带电装置、图像形成装置及其用的单元、及处理盒制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种清扫性能的长期维持性优异的带电装置、图像形成装置及其用的单元、及处理盒。带电装置包括：带电构件，使被带电体带电；以及清扫构件，与所述带电构件的表面接触地配置，以清扫所述带电构件的表面。所述清扫构件具有：芯体，以及两个发泡弹性层，在所述芯体的外周面，自所述芯体的一端至另一端在轴向上相邻地配置成双螺旋状，且所述两个发泡弹性层包括：第一发泡弹性层，具有较所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm小的平均骨架直径D1；以及第二发泡弹性层，具有为所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm以上的平均骨架直径D2。

【技术实现步骤摘要】
带电装置、图像形成装置及其用的单元、及处理盒
本专利技术涉及一种带电装置、图像形成装置及其用的单元、及处理盒。
技术介绍
利用电子照相方式的图像形成是通过带电及曝光而在感光体表面形成静电潜像，并利用带电的色粉对静电潜像进行显影而形成色粉图像，将色粉图像转印到纸等记录介质上并进行定影，由此形成图像。在进行所述图像形成的图像形成装置内，除进行带电、曝光、转印等各步骤的构件以外，还搭载有用以清扫这些构件的表面的清扫构件。例如，在专利文献1中公开了一种带电装置，包括：带电构件，使被带电体带电；以及清扫构件，与所述带电构件的表面接触地配置，以清扫所述带电构件的表面，所述清扫构件包括：芯体；发泡弹性层，在所述芯体的外周面，自所述芯体的一端至另一端，长度方向端部的一侧或两侧经连结的两条以上的长条状发泡弹性构件卷绕成螺旋状地配置；以及接着层，用以将所述芯体与所述发泡弹性层接着。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2013-152492号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的问题]本专利技术的课题在于提供一种带电装置，包括：具有两个发泡弹性层的清扫构件，所述两个发泡弹性层在芯体的外周面自芯体的一端至另一端在轴向上相邻地配置成双螺旋状，所述带电装置与包括两个发泡弹性层的平均骨架直径相同的清扫构件的情况相比，清扫性能的长期维持性优异。[解决问题的技术手段]用以解决所述课题的具体手段包含下述形态。技术方案1的专利技术为一种带电装置，包括：带电构件，使被带电体带电；以及清扫构件，与所述带电构件的表面接触地配置，以清扫所述带电构件的表面，其中，所述清扫构件包括：芯体，以及两个发泡弹性层，在所述芯体的外周面，自所述芯体的一端至另一端在轴向上相邻地配置成双螺旋状，且所述两个发泡弹性层包括：第一发泡弹性层，具有较所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm小的平均骨架直径D1；以及第二发泡弹性层，具有为所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm以上的平均骨架直径D2。技术方案2的专利技术为根据技术方案1所述的带电装置，其中，所述第二发泡弹性层的平均骨架直径D2相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为1.2倍以上、3.2倍以下。技术方案3的专利技术为根据技术方案2所述的带电装置，其中，所述第二发泡弹性层的平均骨架直径D2相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为1.5倍以上、2.0倍以下。技术方案4的专利技术为根据技术方案1至3中任一项所述的带电装置，其中，所述第一发泡弹性层的平均骨架直径D1相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为0.3倍以上、0.8倍以下。技术方案5的专利技术为根据技术方案4所述的带电装置，其中，所述第一发泡弹性层的平均骨架直径D1相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为0.5倍以上、0.7倍以下。技术方案6的专利技术为根据技术方案1所述的带电装置，其中，所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm为50μm以上、300μm以下。技术方案7的专利技术为根据技术方案6所述的带电装置，其中，所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm为70μm以上、250μm以下。技术方案8的专利技术为根据技术方案1所述的带电装置，其中，所述第一发泡弹性层的厚度与所述第二发泡弹性层的厚度不同。技术方案9的专利技术为根据技术方案8所述的带电装置，其中，所述第一发泡弹性层及所述第二发泡弹性层中，相对于其中一方的厚度，另一方的厚度超过1倍且为1.2倍以下。技术方案10的专利技术为一种处理盒，包括：根据技术方案1所述的带电装置，且所述处理盒在图像形成装置中拆装。技术方案11的专利技术为一种图像形成装置，包括：电子照相感光体；根据技术方案1所述的带电装置，使所述电子照相感光体的表面带电；静电潜像形成装置，在带电的所述电子照相感光体的表面形成静电潜像；显影装置，利用包含色粉的显影剂对形成于所述电子照相感光体的表面的静电潜像进行显影，以形成色粉图像；以及转印装置，将所述色粉图像转印到记录介质的表面。技术方案12的专利技术为一种图像形成装置用的单元，包括：被清扫构件；以及清扫构件，与所述被清扫构件的表面接触地配置，以清扫所述被清扫构件的表面，其中，所述清扫构件包括：芯体，以及两个发泡弹性层，在所述芯体的外周面，自所述芯体的一端至另一端在轴向上相邻地配置成双螺旋状，且所述两个发泡弹性层包括：第一发泡弹性层，具有较所述被清扫构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm小的平均骨架直径D1；以及第二发泡弹性层，具有为所述被清扫构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm以上的平均骨架直径D2。技术方案13的专利技术为一种处理盒，至少包括：根据技术方案12所述的图像形成装置用的单元，且所述处理盒在图像形成装置中拆装。技术方案14的专利技术为一种图像形成装置，包括：根据技术方案12所述的图像形成装置用的单元。[专利技术的效果]根据技术方案1的专利技术，提供一种带电装置，与包括所述两个发泡弹性层的平均骨架直径相同的清扫构件的情况相比，可长期维持清扫性能。根据技术方案2的专利技术，提供一种带电装置，与所述第二发泡弹性层的平均骨架直径D2相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而未满1.2倍或超过3.2倍的情况相比，可长期维持清扫性能。根据技术方案3的专利技术，提供一种带电装置，与所述第二发泡弹性层的平均骨架直径D2相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而未满1.5倍或超过2.0倍的情况相比，可长期维持清扫性能。根据技术方案4的专利技术，提供一种带电装置，与所述第一发泡弹性层的平均骨架直径D1相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而未满0.3倍或超过0.8倍的情况相比，可长期维持清扫性能。根据技术方案5的专利技术，提供一种带电装置，与所述第一发泡弹性层的平均骨架直径D1相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而未满0.5倍或超过0.7倍的情况相比，可长期维持清扫性能。根据技术方案6或7的专利技术，提供一种带电装置，其与所述带电构件的凹凸的平均间隔Sm未满50μm、超过300μm的情况相比，可抑制带电性能的降低。根据技术方案8、9、10、11、12、13或14的专利技术，提供一种处理盒、图像形成装置、或图像形成装置用的单元，它们与包括所述两个发泡弹性层的平均骨架直径相同的清扫构件的情况相比，抑制被清扫构件(带电构件等)的因清扫不良而引起的性能降低。附图说明图1是表示清扫构件的一例的概略立体图。图2是表示清扫构件的一例的概略平面图。图3是表示清扫构件的一例中的两个发泡弹性层的放大剖面图。图4是表示清扫构件的另一例中的两个发泡弹性层的放大剖面图。图5A是表示清扫构件的制造方法的一例的步骤图。图5B是表示清扫构件的制造方法的一例的步骤图。图5C是表示清扫构件的制造方法的一例的步骤图。图6是表示本实施方式的图像形成装置的一例的概略构成图。图7是表示本实施方式的处理盒的一例的概略构成图。图8是将图6及图7中的带电装置的周边部分放大而成的概略构成图。[符号的说明]10：图像形成装置；12：感光体；14：带电构件；14A：导电性芯体；14B：发泡弹性层；16：曝光装置；18Y、18M、18C、18K：处理盒；19、19Y、19M、19C、19K：显影装置；20：纸张搬送带；22：转印构件；24：记录用纸；28：纸张收纳容器；本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种带电装置，其特征在于，包括：带电构件，使被带电体带电；以及清扫构件，与所述带电构件的表面接触地配置，以清扫所述带电构件的表面，其中，所述清扫构件包括：芯体；以及两个发泡弹性层，在所述芯体的外周面，自所述芯体的一端至另一端在轴向上相邻地配置成双螺旋状，且所述两个发泡弹性层包括：第一发泡弹性层，具有较所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm小的平均骨架直径D1；以及第二发泡弹性层，具有为所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm以上的平均骨架直径D2。

