一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备制造方法及图纸

本申请适用于光学和电子技术领域，提供了一种光源结构，其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测。所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底发上的多个发光单元。所述发光单元可划分为三个或三个以上相关性发光单元集合。每个所述相关性发光单元集合包括两个或两个以上具有周期相关性的发光单元。所述相关性发光单元集合在所述半导体基底上相互交错但不完全重叠地排布。本申请还提供一种使用该光源结构的光学投影模组、感测装置及设备。

【技术实现步骤摘要】
一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备
本申请属于光学
，尤其涉及一种光源结构、光学投影模组、感测装置及设备。
技术介绍
现有的三维(ThreeDimensional,3D)感测技术通常需要在目标物体上投射出大量光斑所组成的图案来进行三维感测，目标物体上单位面积的光斑数量必须足够多才能准确感测出目标物体上对应位置处的三维信息。因此，需要借助光场乘法器件，比如：衍射光学元件(DiffractiveOpticalElement,DOE)、光栅等，将光源所发出的有限数量的光斑光束在投影空间内复制出大量的光源光斑光束复本再投射到目标物体上。然而，复制光斑光束的复本次数越多则要求所述DOE图案也越复杂，导致成本升高，不利于产品推广。
技术实现思路
本申请提供一种用于实现三维感测的光源结构、光学投影模组、感测装置及设备。本申请实施方式提供一种光源结构，其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测。所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底发上的多个发光单元。所述发光单元可划分为三个或三个以上相关性发光单元集合。每个所述相关性发光单元集合包括两个或两个以上具有周期相关性的发光单元。所述相本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光源结构，其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测，所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底发上的多个发光单元，所述发光单元可划分为三个或三个以上相关性发光单元集合，每个所述相关性发光单元集合包括两个或两个以上具有周期相关性的发光单元，所述相关性发光单元集合在所述半导体基底上相互交错但不完全重叠地排布。

【技术特征摘要】
1.一种光源结构，其用于发射光束至一被测目标物上进行三维感测，所述光源结构包括半导体基底及形成在所述半导体基底发上的多个发光单元，所述发光单元可划分为三个或三个以上相关性发光单元集合，每个所述相关性发光单元集合包括两个或两个以上具有周期相关性的发光单元，所述相关性发光单元集合在所述半导体基底上相互交错但不完全重叠地排布。2.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于，每个所述相关性发光单元集合内的发光单元依据相同的周期相关性形成相同的排布图案。3.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于，所述相邻的相关性发光单元集合之间共享部分重叠排布的发光单元。4.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于，所述相关性发光单元集合相互之间的位置排布不具有周期性。5.如权利要求1所述的光源结构，其特征在于，所述发光单元选自垂直腔面发射激光器、发光二极管及激光二极管中的任意一种及其组合。6.一种光学投影...

【专利技术属性】
技术研发人员：田浦延，
申请(专利权)人：深圳阜时科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44