降低胶带卷的侧边缘粘性制造技术

技术编号:20595198 阅读:21 留言:0更新日期:2019-03-16 10:56
本发明专利技术涉及用于降低胶带卷(21)的卷绕平面粘性的方法,其中将包括有机多官能硅烷的前体(4)添加至等离子体流,将富集有前体(4)的等离子体流引导至卷绕平面(20)上并用SiOx涂层覆盖卷绕平面(20)。

Reducing the Side Edge Viscosity of Tape Rolls

The present invention relates to a method for reducing the viscidity of the winding plane of a tape film (21), in which the precursor (4) including organic multifunctional silane is added to the plasma flow, the plasma flow enriched with precursor (4) is guided to the winding plane (20) and the winding plane (20) is covered with a SiOx coating.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】降低胶带卷的侧边缘粘性本专利技术涉及用于降低胶带卷的卷绕平面(卷端面Wickelspiegel)粘性的方法、以及胶带卷。对于胶带卷、尤其是ACXplus系列(来自tesa的ACXplus系列涵盖具有基于丙烯酸酯的胶粘剂的发泡胶带),已经发现的缺点是:在堆叠或与其它制品接触时,侧边缘显示粘贴(粘住)的倾向。为了抵消这种不希望的效果,通常将硅化侧面片(圆盘)放置在卷的端面上。对于ACXplus产品,出于安全起见每卷使用两个侧面片;对于膜状产品(具有作为载体的其上施加有胶粘剂的膜的常规胶带),仅一个侧面片就足够了。这些片同时防止在运输或加工期间与压敏胶粘剂粘结的颗粒的污染。在使用相应的侧面片的情况下,对于卷尺寸和包装,必须将它们适当地修整。为了通过机器的(机械地)加工和手动地加工,需要随后移除侧面片并在使用后再置于端面上。总而言之,硅化侧面插入物的使用需要不可忽视的劳动力成本和精力。已经存在用于钝化(去活化)侧边缘粘性的多种解决方案。通过加压粉化处理侧面边缘,使得施加的滑石或施加的玻璃珠导致剥离粘附性(粘合力)的降低。该过程对胶带卷的光学性质是有害的。此外,还存在未牢固地粘附(粘附性差)的滑石颗粒的污染,这在许多应用中是不合乎期望的。同时,无法确保钝化的长期稳定性,因为在较高的温度下,施加的颗粒陷入胶粘剂中或被胶粘剂包围。作为另一解决方案,侧边缘的涂层有常规的清漆(涂料)形成。在此,由于需要干燥,处理时间非常长。同时,例如,对于3g/m2的高涂布量,观察到相对高的展开力(解卷力)。通过向清漆添加水减少膜的形成,容许展开力降低到正常水平。WO2008/095653A描述了用于钝化压敏胶带的边缘的方法,其中钝化通过压敏胶粘剂在边缘上的物理或化学交联或者将造成压敏胶粘效果的压敏胶粘剂结构的物理或化学破坏来完成。这通过将交联剂施加至侧面边缘,随后进行UV或IR照射、电子照射、γ照射或等离子体处理来实现。所公开的交联剂包括环氧化物、胺、异氰酸酯、过氧化物或多官能硅烷。缺点是该方法的相对复杂和昂贵的结构(构建)。EP1373423描述了用于钝化胶带卷的边缘面的胶粘剂层的方法,其中施加可辐射化学交联的丙烯酸酯、丙烯酸酯低聚物和丙烯酸酯预聚物并使用电离和电磁辐射进行固化。US2010/00447530描述了使用如下的间接施加方法涂覆胶带卷的侧边缘的方法:其中采用可辐射固化的清漆或热熔性聚合物。EP1129791A2描述了用于制造抗胶粘性涂层的方法,其中借助于低压等离子体聚合将抗胶粘性层施加至幅面形式的材料,该幅面形式的材料被连续地拉动通过其中存在低压等离子体的等离子体区。特别地对于胶带的背面和剥离(脱模)材料,制造借助于等离子体聚合形成的抗胶粘性涂层。以上提及的方法对于降低胶带卷的端面的压敏胶粘性仅具有有限的适合性。因此,本专利技术的目的是提供降低胶带卷的端面的压敏胶粘性的改善的方法,并且本专利技术的目的是提供具有降低的压敏胶粘性的胶带卷。在方法方面,通过具有权利要求1的特征的方法来实现该目的。根据本专利技术,将具有有机多官能硅烷的前体供应至大气压等离子体流。将富集有(富含)前体的等离子体流引导至卷端面处并用SiOx涂层覆盖(涂覆)卷端面。有利地将富含前体的等离子体流直接引导至卷端面,使得即时地且直接地用SiOx涂层覆盖卷端面。令人惊讶地显现,等离子体涂覆方法可直接地应用于胶带卷的端面。胶带卷为卷绕的胶带,其长度显著大于其宽度并且其宽度又显著大于其厚度。在其最简单的实施方式中,胶带由单个胶粘剂层、更特别地发泡的胶粘剂层组成。胶带还可包括至少一个基底幅面和施加在该基底幅面上的压敏胶粘剂幅面。当然也可在基底幅面和压敏胶粘剂幅面之间存在另外的幅面和/或层。