具有显示监测功能的气体温度调节装置制造方法及图纸

一种具有显示监测功能的气体温度调节装置，包含有：一机壳，其外侧设有一输入口及一输出口；一散热模块，设于所述机壳内；一致冷模块，组接于所述散热模块；一降温结构，组设所述致冷模块，并具有至少一流道，所述流道分别连通所述输入口及所述输出口；一运算处理模块，电性连接所述散热模块及所述致冷模块；一侦测模块，电性连接所述运算处理模块及所述致冷模块，并用以对所述流道内的流量及温度进行感测；及一显示设置模块，组设于机壳的外侧，并电性连接运算处理模块及侦测模块；以此，本实用新型专利技术通过显示监测机制，以供半导体制程中或系统测试中让工作人员可以降低设定或保养时的人为疏失，以及快速辨别出异常问题点，并尽早排除异常情况。

Gas Temperature Regulating Device with Display and Monitoring Function

A gas temperature regulating device with display and monitoring function includes: a chassis with an input port and an output port on its outer side; a heat dissipation module, which is arranged in the chassis; a uniform cooling module, which is connected with the heat dissipation module; a cooling structure, which is composed of the refrigeration module and has at least one flow channel, which is respectively connected with the input port and the output port. The utility model comprises an operation processing module which electrically connects the heat dissipation module and the cooling module, a detection module which electrically connects the operation processing module and the cooling module to sense the flow and temperature in the runner, and a display setting module which is arranged on the outer side of the casing and electrically connects the operation processing module and the detection module. By displaying the monitoring mechanism, the staff can reduce the human negligence in setting or maintenance, quickly identify the abnormal problem points and eliminate the abnormal situation as soon as possible in semiconductor manufacturing or system testing.

