一种黑色矩阵的制备方法及显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种黑色矩阵的制备方法及显示装置，包括提供一基板；在所述基板上表面涂布一层折射率温控材料；对所述折射率温控材料进行预烘烤，形成一中间层；在所述中间层上涂布一种光阻材料，形成一光阻层；将一掩膜板放置在所述光阻层上方或所述基板下方；利用紫外线自上而下照射所述光阻层，或者，自下而上照射所述基板，使得所述中间层与所述光阻层同步固化显影；去除掩膜板并烘烤所述基板，使得所述中间层与所述光阻层同步图案化，这样可以节省提高制作的效率。

A Method for Preparing Black Matrix and Its Display Device

The invention provides a method for preparing a black matrix and a display device, including providing a substrate; coating a layer of refractive index temperature control material on the surface of the substrate; pre-baking the refractive index temperature control material to form an intermediate layer; coating a photoresistive material on the intermediate layer to form a photoresistive layer; placing a mask above the photoresistive layer or the substrate. Below; the photoresistive layer is illuminated by ultraviolet light from top to bottom, or the substrate is illuminated from bottom to top, so that the intermediate layer and the photoresistive layer are synchronously solidified and developed; the mask plate is removed and the substrate is baked so that the intermediate layer and the photoresistive layer are synchronously patterned, thereby saving and improving the production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
一种黑色矩阵的制备方法及显示装置
本专利技术涉及液晶显示领域，特别是一种黑色矩阵的制备方法及显示装置。
技术介绍
LCD显示器可以通过降低反光率来降低环境光在显示器表面的反射，使得在亮环境下人眼感知到的实际对比度上升，增强画质效果。现有的LCD的上表面，除了偏光片的反射以外，制备于上基板玻璃内侧的黑色矩阵也会产生反光。通过改善黑色矩阵的反光有利于降低LCD整体的反射率，提升对比度。现有专利提出在普通黑色矩阵与玻璃基板之间增加一层有机或者无机折射率中间层的方法来降低黑色矩阵反射率的方法。但制作过程中存在下列问题：如果采用整面的中间层，其对彩膜基板上黑色矩阵以外区域的反射率和透过率可能存在影响，中间层材料可能导致透射光的吸收；如果中间层材料采用无机物如氮氧化硅等，使其图案化地与黑色矩阵一致，则需要增加一道干刻制程，增加了制备的复杂度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种黑色矩阵的制备方法，可以去除了中间层的干刻制程的步骤。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种黑色矩阵的制备方法，包括如下步骤：提供一基板；在所述基板上表面涂布一层折射率温控材料；对所述折射率温控材料进行预烘烤，形成一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种黑色矩阵的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一基板；在所述基板上表面涂布一层折射率温控材料；对所述折射率温控材料进行预烘烤，形成一中间层；在所述中间层上涂布一种光阻材料，形成一光阻层；将一掩膜板放置在所述光阻层上方或所述基板下方；利用紫外线自上而下照射所述光阻层，或者，自下而上照射所述基板，使得所述中间层与所述光阻层同步固化显影；去除掩膜板并烘烤所述基板，使得所述中间层与所述光阻层同步图案化。

【技术特征摘要】
1.一种黑色矩阵的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：提供一基板；在所述基板上表面涂布一层折射率温控材料；对所述折射率温控材料进行预烘烤，形成一中间层；在所述中间层上涂布一种光阻材料，形成一光阻层；将一掩膜板放置在所述光阻层上方或所述基板下方；利用紫外线自上而下照射所述光阻层，或者，自下而上照射所述基板，使得所述中间层与所述光阻层同步固化显影；去除掩膜板并烘烤所述基板，使得所述中间层与所述光阻层同步图案化。2.根据权利要求1所述的黑色矩阵的制备方法，其特征在于，在提供一基板的步骤中，所述基板上设置有第一对位标记；在将掩膜板放置在所述光阻层上方或所述基板下方的步骤中，所述掩膜板设置有第二对位标记，所述第二对位标记分别与所述第一对位标记一一对应。3.根据权利要求2所述的黑色矩阵的制备方法，其特征在于，所述第一对位标记设置于基板的四个角落，所述第二对位标记设置于掩膜板的四个角落。4.根据权利要求1所述的黑色矩阵的制备方法，其特征在于，在所述基板上表面涂布一层折射率温控材料的步骤中，所述中间层的折射率为1.45～1.9，所述中间层的涂布厚度为3...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈黎暄，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44