在制造挠曲件时使用的工艺试件制造技术

技术编号:20761745 阅读:46 留言:0更新日期:2019-04-03 13:39
描述了使用工艺试件制造诸如挠曲件的器件的系统和方法。该方法包括对试件的至少一个特征执行测试,该试件被包括在制造挠曲件时所使用的组件片上。该至少一个特征通过用于生产挠曲件的一部分的制造工艺步骤生产而成。并且,该特征的物理特性包括与该部分的物理特性不同的至少一个物理特性。该方法还包括基于所执行的测试确定该制造工艺步骤是否会生产具有异常部分的挠曲件。另外,该方法包括调节该制造工艺步骤并且使用经调节的制造工艺步骤来制造挠曲件的一部分。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】在制造挠曲件时使用的工艺试件相关申请的交叉引用本申请要求于2017年5月18日提交的美国专利申请No.15/598,909的优先权,并且进一步要求于2016年5月18日提交的美国临时专利申请No.62/338,118的权益,这些专利文献中的每篇都通过引用整体并入本文。
本专利技术的实施例总体上涉及制造技术。更具体地,本专利技术的实施例涉及在制造挠曲件时使用的试件。
技术介绍
挠曲件大体包括弹簧金属基层(例如,不锈钢(“SST”))、在该基层一侧上的导电迹线层(例如,铜(Cu)),该导电迹线层通过绝缘层(例如,电介质)而与该基层隔开。绝缘覆盖层可被施加在该导电层的全部或部分上。诸如金(Au)和/或镍(Ni)的耐腐蚀金属可被镀覆或以其它方式施加到迹线层的一部分,以提供耐腐蚀性。可以使用常规的加成沉积和/或减成工艺,来制造根据本公开的实施例的挠曲件,所述工艺诸如为湿法(例如,化学)和干法(例如,等离子体)蚀刻、电镀和化学镀以及与光刻蚀法相关的溅射工艺(例如,使用图案化和/或非图案化的光刻蚀掩模)。术语“形成”可在本申请中用于描述这些工艺中的一个或多个。另外,机械方法(例如,使用冲头和弯曲装本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于制造挠曲件的方法,所述方法包括:对试件的至少一个特征执行测试,所述试件被包括在制造挠曲件时所使用的组件片上,所述至少一个特征通过用于生产挠曲件的一部分的制造工艺步骤生产而成,所述特征的物理特性包括与所述部分的物理特性不同的至少一个物理特性;基于所执行的测试确定所述制造工艺步骤是否会生产出具有异常部分的挠曲件;对所述制造工艺步骤进行调节;以及使用经调节的制造工艺步骤制造挠曲件的一部分。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.05.18 US 62/338,1181.一种用于制造挠曲件的方法,所述方法包括:对试件的至少一个特征执行测试,所述试件被包括在制造挠曲件时所使用的组件片上,所述至少一个特征通过用于生产挠曲件的一部分的制造工艺步骤生产而成,所述特征的物理特性包括与所述部分的物理特性不同的至少一个物理特性;基于所执行的测试确定所述制造工艺步骤是否会生产出具有异常部分的挠曲件;对所述制造工艺步骤进行调节;以及使用经调节的制造工艺步骤制造挠曲件的一部分。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述物理特性与以下项中的至少一项相关联:尺寸、高度、厚度、宽度、直径、导电性、电阻、反射率、粘附性、侧斜,以及颜色。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述测试对以下项中的至少一项进行测量:所述至少一个特征的尺寸、高度、厚度、宽度、直径、导电性、电阻、反射率、粘附性、侧斜和颜色。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述测试包括以下项中的至少一项:视觉测试、电气测试、光谱测试,以及白光干涉仪测试。5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述至少一个特征包括以下项中的至少一项的变化尺寸:多个圆点、多个圆孔、多个横向矩形、多个横向矩形槽、多个纵向矩形、多个纵向矩形槽、配准层、星形图案、多个接地特征,以及螺旋形导体。6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述至少一个特征包括具有一系列不同尺寸的一组类似特征。7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述一组类似特征是以下项中的至少一项:一组孔、具有一系列不同直径的一组点、具有一系列不同宽度的一组横向矩形、具有一系列不同宽度的一组横向矩形槽、具有一系列不同宽度的一组纵向矩形,以及具有一系列不同宽度的一组纵向矩形槽。8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述制造工艺步骤包括以下项中的至少一项:施加介电层、施加导电层、施加背衬层、蚀刻基层、蚀刻介电层、蚀刻导电层,以及蚀刻背衬层。9.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述测试在以下制造步骤中的至少一个步骤之前或之后执行:施加介电层、施加导电层、施加背衬层、蚀刻基层、蚀刻介电层、蚀刻导电层,以及蚀刻背衬层。10.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,调节所述制造工艺步骤包括以下项中的至少一项:调节输送机速度、调节歧管压力、调节化学浓度、调节化学温度、调节焙烤温度,以及调节固化温度。11.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述试件邻近于以下项中的至少一项形成:所述组件片的边缘部、在一行挠曲件之间、在一列挠曲件之间,以及在所述组件片的载体条上。12.一种用于确定挠曲件的异常的方法,所述方法包括:接收包括挠曲件的所形成部分以及所形成的试件的组件片,所述所形成的试件包括至少一个特征,并且所述特征的物理特性包括与所述部分的物理特性不同的至少一个物理特性;对所述至少一个特征执行测试;以及基于所执行的测试确定所述所形成部分是否包括异常。13.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述物理特性与以下项中的至少一项相关联:尺寸、高度、厚度、宽度、直径、导电性、电阻、反射率、粘附性、侧斜,以及颜色。14.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述测试对以下项中的至少一项进行测量:所述至少一个特征的尺寸、高度、厚度、宽度、直径、导电性、电阻、反射率、粘附性、侧斜和颜色。15.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述测试包括以下项中的至少一项:视觉测试、电气测试、光谱测试,以及白光干涉仪测试。16.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述至少一个特征包括以下项中的至少一项的变化尺寸:多个圆点、多个圆孔、多个横向矩形、多个横向矩形槽、多个纵向矩形、多个纵向矩形槽、配准层、星形图案、多个接地特征,以及螺旋形导体。17.根据权利要求12所述的方法,其特征在于,所述至少一个特征包括具有一系列不同尺寸的一组类似特征。18.根据权利要求17所述的方法,其特征在于,所述一组类似特征是以下项中的至少一项:一组孔、具有一系列不同直径的一组点、具有一系列不同宽度的一组横向矩形、具有一系列不同宽度的一组横向矩形槽、具有一系列不同宽度的一组纵向矩形,以及具有一系列不同宽度的一组纵向矩形槽。19.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员:K·C·斯旺森B·D·布德罗
申请(专利权)人:哈钦森技术股份有限公司
类型:发明
国别省市:美国,US

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