【技术特征摘要】
2017.09.27 JP 2017-1859841.一种带电装置，其特征在于，包括：带电构件，使被带电体带电；以及清扫构件，与所述带电构件的表面接触地配置，以清扫所述带电构件的表面，其中，所述清扫构件包括：芯体；以及两个发泡弹性层，在所述芯体的外周面，自所述芯体的一端至另一端在轴向上相邻地配置成双螺旋状，且所述两个发泡弹性层包括：第一发泡弹性层，具有较所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm小的平均骨架直径D1；以及第二发泡弹性层，具有为所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm以上的平均骨架直径D2。2.根据权利要求1所述的带电装置，其特征在于，所述第二发泡弹性层的平均骨架直径D2相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为1.2倍以上、3.2倍以下。3.根据权利要求2所述的带电装置，其特征在于，所述第二发泡弹性层的平均骨架直径D2相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为1.5倍以上、2倍以下。4.根据权利要求1至3中任一项所述的带电装置，其特征在于，所述第一发泡弹性层的平均骨架直径D1相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为0.3倍以上、0.8倍以下。5.根据权利要求4所述的带电装置，其特征在于，所述第一发泡弹性层的平均骨架直径D1相对于所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm而为0.5倍以上、0.7倍以下。6.根据权利要求1所述的带电装置，其特征在于，所述带电构件的表面中的凹凸的平均间隔Sm为50μm以上、300μm以下。7.根据权利要求6所述的带电装置，其特征在于，所述带电构件的表面中的凹凸...

【专利技术属性】
技术研发人员：沟口聡，加纳富由树，
申请(专利权)人：富士施乐株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP