一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质制造方法及图纸

本申请公开了一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质，包括：将光模块放置在高温环境下，当MCU温度指针达到目标工作温度时，调节激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以光模块中MCU温度指针为索引，根据服务器上预先存储的数据库中激光器核心温度值、VEA值与调节后的激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中激光器核心温度值、VEA值；在常温和低温下分别测试光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。本申请通过上述步骤将带EML激光器的光模块在高温调试和常温低温测试，即能制作成品率高和合格率高的产品。

【技术实现步骤摘要】
一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质
本专利技术涉及光电通信领域，特别是涉及一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质。
技术介绍
电吸收调制激光器(Electlro-absorptionModulatedLaser，EML)内部集成有光隔离器、背光监控、TEC制冷片、热敏电阻等部件，具有集成度高、速率高、隔离度高等特点，应用于光模块中。EML激光器的反向偏置电压(VoltageElectro-absorption，VEA)是影响光模块的光功率和通道代价的关键因素，常常由于VEA的调试导致光功率不能满足要求。又由于EML激光器的TEC在制热效率大于制冷效率，即TEC制热所需要的电流远小于TEC制冷所需要的电流，当环境温度大于激光器的目标温度时，TEC制冷，且越大于激光器的目标温度时，TEC的工作电流越大，导致TEC的制冷效率越差，而当环境温度小于激光器的目标温度时，TEC制热，且越小于激光器的目标温度时，TEC的工作电流越大，导致TEC的制热效率越差，进而导致光模块在高温或者低温时功耗急剧增加。目前，现有的带EML激光器的光模块参数配置方法中，以环境温度为参考值，设置VEA最小初始值，再在EML激光器工作波长满足要求的前提下，调整光眼图交叉点、消光比、温度、自动光功率控制的取值，使得EML激光器的光眼图交叉点、消光比、输出光功率、工作波长满足使用要求；再检测VEA是否达到设定的电吸收反向偏置电压范围的最大值，若否则逐渐增加VEA值，直至光眼图交叉点、消光比、输出光功率、偏置电流和光眼图富裕量均满足设定的要求范围，且全温下VEA和激光器工作温度不做改变。该方法容易产生高低温时，光模块的光功率、通道代价等参数有比较大的概率出现产品不良。因此，如何解决在高低温时，光模块的参数有较大概率出现产品不良的问题，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
技术实现思路
有鉴于此，本专利技术的目的在于提供一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质，通过将带EML激光器的光模块经高温调试和常温低温测试，可以得到成品率高，合格率高的产品。其具体方案如下：一种光模块参数配置方法，包括：将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。优选地，在本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法中，在将光模块放置在高温环境下之前，还包括：以光模块中MCU温度指针为索引，下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值，根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值，偏压电流值和VEA值。优选地，在本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法中，在调节过程中，EML激光器核心温度值在步进减小时，VEA值同步增加。优选地，在本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法中，动态更新本地数据库中存储的EML激光器核心温度值、VEA值，具体包括：将下载好的服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值进行数据动态平移以更新本地数据库。优选地，在本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法中，在以光模块中MCU温度指针为索引，下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值，根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值，偏压电流和VEA值之前，还包括：下载服务器上预先存储的数据库中光模块的MCU配置，筛选所述光模块的光眼图交叉点参数；若筛选出的所述光眼图交叉点参数未在设定范围内，则对所述MCU进行调节。优选地，在本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法中，在下载服务器上预先存储的数据库中光模块的MCU配置，筛选所述光模块的光眼图交叉点参数之前，还包括：根据EML激光器出厂的参数，筛选满足工作波长要求的EML激光器；将筛选出的所述EML激光器集成在光模块中。优选地，在本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法中，所述高温环境为商业级70度，工业级85度。本专利技术实施例还提供了一种光模块参数配置装置，包括：高温调节模块，用于将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；数据库更新模块，用于以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；性能测试模块，用于根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。本专利技术实施例还提供了一种光模块参数配置设备，包括处理器和存储器，其中，所述处理器执行所述存储器中保存的计算机程序时实现如本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法。本专利技术实施例还提供了一种计算机可读存储介质，用于存储计算机程序，其中，所述计算机程序被处理器执行时实现如本专利技术实施例提供的上述光模块参数配置方法。从上述技术方案可以看出，本专利技术所提供的一种光模块参数配置方法、装置、设备及存储介质，该方法包括：将光模块放置在高温环境下，当光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。本申请将带EML激光器的光模块在高温下调试，通过读取光模块中MCU温度指针，确保产品没有异常，之后将下载好的服务器上预先存储的数据库中的参数和经高温调试后的参数进行拟合以更新本地数据库，根据更新后的本地数据库中的参数进行常温低温测试，即能制作成品率高和合格率高的产品，极大降低了企业的制造成本。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。图1为本专利技术实施例提供的光模块参数配置方法的流程图之一；图2为本专利技术实施例提供的光模块参数配置方法的流程图之二；图3为本专利技术实施例提供的光模块参数配置装置的结构示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种光模块参数配置方法，其特征在于，包括：将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。

【技术特征摘要】
1.一种光模块参数配置方法，其特征在于，包括：将光模块放置在高温环境下，当所述光模块中MCU温度指针达到目标工作温度时，调节EML激光器核心温度值、偏压电流值和VEA值，使所述光模块的光功率、消光比、通道代价满足目标值；以所述光模块中MCU温度指针为索引，保持偏压电流值不变，根据服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值与调节后的EML激光器核心温度值、VEA值的对应关系，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值；根据更新后的本地数据库中的参数，在常温和低温下分别测试所述光模块的光功率、消光比和通道代价，若性能正常，则完成参数配置。2.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法，其特征在于，在将光模块放置在高温环境下之前，还包括：以光模块中MCU温度指针为索引，下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值，根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值，偏压电流值和VEA值。3.根据权利要求1所述的光模块参数配置方法，其特征在于，在调节过程中，EML激光器核心温度值在步进减小时，VEA值同步增加。4.根据权利要求2所述的光模块参数配置方法，其特征在于，动态更新本地数据库中EML激光器核心温度值、VEA值，具体包括：将下载好的服务器上预先存储的数据库中EML激光器核心温度值、VEA值进行数据动态平移以更新本地数据库。5.根据权利要求2所述的光模块参数配置方法，其特征在于，在以光模块中MCU温度指针为索引，下载服务器上预先存储的数据库中设置的参数值，根据下载好的参数值设置初始的EML激光器核心温度值，偏压电流和VEA值之前，还包括：下载服务器上预先存储的数据库中光模...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑林，彭智祥，刘树文，王艳红，
申请(专利权)人：东莞铭普光磁股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44