基板载台和离子注入设备制造技术

本实用新型专利技术提供一种基板载台和离子注入设备，属于半导体设备技术领域，其可至少部分解决现有的离子注入设备制造的基板中异物和性能不稳定的问题。本实用新型专利技术的基板载台，包括载台本体，所述载台本体具有承载面，所述承载面包括用于放置基板的基板放置区，所述基板载台还包括至夹具，所述夹具用于将基板固定在所述基板放置区，所述夹具包括移动件和连接在所述移动件上的接触件，所述移动件能够移动以使所述接触件压在所述基板的边缘部或者离开所述基板，所述接触件与所述基板接触的部分的表面为弧面。

【技术实现步骤摘要】
基板载台和离子注入设备
本技术属于半导体设备
，具体涉及一种基板载台和一种离子注入设备。
技术介绍
在制造显示基板(例如OLED显示基板，以下也称基板)时，通常会通过离子注入的方法在显示基板中形成薄膜晶体管的源漏极接触区。离子注入设备发出的离子束通常是固定的且离子束的面积通常小于显示基板的面积。通常离子束是水平发出的，显示基板则是竖直放置的。显示基板由基板载台带动在离子束中扫过，从而在整个显示基板的面积范围内进行离子注入。在进行离子注入时，由基板载台的承载面承载显示基板，由夹具将显示基板固定在基板载台的承载面上，由驱动装置控制基板载台运动。图4示出的是现有离子注入设备中基板载台上的夹具的结构。该夹具中的固定件1031与承载面101位置固定，该夹具中的移动件1032一端可转动地连接在固定件1031上，另一端处连接接触件1033。接触件1033通常为方形的块状结构。当移动件1032带动接触件1033下压时，便可将基板1压紧固定在承载面101上。现有离子注入设备所生产的基板存在异物和性能不稳定的不良，这导致整体良率并不高，有待进一步提升。
技术实现思路
本技术至少部分解决现有的离子注入设备的生产良率不高的问题，提供一种基板载台和一种离子输入设备。根据本技术的第一方面，提供一种基板载台，包括载台本体，所述载台本体具有承载面，所述承载面包括用于放置基板的基板放置区，所述基板载台还包括至夹具，所述夹具用于将基板固定在所述基板放置区，所述夹具包括移动件和连接在所述移动件上的接触件，所述移动件能够移动以使所述接触件压在所述基板的边缘部或者离开所述基板，所述接触件与所述基板接触的部分的表面为弧面。可选地，所述接触件包括滚轮。可选地，所述移动件包括转动件，所述夹具还包括固定件，所述固定件固定连接在所述载台本体上，所述转动件与所述固定件转动连接，所述滚轮设置在所述转动件的朝向所述基板放置区的一侧。可选地，在所述基板放置区的边缘部设有多个由弹性材料制成的、用于支撑基板的缓冲件，至少部分缓冲件设在所述接触件与基板接触时的接触区对应的位置。可选地，所述夹具为多个，在相邻夹具之间的基板放置区的边缘部位置处也设有所述缓冲件。可选地，所述缓冲件包括硅橡胶块。可选地，所述载台本体中设有贯穿所述载台本体的镂空。可选地，在所述载台本体的承载面上，对应所述基板放置区的非镂空区，还设置有多个用于支撑基板的支撑块。可选地，所述载台本体的一个侧壁上外还设置有配重块。根据本技术的第二方面，提供一种离子注入设备，包括离子束发生模块和基板载台，所述离子束发生模块用于沿水平方向发射离子束，所述基板载台用于将基板以竖直方式支撑，所述基板载台为根据本技术第一方面所提供的基板载台。附图说明图1为本技术的离子注入设备的俯视图；图2为图1所示离子注入设备中基板载台的正视透视图；图3为图2所示基板载台中夹具的结构示意图；图4为现有基板载台中夹具的结构示意图；图5为图2中沿AA线的剖面图；图6(a)为图2中BB线附近结构的放大图；图6(b)为图2中沿BB线的剖面图；其中，附图标记为：1、基板；10、离子束发生模块；20、导轨；100、基板载台；101、承载面；102、基板放置区；103、夹具；1031、固定件；1032、移动件；1033、接触件；104、缓冲件；105、镂空；106、支撑块；107；基座；108、配重块。具体实施方式为使本领域技术人员更好地理解本技术的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步详细描述。实施例1：本实施例提供一种基板载台100，包括载台本体，载台本体具有承载面101，承载面101包括用于放置基板1的基板放置区102，基板载台100还包括至夹具103，夹具103用于将基板1固定在基板放置区102，夹具103包括移动件1032和连接在移动件1032上的接触件1033，移动件1032能够移动以使接触件1033压在基板1的边缘部或者离开基板1，接触件1033与基板1接触的部分的表面为弧面。图1示出的是该基板载台100在离子注入设备中的应用方式。图1示出的是该离子注入设备的俯视图。