一种植物修复砷污染土壤的方法技术

本发明专利技术提供了一种植物修复砷污染土壤的方法。该方法包括如下步骤：将寸草苔移栽至砷污染过的土壤上。其中，所述土壤中砷的浓度低于100mg/kg。本发明专利技术使用寸草苔进行砷污染土壤的修复，寸草苔根茎发达、分蘖力强、生长讯速、耐旱、耐土壤贫瘠，而且其耐反复收割，只需栽种一次即可通过地下部不断的长出根茎而繁殖出许多新植株；寸草苔耐砷，可以将土壤中的砷通过根系吸收转移到地上部，可通过收割地上部以控制土壤中砷含量在安全水平。

【技术实现步骤摘要】
一种植物修复砷污染土壤的方法
本专利技术土壤修复
，更具体地，涉及一种植物修复砷污染土壤的方法。
技术介绍
我国砷污染主要源于金属冶炼、大气沉降、矿产开采、玻璃生产脱色、农药和化肥不合理使用等，有研究表明砷在土壤中的存在时间可达1000-3000年，砷可以通过饮用水、食物摄取而进入人体，在毛发、皮肤、脏器中积累，破坏人体免疫功能，打乱人体代谢平衡，导致中枢神经系统紊乱，此外，砷还导致人体畸形和智力障碍，严重可导致死亡。据世卫组织公布，我国湖南、内蒙、台湾、山西局部地区受高砷污染危害。目前修复砷污染的物理方法主要采用热处理方法，通过热处理将土壤中的砷挥发出来，但是此方法投资大、费用高，并不适合大面积砷修复。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种植物修复砷污染土壤的方法。该方法包括如下步骤：将寸草苔移栽至砷污染过的土壤上。寸草苔(carexduriuscula)为多年生草本植物，广泛分布于黑龙江、吉林、辽宁、内蒙古、河北、山西、陕西、甘肃、宁夏和新疆等省(区)，其根茎发达、分蘖力强、生长讯速、耐旱、耐土壤贫瘠，而且其耐反复收割，申请人研究发现，寸草苔对砷污染土壤具有耐性，因此，在本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种植物修复砷污染土壤的方法，其特征在于，包括如下步骤：将寸草苔移栽至砷污染过的土壤上。

【技术特征摘要】
1.一种植物修复砷污染土壤的方法，其特征在于，包括如下步骤：将寸草苔移栽至砷污染过的土壤上。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述土壤中砷的浓度低于100mg/kg。3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述土壤中砷的浓度不高于50mg/kg。4.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述土壤中砷的浓度为20～50mg/kg。5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其特征在于，所述移栽的株距为3～10cm。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其特征在于，所述移栽的株距优选为5～7cm。7...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈立平，侯佩臣，王成，周亚男，董宏图，
申请(专利权)人：北京农业智能装备技术研究中心，
类型：发明
国别省市：北京,11