阻挡坝的顶面电...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡春静，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11