喷嘴、处理装置及层积造型装置制造方法及图纸

技术编号:20662913 阅读:46 留言:0更新日期:2019-03-27 14:06
本发明专利技术涉及喷嘴及处理装置、层积造型装置。喷嘴构成为能够抑制外部气体进入喷出的流体的内侧。一实施方式的喷嘴具备喷嘴部及引导面。在上述喷嘴部设置第1通路、第2通路及上述引导面。上述第1通路包含第1开口端。上述第2通路包含第2开口端、以及位于上述第2开口端的上游并且沿第2方向延伸的区间。上述引导面具有位于该引导面在上述第1方向上的端部的端缘,至少在上述端缘处向径向的外侧露出,并在上述端缘处沿着随着趋向上述第1方向而越来越比上述第2方向远离上述中心轴的第3方向,从上述第2开口端喷出的流体的流动沿着该引导面,并且在上述端缘处从上述喷嘴部剥离。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴、处理装置及层积造型装置
本专利技术的实施方式涉及喷嘴、处理装置及层积造型装置。
技术介绍
已知有激光加工机、层积造型装置那样的通过对加工对象照射能量线来进行加工、造型的装置。这样的装置为了抑制被照射能量线的部分与外部气体发生反应,喷出保护气体那样的流体。保护气体以包围被照射能量线的部分的方式喷出。现有技术文献专利文献专利文献1:美国专利第7,223,935号公报例如有喷出的保护气体碰撞加工对象、导致保护气体产生紊流的情况。担心由于紊流的产生而导致外部气体进入保护气体的内侧。
技术实现思路
本专利技术所解决的课题的一例是提供能够抑制外部气体进入喷出的流体的内侧的喷嘴、处理装置及层积造型装置。一实施方式的喷嘴具备喷嘴部和引导面。上述喷嘴部设置有供能量线通过的第1通路和供流体通过的第2通路。上述引导面设置于上述喷嘴部。上述第1通路沿中心轴延伸,并包含第1开口端,该第1开口端位于该第1通路在沿着上述中心轴的第1方向上的端部并向上述喷嘴部之外开口。上述第2通路包含第2开口端、以及位于上述第2开口端的上游并且沿第2方向延伸的区间,该第2开口端位于该第2通路在上述第1方向上的端部并向上述喷嘴部之本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种喷嘴,其特征在于,具备:喷嘴部,设置有供能量线通过的第1通路和供流体通过的第2通路;以及引导面,设置于上述喷嘴部;上述第1通路沿着中心轴延伸,并包含第1开口端,该第1开口端位于该第1通路在沿上述中心轴的第1方向上的端部并向上述喷嘴部之外开口,上述第2通路包含第2开口端、以及位于上述第2开口端的上游并且沿着第2方向延伸的区间,该第2开口端位于该第2通路在上述第1方向上的端部并向上述喷嘴部之外开口,并且,比上述第1开口端更向上述中心轴的径向的外侧远离,上述流体在该区间中沿着上述第2方向流动;上述引导面具有位于该引导面在上述第1方向上的端部的端缘,至少在上述端缘处向上述径向的外侧露出,并在上...

【技术特征摘要】
2017.09.19 JP 2017-1795151.一种喷嘴,其特征在于,具备:喷嘴部,设置有供能量线通过的第1通路和供流体通过的第2通路;以及引导面,设置于上述喷嘴部;上述第1通路沿着中心轴延伸,并包含第1开口端,该第1开口端位于该第1通路在沿上述中心轴的第1方向上的端部并向上述喷嘴部之外开口,上述第2通路包含第2开口端、以及位于上述第2开口端的上游并且沿着第2方向延伸的区间,该第2开口端位于该第2通路在上述第1方向上的端部并向上述喷嘴部之外开口,并且,比上述第1开口端更向上述中心轴的径向的外侧远离,上述流体在该区间中沿着上述第2方向流动;上述引导面具有位于该引导面在上述第1方向上的端部的端缘,至少在上述端缘处向上述径向的外侧露出,并在上述端缘处沿着随着趋向上述第1方向而越来越比上述第2方向更远离上述中心轴的第3方向,上述第2通路中的上述流体的流动或者从上述第2开口端喷出的上述流体的流动沿着该引导面,并且在上述端缘处从上述喷嘴部剥离。2.如权利要求1所述的喷嘴,其特征在于,上述引导面的至少一部分位于上述第2通路。3.如权利要求1或2所述的喷嘴,其特征在于,上述第2方向随着趋向上述第1方向而越来越接近上述中心轴。4.如权利要求1至3中任一项所述的喷嘴,其特征在于,上述引导面具有朝向上述中心轴以凸状弯曲的第1曲面。5.如权利要求4所述的喷嘴,其特征在于,上述引导面上的各点处的切平面的法线矢量与上述第1方向的单位矢量所成的角度随着趋向上述第1方向而增大。6.如权利要求1至5中任一项所述的喷嘴,其特征在于,上述引导面具有比上...

【专利技术属性】
技术研发人员:大野博司津野聪佐佐木光夫山田智彦盐见康友藤卷晋平
申请(专利权)人:技术研究组合次世代三D积层造形技术综合开发机构株式会社东芝东芝机械株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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