双平面抛光设备的送液及清洗系统技术方案

双平面抛光设备的送液及清洗系统，包括上抛光盘、上抛光垫，上抛光盘上方通过连接杆连接有支撑板，支撑板上设有抛光液储蓄池，上抛光盘上均匀分布着4个呈90°间隔的抛光液出液孔；抛光液出液孔的上端均设有真空发生器，真空发生器内部的真空发生室与抛光液出流管连通，抛光液出流管的另一端与抛光液储蓄池相连通，真空发生器内部设有喷射嘴，喷射嘴的进口处设有节流阀；上抛光盘的转轴为空心轴，支撑板通过轴承与转轴连接，转轴内设有有旋转接头，旋转接头下端与节流阀连接，旋转接头上端通过气管与气源连接。本实用新型专利技术可以在加工过程中快速送液，同时可以快速清洗上下抛光盘机构，清洗速度快，并有效地避免上抛光盘堵塞以及抛光液的沉积。

Liquid feeding and cleaning system of double-plane polishing equipment

The liquid feeding and cleaning system of the double-plane polishing equipment includes the upper polishing plate and the upper polishing pad. The upper polishing plate is connected with a supporting plate through a connecting rod. The supporting plate is equipped with a polishing liquid savings pool. Four polishing liquid outlet holes with a 90 degree interval are evenly distributed on the upper polishing plate. The upper end of the polishing liquid outlet hole is equipped with a vacuum generator, and the vacuum chamber and throwing inside the vacuum generator are arranged. Optical liquid outlet pipe is connected, the other end of polishing liquid outlet pipe is connected with polishing liquid savings pool, the vacuum generator is internally equipped with jet nozzle, and the inlet of jet nozzle is equipped with throttle valve; the rotating shaft of the polishing disk is hollow shaft, the supporting plate is connected with the rotating shaft through bearings, and there are rotating joints in the rotating shaft, the lower end of the rotating joint is connected with the throttle valve, and the upper end of the rotating joint is connected with the throttle Source connection. The utility model can feed liquid quickly in the process of processing, and can quickly clean the upper and lower polishing disc mechanism, with fast cleaning speed, and effectively avoid the blockage of the upper polishing disc and the deposition of polishing fluid.

