【技术实现步骤摘要】
光学元件位相型缺陷测量装置
本技术涉及光学元件，特别是一种光学元件位相型缺陷测量装置。
技术介绍
在光学元件中位相型缺陷是常见的缺陷之一，其振幅透过率均匀，仅对光束相位进行调制，会导致光束会聚，在大功率激光作用下光学元件易损伤，影响激光系统的输出能力及性能的进一步提升。因此开展光学元件位相型缺陷的检测技术研究，准确评价光学元件是否存在位相型缺陷，指导相关制造加工工艺的改进，提升光学元件抗激光损伤性能是很必要的。基于双点干涉法的位相型缺陷检测技术(参见在先技术1，戚子文、刘炳国、张仲海等，双点干涉法位相型缺陷检测中的解相算法比较，中国光学，9(4)，2016)主要采用两个单模光纤分别提供参考光和测试光。不放置光学元件时，两光束发生双缝干涉，形成等间距条纹；当放置待测光学元件时，参考光通过不含位相型缺陷的部分，测试光通过存在位相型缺陷的部分，根据干涉条纹的变化获得缺陷引入的相位分布。该方法主要基于传统干涉测量原理，难以实现较小尺度位相型缺陷的高分辨测量，抗干扰能力差。基于优化改进横向剪切干涉和数字全息的缺陷检测技术(参见在先技术2，[Kwang-BeomSeoandS...
【技术保护点】
1.一种光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于包括激光光源(1)，沿该激光光源(1)光束的传播方向依次是样品台(2)、显微放大系统(3)、分光系统(4)和探测系统(5)；所述的激光光源(1)提供准平行光；所述的样品台(2)供待测光学元件(6)置放及其位置及角度调节，使所述的待测光学元件(6)处于所述的显微放大系统(3)的物方视场上；所述的显微放大系统(3)用于放大待测光学元件(6)的测试区域；所述的分光系统(4)包括光栅(401)，所述的光栅(401)置于光栅位移控制台(402)上并处于所述的显微放大系统(3)和探测器(5)之间；所述的探测系统(5)包括探测器(501)，所...
【技术特征摘要】
1.一种光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于包括激光光源(1)，沿该激光光源(1)光束的传播方向依次是样品台(2)、显微放大系统(3)、分光系统(4)和探测系统(5)；所述的激光光源(1)提供准平行光；所述的样品台(2)供待测光学元件(6)置放及其位置及角度调节，使所述的待测光学元件(6)处于所述的显微放大系统(3)的物方视场上；所述的显微放大系统(3)用于放大待测光学元件(6)的测试区域；所述的分光系统(4)包括光栅(401)，所述的光栅(401)置于光栅位移控制台(402)上并处于所述的显微放大系统(3)和探测器(5)之间；所述的探测系统(5)包括探测器(501)，所述的探测器(501)置于探测器位移控制台(502)上并处于所述的分光系统(4)后方。2.根据权利要求1所述的光...
【专利技术属性】
技术研发人员：李杰，许乔，李亚国，巴荣声，张霖，周信达，郑垠波，丁磊，柴立群，
申请(专利权)人：中国工程物理研究院激光聚变研究中心，
类型：新型
国别省市：四川,51
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