【技术实现步骤摘要】
具有显示监测功能的气体温度调节装置
本技术与一种用于半导体制程的温度调节装置有关，特别是指一种具有显示监测功能的气体温度调节装置。
技术介绍
用于制造半导体的某些工艺可能需要复杂的工艺以使外延层生长来创建多层半导体结构以用于制造高性能装置；在该工艺中，外延层是透过被称为化学气相沉积(CVD)的一般工艺而生长的。一种类型的CVD工艺被称为金属有机化学气相沉积(MOCVD)。在MOCVD中，将反应气体导入使反应气体沉积在衬底(通常被称为芯片)上以生长薄外延层的受控环境内的密封的反应室中。然而，在外延层生长期间，控制若干个工艺参数，如温度、压力和气体流量，从而在外延层中实现所需的质量。又，以氮化镓系化合物半导体为例，其经常用作发光二极管及/或雷射二极管等的组件；而该氮化镓系化合物半导体的制造步骤(氮化镓系化合物半导体制程)通常通过下述方式进行：利用MOCVD法在蓝宝石等基板上使氮化镓系化合物气相生长；并作为该制造步骤中使用的原料气体，例如除了使用三甲基镓、三甲基铟、三甲基铝作为第III族的金属源之外，还使用氨作为第V族的氮源；另外，除了这些原料气体之外，还使用氢以及氮作为载体气体。再者，现今半导体系统设备中，以MOCVD系统设备为例，于MOCVD系统设备内的气体控制系统(Gashandling&mixingsystem)中，具有针对载体气体进行调控温度的设备，其主要透过压缩机来运作，但是由于压缩机的设置系会形成一组大型的设备，且不但能够安静的运作，从而整体设备体积大，且未有效地能于半导体制程中控制在测试要求的温度。因此，乃有业者针对上述缺失，进一步开发出一用于MOCVD系统设备的温度调节装置，但是，由于所述温度调节装置并无设置相关警示装置或功能，假若于制程中气体温度调节装置发生系统异常的情形时，例如，温度、流量未在设定值内，其将造成晶圆制造时的不稳定。此外，由于运作时的温度、流量不稳定的情形往往无法预先得知，有时会在产品已制造完成后才发现此问题，但对产品的良率已然造成一定影响，并使得晶圆公司的生产成本增加。是以，本案申请人在观察到上述缺失后，而遂有本技术的产生。
技术实现思路
本技术的主要目的是在提供一种具有显示监测功能的气体温度调节装置，其通过显示监测机制，以供半导体制程中或系统测试中让工作人员可以降低设定或保养时的人为疏失，以及工作人员能够依据显示的数值而快速诊断，并辨别出异常问题点，从而达到实时察觉异常问题，并尽早排除异常情况；另外，本技术更搭配致冷芯片的设置，以对半导体制程用的载体气体进行降温动作，能达到效能佳、温控佳、作业便利、大幅降低成本以及能有效地控制温度的目的。为达上述目的，本技术所提供的具有显示监测功能的气体温度调节装置，其包含有：一机壳，其外侧设有至少一输入口及至少一输出口，且所述机壳内具有一容置空间；一散热模块，其设于所述容置空间；一致冷模块，其具有一发热部及一致冷部，所述致冷模块具有多个致冷芯片，而所述发热部组接有所述散热模块；一降温结构，其组设所述致冷部，且所述降温结构具有至少一流道，所述流道供一载体气体流通，而所述流道分别连通所述输入口及所述输出口；及一运算处理模块，其电性连接所述散热模块及所述致冷模块，所述运算处理模块存有至少一监测范围值；一侦测模块，其设于所述机壳内并电性连接所述运算处理模块及所述致冷模块，且所述侦测模块用以对所述流道内的流量及温度进行感测，并产生至少一感测信息，并传输至所述运算处理模块；及一显示设置模块，其组设于所述机壳的外侧，并电性连接所述运算处理模块及所述侦测模块。较佳地，其中所述显示设置模块具有至少一显示屏幕及多个设定键。较佳地，其中所述散热模块具有多个散热鳍片及至少一风扇单元，且所述多个散热鳍片呈间隔设置，并组设于所述发热部，所述风扇单元组设于所述机壳。较佳地，其中所述机壳外侧还穿设有二通孔，所述散热模块包含有一水冷头、多个输液管及一泵浦，所述水冷头具有一流动腔室，且所述水冷头组设于所述发热部，所述水冷头外侧设有至少二连接端，所述至少二连接端与所述流动腔室相连通，而所述多个输液管穿过所述二通孔并连接所述至少二连接端，所述泵浦连接于其中一输液管，而所述水冷头、所述多个输液管及所述泵浦构成一液体散热路径。较佳地，其中所述散热模块还包括一储液桶，所述储液桶与所述输液管连通，且所述储液桶存有一水液。较佳地，其中所述降温结构为一降温块，所述降温块的一侧连接所述多个致冷芯片，而另一侧连接所述机壳，所述降温块内穿设有所述流道，所述流道的两端分别连接所述输入口及所述输出口。较佳地，其中所述降温块由金属材质所构成。较佳地，其中所述降温块由铝材质所构成。较佳地，其中所述气体温度调节装置装设于一半导体系统设备中，而所述载体气体为氮气。较佳地，其中还包括有一声光警示模块，所述声光警示模块其电性连接所述运算处理模块，所述声光警示模块接收所述运作监测信息或所述异常监测信息，并具有至少一处理单元、至少一发声单元及至少一发光单元，所述处理单元依据所述运作监测信息或所述异常监测信息控制所述发声单元及所述发光单元的运作。本技术所提供的具有显示监测功能的气体温度调节装置，其主要通过所述运算处理模块能控制所述致冷模块的作动，以及能将所述感测信息与所述监测范围值进行比对运算处理，并产生至少一运作监测信息或至少一异常监测信息，而所述显示设置模块显示所述运作监测信息或所述异常监测信息；更详细地说，本技术通过显示监测机制，以供半导体制程中或系统测试中让工作人员可以降低设定或保养时的人为疏失，以及工作人员能够依据显示的数值而快速诊断，并辨别出异常问题点，从而达到实时察觉异常问题，并尽早排除异常情况。附图说明图1为本技术第一实施例的装置方块示意图。图2为本技术第一实施例的另一装置方块示意图。图3为本技术第一实施例的装设于机金属化学气相沉积(MOCVD,Metal-organicChemicalVaporDeposition)系统设备的示意图。图4为本技术第一实施例的装置立体图。图5为本技术第一实施例的结构示意图。图6为本技术第一实施例的运作状态示意图。图7为本技术第二实施例的装置立体图。图8为本技术第二实施例的结构示意图。图9为本技术第二实施例的运作状态示意图。附图标记说明：100-气体温度调节装置；10-机壳；11-输入口；12-输出口；13-容置空间；14-通孔；20-散热模块；21-散热鳍片；22-风扇单元；23-水冷头；231-流动腔室；232-连接端；24-输液管；25-泵浦；26-储液桶；30-致冷模块；31-发热部；32-致冷部；33-致冷芯片；40-降温结构；41-降温块；42-流道；50-运算处理模块；60-侦测模块；70-显示设置模块；71-显示屏幕；72-设定键；80-声光警示模块；81-处理单元；82-发声单元；83-发光单元；A-载体气体；B-水液；200-半导体系统设备。具体实施方式请参阅图1及图2，并搭配图3、图4及图5所示，为本技术第一实施例的装置方块示意图、另一装置方块示意图、装设于机金属化学气相沉积系统设备的示意图、装置立体图及结构示意图，其揭露有一种具有显示监测功能的气体温度本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种具有显示监测功能的气体温度调节装置，其特征在于，包含有：一机壳，其外侧设有至少一输入口及至少一输出口，且所述机壳内具有一容置空间；一散热模块，其设于所述容置空间；一致冷模块，其具有一发热部及一致冷部，所述致冷模块具有多个致冷芯片，而所述发热部组接有所述散热模块；一降温结构，其组设所述致冷部，且所述降温结构具有至少一流道，所述流道供一载体气体流通，而所述流道分别连通所述输入口及所述输出口；一运算处理模块，其电性连接所述散热模块及所述致冷模块，所述运算处理模块存有至少一监测范围值；一侦测模块，其设于所述机壳内并电性连接所述运算处理模块及所述致冷模块，且所述侦测模块用以对所述流道内的流量及温度进行感测，并产生至少一感测信息，并传输至所述运算处理模块；及一显示设置模块，其组设于所述机壳的外侧，并电性连接所述运算处理模块及所述侦测模块；其中，所述运算处理模块用以控制所述致冷模块的作动，以及用以将所述感测信息与所述监测范围值进行比对运算处理，并产生至少一运作监测信息或至少一异常监测信息，而所述显示设置模块显示所述运作监测信息或所述异常监测信息。

