一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

本申请公开了一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质，包括：将光模块放置在高温环境下，当MCU温度指针达到目标工作温度时，调节激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以光模块中MCU温度指针为索引，根据服务器上预先存储的数据库中激光器核心温度值、VEA值与调节后的激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中激光器核心温度值、VEA值；在常温和低温下分别测试光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。本申请通过上述步骤将带EML激光器的光模块在高温调试和常温低温测试，即能制作成品率高和合格率高的产品。

【技术实现步骤摘要】
一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质
本专利技术涉及光电通信领域，特别是涉及一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
电吸收调制激光器(Electlro-absorptionModulatedLaser，EML)内部集成有光隔离器、背光监控、TEC制冷片、热敏电阻等部件，具有集成度高、速率高、隔离度高等特点，应用于光模块中。EML激光器的反向偏置电压(VoltageElectro-absorption，VEA)是影响光模块的光功率和通道代价的关键因素，常常由于VEA的调试导致光功率不能满足要求。又由于EML激光器的TEC在制热效率大于制冷效率，即TEC制热所需要的电流远小于TEC制冷所需要的电流，当环境温度大于激光器的目标温度时，TEC制冷，且越大于激光器的目标温度时，TEC的工作电流越大，导致TEC的制冷效率越差，而当环境温度小于激光器的目标温度时，TEC制热，且越小于激光器的目标温度时，TEC的工作电流越大，导致TEC的制热效率越差，进而导致光模块在高温或者低温时功耗急剧增加。目前，现有的带EML激光器的光模块参数配置方法中，以环境温度为参考值，设置VEA本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光模块参数配置方法，其特征在于，包括：将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。

【技术特征摘要】
1.一种光模块参数配置方法，其特征在于，包括：将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。2.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法，其特征在于，在将光模块放置在高温环境下之前，还包括：以光模块中MCU温度指针为索引，下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值，根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值，偏压电流值和VEA值。3.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法，其特征在于，在调节过程中，EML激光器核心温度值在步进减小时，VEA值同步增加。4.根据权利要求2所述的光模块参数配置方法，其特征在于，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值，具体包括：将下载好的服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值进行数据动态平移以更新本地数据库。5.根据权利要求2所述的光模块参数配置方法，其特征在于，在以光模块中MCU温度指针为索引，下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值，根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值，偏压电流和VEA值之前，还包括：下载服务器上预先存储的数据库中光模...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑林，彭智祥，刘树文，王艳红，
申请(专利权)人：东莞铭普光磁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44