【技术实现步骤摘要】
一种用于控制中子自旋的翻转线圈
本专利技术属于中子自旋回波
,具体涉及一种用于控制中子自旋的翻转线圈。
技术介绍
中子自旋回波谱仪技术是目前能量分辨较高的中子散射技术,主要应用于软物质、生物大分子等弛豫时间较慢的材料的微观动力学研究。中子自旋回波谱仪关键部件之一就是用于控制中子自旋翻转90度以及180度的中子自旋翻转器线圈。目前,国际上比较常用的翻转线圈采用mezei型,其缺点是主要应用于单色波长中子的自旋翻转,如果应用于白光中子将需要与中子源振荡周期进行同步,同时调节周期内电流幅度满足一定条件,实现过程复杂。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是提供一种用于控制中子自旋的翻转线圈。本专利技术的用于控制中子自旋的翻转线圈,其特点是:所述的翻转线圈包括盖板、T形块、线圈、绝缘片、背板和螺钉;所述的线圈包括两个对称的平板型子线圈,子线圈中间的缝隙宽度为a,子线圈上下两端的缝隙宽度为b,子线圈的厚度为d,缝隙a对应的子线圈位置上留有中子穿过区,中子穿过区的长度小于中子束斑,中子穿过区的厚度为1/3d;子线圈上切割有贯穿子线圈厚度的缝隙,在子线圈上形成了三条宽度相同、电流方向一致的电流通路A、电流通路B和电流通路C,电流通路A、电流通路B和电流通路C的电流密度比值为1:2:3;子线圈上还安装有三个接线孔,第一个接线孔位于电流通路A的首端并接电源的正极,第二个接线孔位于电流通路B的首端并接电源的正极,第三个接线孔位于电流通路C的末端并接电源的负极;所述的线圈通过四个盖板压紧固定在背板的凹槽内;所述的线圈与背板之间有两块绝缘片,用于线圈和背板之间的绝缘;螺钉 ...
【技术保护点】
1.一种用于控制中子自旋的翻转线圈,其特征在于:所述的翻转线圈包括盖板(1)、T形块(2)、线圈(3)、绝缘片(4)、背板(5)和螺钉(6);所述的线圈(3)包括两个对称分布的平板型子线圈,子线圈中间的缝隙宽度为a,子线圈上下两端的缝隙宽度为b,a和b的大小通过T形块(2)来调控;子线圈的厚度为d,缝隙a对应的子线圈位置上留有中子穿过区,中子穿过区的长度大于中子束斑,中子穿过区的厚度为1/3d;所述线圈(3)的子线圈上切割有贯穿子线圈厚度的缝隙,在子线圈上形成了三条宽度相同、电流方向一致的电流通路A、电流通路B和电流通路C,电流通路A、电流通路B和电流通路C的电流密度比值为1:2:3;子线圈上还有三个接线孔,第一个接线孔位于电流通路A的首端并接电源的正极,第二个接线孔位于电流通路B的首端并接电源的正极,第三个接线孔位于电流通路C的末端并接电源的负极;所述的线圈(3)通过四个盖板(1)压紧固定在背板(5)的凹槽内;所述的线圈(3)与背板(5)之间有两块绝缘片(4),用于线圈(3)和背板(5)之间的绝缘;螺钉(6)位于盖板(1)边缘,螺钉(6)贯穿盖板(1)固定在背板(5)的边缘上。
【技术特征摘要】
1.一种用于控制中子自旋的翻转线圈,其特征在于:所述的翻转线圈包括盖板(1)、T形块(2)、线圈(3)、绝缘片(4)、背板(5)和螺钉(6);所述的线圈(3)包括两个对称分布的平板型子线圈,子线圈中间的缝隙宽度为a,子线圈上下两端的缝隙宽度为b,a和b的大小通过T形块(2)来调控;子线圈的厚度为d,缝隙a对应的子线圈位置上留有中子穿过区,中子穿过区的长度大于中子束斑,中子穿过区的厚度为1/3d;所述线圈(3)的子线圈上切割有贯穿子线圈厚度的缝隙,在子线圈上形成了三条宽度相同、电流方向一致的电流通路A、电流通路B和电流通路C,电流通路A、电流通路B和电流通路C的电流密度比值为1:2:3;子线圈上还有三...
【专利技术属性】
技术研发人员:王燕,孙光爱,王宗悦,庞蓓蓓,潘建,王云,李新喜,
申请(专利权)人:中国工程物理研究院核物理与化学研究所,
类型:发明
国别省市:四川,51
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