【技术实现步骤摘要】
双平面抛光设备的送液及清洗系统
本技术涉及超精密加工
，特别是双平面抛光设备的送液及清洗系统。
技术介绍
随着光电子信息产业的快速发展，超精密加工技术也随着相应提高。就实施超精密加工而言，在各种加工方法中，研磨和抛光仍然是最主要的技术手段。目前的双平面抛光设备已经可以加工光学镜面、高形状精度的光学平晶、平行平晶以及具有特定曲率的球面。加工工件的体积在不断变小，但加工的精度要求却在不断提高，这也就要求着相应的设备的结构、功能也要跟着提高。传统双平面抛光设备主要用于两面平行的晶体或其它机械零件进行抛光，特别是薄脆性材料的加工。但是传统的平面抛光机或者是平面研磨机在加工工件的过程中，由于抛光液浓度的变化和未及时清洗抛光盘均会导致抛光液在上抛光盘沉积并堵塞了抛光液的出流口，减小了抛光液流入加工区域的流量，影响工件的抛光效率和加工精度。抛光液加工时会夹带着工件的磨屑一起流动，由于清洁效果不好，抛光液的流动路径上会形成夹带磨屑的沉积物。不同工件的硬度不同，当加工硬度相对较软的工件时，沉积物中的磨屑由于抛光液的冲刷作用进入加工区域，从而导致加工完成的工件表面出现划伤、麻点；并且随着使用时间的增加，抛光液的流动路径上的沉积物增多，造成抛光液的流动不畅、甚至堵塞，减小了抛光液的流入抛光区域的流量，影响工件的抛光效率和加工精度。综上所述，现有的双平面抛光设备的抛光液送液系统有待进一步改进。
技术实现思路
本技术的目的在于为了克服这种传统双平面抛光设备的抛光液堵塞和残留抛光液清洗困难的问题，本技术提供一种双平面抛光设备的送液及清洗系统，本技术有效地解决了上述传统双平面抛光设备中输送抛光液存在的弊端。本技术可以在加工过程中快速送液，同时可以快速清洗上下抛光盘机构，清洗速度快，效果好，并有效地避免上抛光盘堵塞以及抛光液的沉积。本技术的技术方案：双平面抛光设备的送液及清洗系统，包括上抛光盘、以及通过连接剂与上抛光盘连接的上抛光垫，所述上抛光盘上方通过连接杆连接有支撑板，所述支撑板上设有抛光液储蓄池，所述上抛光盘上均匀分布着4个呈90°间隔的抛光液出液孔；所述抛光液出液孔的上端均设有真空发生器，真空发生器内部的真空发生室与抛光液出流管一端相连通，抛光液出流管的另一端与抛光液储蓄池相连通，真空发生器内部设有喷射嘴，喷射嘴的进口处设有节流阀；所述上抛光盘的转轴为空心轴，所述支撑板通过轴承与所述转轴连接，所述转轴内设有旋转接头，所述旋转接头下端与节流阀连接，所述旋转接头上端通过设置在转轴内的气管连接；所述气管通过转轴上的通孔从其内部伸出与气源连接。与现有技术相比，本技术有效地解决了上述传统双平面抛光设备中输送抛光液存在的弊端。通过真空发生器和节流阀的共同作用，将并存在真空发生器内部真空发生室中气体与抛光液混合，形成气液混合物，气液混合物的速度快，动能大，可以完成快速送液的同时冲刷抛光液输送路径的内壁，从而不易堵塞和形成沉积物，在提高抛光液的利用率的同时又可以提高工件的加工精度；待加工结束以后，只要在液体储蓄池更换清洗液体，以同样的方式，可以快速清洗上下抛光盘残留的抛光液，清洁效果好，实施方便；同时本技术通过内设管路将部件连接，充分利用传统上抛光盘和支撑板间的空间，保证结构简单的同时，使抛光液输送路径更短，一定程度上缩短了送液时间。作为优化，所述上抛光盘上，在抛光液出液孔的外侧设有抛光液回流孔，所述抛光液回流孔的上端设有抛光液回流杯。所述抛光液回流杯可以收集槽口内多余的抛光液，防止抛光液的浪费；当抛光液流量不足时，抛光液回流杯中的抛光液可以回流到加工区域，可以提高工件的精度和抛光液的利用率。作为优化，所述抛光液出液孔和所述抛光液回流孔为上大下小的阶梯状通孔；所述抛光液出液孔的小孔部分与真空发生器的出流口大小相同；所述抛光液回流孔的小孔部分与抛光液回流的出流口大小相同。阶梯状通孔可以使安装在上抛光盘上的真空发生器和抛光液回流杯更加稳定、牢固；并且所述结构可以避免抛光液残留在阶梯面上，造成堵塞或者沉积物。作为优化，所述抛光液回流杯的容积大于所述真空发生器内部的真空发生室的容积。实验表明，所述容积的抛光液回流杯可以保证杯内收集的抛光液发生溢出的情况，从而导致浪费和清洁上的问题。作为优化，所述的上抛光垫上设有内矩形状槽和外矩形状槽，所述内矩形状槽和外矩形状槽的四角通过连接槽连通；四个抛光液出液孔的下端分别位于内矩形状槽的四角处与内矩形状槽连通；四个抛光液回流孔的下端分别位于外矩形状槽的四角处与外矩形状槽连通。当抛光液达到上抛光垫的槽口内时，由于上抛光垫的和下抛光垫在紧贴在一起，抛光液留在槽口内一段时间，保证有充足抛光液的加工环境，提高了加工精度。同时所述形式的分布方式，在上下抛光盘带动上下抛光垫旋转的过程中，通过连通的外矩形状槽和内矩形状槽可以使槽口中的抛光液可以均匀地扩散到上下加工区域，使抛光液的利用效率最大化，并进一步提高工件的精度。附图说明图1是传统双平面抛光设备的立体结构示意图；图2是本技术的双平面抛光设备的送液及清洗系统的立体结构示意图；图3是具有本技术的送液及清洗系统的双平面抛光设备的立体结构示意图；图4是本技术的送液及清洗系统的上抛光盘的孔位分布示意图；图5是本技术的双平面抛光设备的送液及清洗系统的上抛光垫的俯视视图；附图中的标记为：1-转轴；2-气管；3-抛光液储蓄池；4-支撑板；5-支撑杆；6-旋转接头；7-节流阀；8-喷射嘴；9-抛光液出流管；10-真空发生器；11-抛光液回流杯；12-上抛光盘；121-抛光液出液孔；122-抛光液回流孔；13-上抛光垫；131-内矩形状槽；132-外矩形状槽；133-连接槽；14-行星轮保持架；15-工件；16-下抛光盘；17-下抛光垫。具体实施方式下面结合附图和具体实施方式(实施例)对本技术作进一步的说明，但并不作为对本技术限制的依据。如图2所示，双平面抛光设备的送液及清洗系统，包括上抛光盘12、以及通过连接剂与上抛光盘12连接的上抛光垫13，所述上抛光盘12上方通过连接杆5连接有支撑板4，所述支撑板4上设有抛光液储蓄池3，所述上抛光盘12上均匀分布着4个呈90°间隔的抛光液出液孔121；所述抛光液出液孔121的上端均设有真空发生器10，真空发生器10内部的真空发生室与抛光液出流管9一端相连通，抛光液出流管9的另一端与抛光液储蓄池3相连通，真空发生器10内部设有喷射嘴8，喷射嘴8的进口处设有节流阀7；所述上抛光盘12的转轴1为空心轴，所述支撑板4通过轴承与所述转轴1连接，所述转轴1内设有旋转接头6，所述旋转接头6下端与节流阀7连接(由于节流阀有4个，所以所述旋转接头6下端为四通结构)，所述旋转接头6上端通过设置在转轴1内的气管2连接；所述气管2通过转轴1上的通孔从其内部伸出与气源连接。所述上抛光盘12上，在抛光液出液孔121的外侧设有抛光液回流孔122，所述抛光液回流孔122的上端设有抛光液回流杯11。所述抛光液出液孔121和所述抛光液回流孔122为上大下小的阶梯状通孔；所述抛光液出液孔121的小孔部分与真空发生器10的出流口大小相同；所述抛光液回流孔122的小孔部分与抛光液回流杯11的出流口大小相同。所述抛光液回本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.双平面抛光设备的送液及清洗系统，包括上抛光盘(12)、以及通过连接剂与上抛光盘(12)连接的上抛光垫(13)，所述上抛光盘(12)上方通过连接杆(5)连接有支撑板(4)，所述支撑板(4)上设有抛光液储蓄池(3)，其特征在于：所述上抛光盘(12)上均匀分布着4个呈90°间隔的抛光液出液孔(121)；所述抛光液出液孔(121)的上端均设有真空发生器(10)，真空发生器(10)内部的真空发生室与抛光液出流管(9)一端相连通，抛光液出流管(9)的另一端与抛光液储蓄池(3)相连通，真空发生器(10)内部设有喷射嘴(8)，喷射嘴(8)的进口处设有节流阀(7)；所述上抛光盘(12)的转轴(1)为空心轴，所述支撑板(4)通过轴承与所述转轴(1)连接，所述转轴(1)内设有旋转接头(6)，所述旋转接头(6)下端与节流阀(7)连接，所述旋转接头(6)上端通过设置在转轴(1)内的气管(2)连接；所述气管(2)通过转轴(1)上的通孔从其内部伸出与气源连接。

