A fingerprint recognition structure of a display screen includes a fingerprint module, a substrate layer, an organic light-emitting layer and a surface layer. The substrate layer is arranged on the fingerprint module, and a hollow space is defined between the substrate layer and the fingerprint module. The substrate layer is provided with a plurality of anti-total reflection structures on one side of the fingerprint module. On the substrate layer, above the organic light-emitting layer on the surface layer, if total reflection occurs on the conical surface, only partial reflection occurs on the other side, which is equivalent to changing part of total reflection to partial reflection, i.e., increasing the percentage of transmitted light, so that the fingerprint module can receive it. The brightness also increases to increase the sensitivity of the fingerprint module.
【技术实现步骤摘要】
显示屏的指纹识别结构
本专利技术涉及指纹识别结构的
,特别是涉及一种AMOLED屏下灵敏的显示屏指纹识别结构。
技术介绍
目前市面上已经出现具有搭载屏下光学指纹识别功能的手机,AMOLED(ActiveMatrixOrganicLightEmittingDiode)发出的光指经表面层指纹反射到达屏背面,再由指纹模组接收并形成指纹图像,从而进行识别指纹动作。现有的指纹识别结构在AMOLED基材平整的底部还会存在有一次反射,其中入射角较小的会发生部分反射,而入射角达到全反射条件的则会发生全反射,且其中以全反射的影响最大,会极大地减少了屏下指纹模组能够接收到的光亮度,从而影响指纹识别的灵敏度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种显示屏的指纹识别结构,包括一指纹模组、一基材层、一有机发光层与一表面层;其中,所述基材层设置在所述指纹模组上,所述基材层与所述指纹模组之间界定出一镂空空间,所述基材层面向所述指纹模组的一侧上设有复数个抗全反射结构;所述有机发光层设置在所述基材层上;所述表面层设置上所述有机发光层的上方;由此每一束穿过圆锥结构的光入射到圆锥表面时,如果发生全反射,则会在另一侧只发生部分反射,相当于将一部分全反射光改变为部分反射光,即增加了透射光的百分比,使指纹模组能够接收到的光亮度也随之增加,藉以增加指纹模组的灵敏度。在一些实施例中,其中,所述抗全反射结构为圆锥凸出结构。在一些实施例中,其中,所述有机发光层上设置一透明阴极层。在一些实施例中,其中,所述透明阴极层上设置一保护层。在一些实施例中,其中,所述保护层与所述表面层之间设有复数个中间层。在一些 ...
【技术保护点】
1.一种显示屏的指纹识别结构,其包括:一指纹模组;一基材层;所述基材层设置在所述指纹模组上,所述基材层与所述指纹模组之间界定出一镂空空间,所述基材层面向所述指纹模组的一侧上设有复数个抗全反射结构;一有机发光层,所述有机发光层设置在所述基材层上;以及,一表面层,所述表面层设置上所述有机发光层的上方。
【技术特征摘要】
1.一种显示屏的指纹识别结构,其包括:一指纹模组;一基材层;所述基材层设置在所述指纹模组上,所述基材层与所述指纹模组之间界定出一镂空空间,所述基材层面向所述指纹模组的一侧上设有复数个抗全反射结构;一有机发光层,所述有机发光层设置在所述基材层上;以及,一表面层,所述表面层设置上所述有机发光层的上方。2.根据权利要求1所述的显示屏的指纹识别结构,其中,所述抗全反射结构为圆锥凸出结构。3.根据权利要求1所述的显示屏的指纹识别结构,其中,所述有机发光层上设置一透明阴极层。4.根据权利要求3所述的显示屏的指纹识别结构,其中,所述透明阴极层上设置一保护层。5.根据权利要求4所述的显示屏的指纹识别结构,其中,所述保护层与所述表面层...
【专利技术属性】
技术研发人员:马亚龙,戴其兵,邓义超,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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