然而,本专利技术的关键在于,当将胶带卷绕成胶带卷时,压敏胶粘剂幅面的窄侧(窄边)在基底幅面之间暴露并且可附着至其它物体或者可收取污垢。可为交替形式的卷绕的基底幅面和压敏胶粘剂幅面的序列的端侧面称为卷端面(端面)。将SiOx涂层优选地在整个区域(面积)上施加至卷端面。有利地,涂层在卷端面的整个范围上具有恒定的厚度。涂层优选地为60nm至600nm厚;厚度优选在100nm和200nm之间。优选地通过如下制造胶带卷:首先制造具有最高达2000mm宽度的非常宽的胶带卷,然后将这种宽的胶带卷切成多个胶带卷。切下的胶带卷在其端面处特别地具有粘性。在本专利技术的一种发展中,将母卷横向于纵轴切割成单独的胶带卷,并且首先用SiOx涂层钝化单独的胶带卷的端面。于是,一个、两个或任意更高数量的胶带卷甚至可各自被再次展开并横向地重新卷绕。在横向卷绕的过程中,首先从同样窄的胶带卷展开窄的胶带,然后将窄的胶带横向地卷绕到显著更长的卷绕轴上,使得胶带层不仅直接位于彼此之上,而且先沿卷绕轴彼此并排地卷绕(缠绕),直到卷绕了第一卷绕层,然后在卷绕轴上沿相反方向卷绕第二卷绕层。在胶带卷方面,通过具有权利要求7的特征的胶带卷实现本专利技术。胶带卷优选地通过上述方法之一制造,并且以至少一个、优选地恰好两个卷端面为特征,其中有利地SiOx涂层在等离子体工艺中被施加在整个区域上。SiOx涂层可具有60nm至600nm、优选地在100nm和200nm之间的厚度,并且其优选地以恒定的层厚施加在卷端面的整个范围上。胶带卷更特别地为来自tesa的ACXplus系列的那些。这种胶带包括载体层,也称为硬相。硬相的聚合物基础物优选地选自聚氯乙烯(PVC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚氨酯、聚烯烃、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、离聚物和两种或更多种上述聚合物的混合物。特别优选地硬相的聚合物基础物选自聚氯乙烯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚氨酯、聚烯烃和两种或更多种上述聚合物的混合物。硬相基本上(主要)为聚合物膜,其聚合物基础物选自以上材料。“聚合物膜”是指薄的、片状的、柔性的、可卷绕的幅面,其材料基础物基本上由一种或多种聚合物形成。“聚氨酯”在宽泛的意义上被理解为这样的聚合物型物质,其中重复单元通过具有–NH-CO-O-的氨基甲酸酯部分(基团)彼此连接。“聚烯烃”是指以物质的量计含有至少50%的通式结构–[-CH2-CR1R2-]n-(其中R1是氢原子以及R2是氢原子或直链或支链的饱和脂族或脂环族基团)的重复单元的聚合物。当硬相的聚合物基础物包括聚烯烃时,后者更优选地为聚乙烯、更特别地超高分子量的聚乙烯(UHMWPE)。“聚合物基础物”是指如下的一种或多种聚合物:其占相关层或相中包含的所有聚合物的最大重量分数。硬相的厚度为特别地≤150μm。优选地,硬相的厚度为10至150μm、更优选地30至120μm、更特别地50至100μm、例如70至85μm。“厚度”是指沿着假想坐标系的z坐标的相关层或相的范围(尺寸),其中x-y平面由机器方向和横向于机器方向的横向限定的平面形成。通过如下测定厚度:在至少五个不同的位置处测量相关层或相,然后由获得的测量值形成算术平均值。对硬相的厚度测量在此根据DINENISO4593进行。这种胶带还可具有包括聚合物泡沫体、粘弹性物质(组合物)和/或弹性体物质(组合物)的软相。软相的聚合物基础物优选地选自聚烯烃、聚丙烯酸酯、聚氨酯、以及两种或更多种上述聚合物的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.用于降低胶带卷(21)的端面粘性的方法,其中将包括有机多官能硅烷的前体(4)供应至等离子体流,将富含前体(4)的等离子体流引导至卷端面(20)上用SiOx涂层覆盖卷端面(20)。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.07.15 DE 102016212971.61.用于降低胶带卷(21)的端面粘性的方法,其中将包括有机多官能硅烷的前体(4)供应至等离子体流,将富含前体(4)的等离子体流引导至卷端面(20)上用SiOx涂层覆盖卷端面(20)。2.如权利要求1所述的方法,其特征在于将来自HMDSO、GLYMO和OCS的组的多官能硅烷用作前体(4)。3.如权利要求1或2所述的方法,其特征在于将母卷横向于纵向切割成单独的胶带卷并且将分离的胶带卷(21)的至少一个展开并横向卷绕。4.如权利要求1、2或3所述的方法,其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员:A库普斯M本戴奇
申请(专利权)人:德莎欧洲股份公司
类型:发明
国别省市:德国,DE

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