【技术特征摘要】
1.双平面抛光设备的送液及清洗系统，包括上抛光盘(12)、以及通过连接剂与上抛光盘(12)连接的上抛光垫(13)，所述上抛光盘(12)上方通过连接杆(5)连接有支撑板(4)，所述支撑板(4)上设有抛光液储蓄池(3)，其特征在于：所述上抛光盘(12)上均匀分布着4个呈90°间隔的抛光液出液孔(121)；所述抛光液出液孔(121)的上端均设有真空发生器(10)，真空发生器(10)内部的真空发生室与抛光液出流管(9)一端相连通，抛光液出流管(9)的另一端与抛光液储蓄池(3)相连通，真空发生器(10)内部设有喷射嘴(8)，喷射嘴(8)的进口处设有节流阀(7)；所述上抛光盘(12)的转轴(1)为空心轴，所述支撑板(4)通过轴承与所述转轴(1)连接，所述转轴(1)内设有旋转接头(6)，所述旋转接头(6)下端与节流阀(7)连接，所述旋转接头(6)上端通过设置在转轴(1)内的气管(2)连接；所述气管(2)通过转轴(1)上的通孔从其内部伸出与气源连接。2.根据权利要求1所述的双平面抛光设备的送液及清洗系统，其特征在于：所述上抛光盘(12)上，在抛光液出液孔(12...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁巨龙，邓乾发，王金虎，王加才，张万辉，陈芝向，
申请(专利权)人：杭州智谷精工有限公司，
类型：新型
国别省市：浙江,33