The invention provides an electrode structure and a micro display. The electrode structure comprises a metal electrode and a dielectric layer covering the metal electrode; the dielectric layer comprises a multilayer dielectric layer stacked with two adjacent sub-dielectric layers of materials of the first material and the second material, respectively; the material of the lowest sub-dielectric layer is the first material, and the refractive index of the first material is greater than that of the second material. A dielectric layer with different refractive index materials alternately overlapped on the electrode and keeping the dielectric layer with high dielectric constant can make the metal electrode have high reflectivity and low voltage drop at the same time.
【技术实现步骤摘要】
电极结构及微显示器
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种电极结构及微显示器。
技术介绍
硅基微显示器(MicroDisplay)是将显示器与单晶硅集成电路结合，其明显特征是显示器以制备有CMOS驱动电路的单晶硅芯片为基底，且显示器尺寸非常小，需借助一定的光学系统放大图像信息。CMOS工艺具有低成本、小体积等特点，是集成电路工业的基石。硅基微显示器像素尺寸很小，可以产生更高的显示分辨率，具有广阔的应用前景，可应用于军事、医学、航空航天以及消费电子等领域，特别是穿戴设备、虚拟现实、增强现实等新型应用。目前，硅基为显示技术主要为硅基有机发光二极管(OLED-on-Silicon)微显示技术与硅基液晶(LiquidCrystalonSilicon，LCOS)微显示技术，其中LCOS技术研究较为成熟，在半导体产品领域，有一些特殊应用场景，需要加强金属电极表面的反射率，但又不希望施加到金属电极上的电压受太大影响，一个典型的例子即为上述的微显示器，包括各种反射式微显示器，如LCOS微显示器。LCOS需要很光滑平亮的电极表层，反射率需最高，用铝合金于可见光范围可达93％，若平...
【技术保护点】
1.一种电极结构，其特征在于，包括金属电极(10)以及覆盖所述金属电极(10)上的介质层(20)；所述介质层(20)包括层叠设置的多层子介质层(21)，相邻的两个子介质层(21)的材料分别为第一材料及第二材料，最底层的子介质层(21)的材料为第一材料，且所述第一材料的折射率大于第二材料的折射率。
【技术特征摘要】
1.一种电极结构，其特征在于，包括金属电极(10)以及覆盖所述金属电极(10)上的介质层(20)；所述介质层(20)包括层叠设置的多层子介质层(21)，相邻的两个子介质层(21)的材料分别为第一材料及第二材料，最底层的子介质层(21)的材料为第一材料，且所述第一材料的折射率大于第二材料的折射率。2.如权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述第一材料和第二材料的介电常数均大于10。3.如权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述第一材料的折射率与第二材料的折射率的差值大于0.5。4.如权利要求1所述的电极结构，其特征在于，所述介质层包括层叠设置的五层子介质层(21)，其中第一、第三及第五层子介质层(21)的材料为硅，第二及四层子介质层(21)的材料为二氧化钛。5.一种微显示器，其特征在于，包括：相对设置的硅片(1)及顶板(2)、设于所述硅片(1)及顶板(2)之间的液晶层(3)、设于所述硅片(1)靠近所述顶板(2)的一侧的多个间隔排列的底电极(4)、覆盖所述底电极(4)及硅片(1)的介质层(5)以及设于所述顶板(2)靠近硅片(1)...
【专利技术属性】
技术研发人员：李方红，常嘉兴，
申请(专利权)人：深圳市科创数字显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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