离子束发生模块10发出的离子束(图1中箭头表示离子束的运动轨迹)注入到基板载台100上所固定的基板1(图1中未示出)上。基板1例如是OLED基板或者用于液晶显示的阵列基板等。由于基板1的宽度通常是大于离子束的宽度的，在工艺进行过程中，由驱动模块(包括电机等，图1中未示出)带动基板载台100在导轨20上移动。从而离子束在基板1上实现左右扫描(按当前视角)。参见图2，载台本体即承载基板1的实体，其用于承载基板1的表面为承载面101。在承载面101上的基板1所放置的区域为基板放置区102。由于在应用状态下基板1是竖直放置的，为了将基板1固定在承载面101，需要用夹具103将基板1与承载面101加紧。如图3所示，本技术所提供的夹具103中的接触件1033是用于直接与基板1接触的部件，接触件1033是压紧基板1还是离开基板1是受到移动件1032的带动而实现的。本技术的专利技术人通过研究现有的离子注入设备发现，如图4所示的现有的离子注入设备中的夹具103存在以下缺陷：现有夹具103的接触件1033的表面为长条形，接触件1033与基板1中的表面(例如是有源区层，它用于形成晶体管的有源区的膜层，又例如是栅绝缘层)有较大面积的接触，在接触件1033脱离基板1表面时会对基板1造成一定的揭取(peel)作用力，这个揭取的动作会造成静电的积累。而该揭取动作本身也会对基底1造成一定影响，造成基板性能的不稳定。随时间的积累，接触件1033表面积因静电积累而吸引量的微粒(particle)。无论以上的揭取效应还是上述的微粒作为异物都会造成基板1的性能异常。参见图3、图6(a)和图6(b)，在本技术中夹具103的接触件1033与基板1接触的部分的表面为弧面。该弧面与基板1接触时接触区域为一条线，从而当接触件1033离开基板1时，并不会造成明显的揭取作用，对基板的扰动减小，产生的静电也得到减少，进而在接触件1033上积累的静电也得到的减少。如将该夹具103应用于离子注入设备的基板载台100中，可提高工艺的良率。可选地，如图3所示，接触件1033包括滚轮。也即由滚轮去压住基板1。一方面滚轮能够转动，对于很多片依次待加工的基板1，滚轮与基板1的接触区域是可调整的，从而避免了接触件1033中固定位置与基板1接触，造成接触件1033中固定位置的磨损。如此，可提高夹具103的使用寿命。可选地，如图3所示，移动件1032具体为转动件，夹具103还包括固定件1031，固定件1031固定连接在载台本体上，转动件与固定件1031转动连接，滚轮设置在转动件的朝向基板放置区102的一侧。也即由转动件的转动带动接触件1033的移动。可选地，如图2、图6(a)和图6(b)所示，在基板放置区102的边缘部设有多个由弹性材料制成的、用于支撑基板1的缓冲件104，至少部分缓冲件104设在接触件1033与基板接触时的接触区对应的位置。缓冲件104例如是硅橡胶块，或其他起到缓冲基板1受到的作用力的弹性结构。具体地，缓冲件104和接触件1033将基板1夹在二者之间。可选地，本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基板载台，包括载台本体，所述载台本体具有承载面，所述承载面包括用于放置基板的基板放置区，所述基板载台还包括至夹具，所述夹具用于将基板固定在所述基板放置区，其特征在于，所述夹具包括移动件和连接在所述移动件上的接触件，所述移动件能够移动以使所述接触件压在所述基板的边缘部或者离开所述基板，所述接触件与所述基板接触的部分的表面为弧面。

【技术特征摘要】
1.一种基板载台，包括载台本体，所述载台本体具有承载面，所述承载面包括用于放置基板的基板放置区，所述基板载台还包括至夹具，所述夹具用于将基板固定在所述基板放置区，其特征在于，所述夹具包括移动件和连接在所述移动件上的接触件，所述移动件能够移动以使所述接触件压在所述基板的边缘部或者离开所述基板，所述接触件与所述基板接触的部分的表面为弧面。2.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，所述接触件包括滚轮。3.根据权利要求2所述的基板载台，其特征在于，所述移动件包括转动件，所述夹具还包括固定件，所述固定件固定连接在所述载台本体上，所述转动件与所述固定件转动连接，所述滚轮设置在所述转动件的朝向所述基板放置区的一侧。4.根据权利要求1所述的基板载台，其特征在于，在所述基板放置区的边缘部设有多个由弹性材料制成的、用于支撑基板的缓冲件，至少部分缓冲件设在所...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘晨亮，姜东诚，傅永义，谭超，经好，李儒健，罗康，黎韬，相莎莎，方娟，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11