【技术特征摘要】
1.一种具有显示监测功能的气体温度调节装置，其特征在于，包含有：一机壳，其外侧设有至少一输入口及至少一输出口，且所述机壳内具有一容置空间；一散热模块，其设于所述容置空间；一致冷模块，其具有一发热部及一致冷部，所述致冷模块具有多个致冷芯片，而所述发热部组接有所述散热模块；一降温结构，其组设所述致冷部，且所述降温结构具有至少一流道，所述流道供一载体气体流通，而所述流道分别连通所述输入口及所述输出口；一运算处理模块，其电性连接所述散热模块及所述致冷模块，所述运算处理模块存有至少一监测范围值；一侦测模块，其设于所述机壳内并电性连接所述运算处理模块及所述致冷模块，且所述侦测模块用以对所述流道内的流量及温度进行感测，并产生至少一感测信息，并传输至所述运算处理模块；及一显示设置模块，其组设于所述机壳的外侧，并电性连接所述运算处理模块及所述侦测模块；其中，所述运算处理模块用以控制所述致冷模块的作动，以及用以将所述感测信息与所述监测范围值进行比对运算处理，并产生至少一运作监测信息或至少一异常监测信息，而所述显示设置模块显示所述运作监测信息或所述异常监测信息。2.根据权利要求1所述的具有显示监测功能的气体温度调节装置，其特征在于，所述显示设置模块具有至少一显示屏幕及多个设定键。3.根据权利要求1所述的具有显示监测功能的气体温度调节装置，其特征在于，所述流道供一载体气体流通，而所述运算处理模块控制所述致冷模块的作动，以供驱使所述致冷模块对所述降温结构的流道内的载体气体进行降温，所...

【专利技术属性】
技术研发人员：张宝曜，林立崧，
申请(专利权)人：捷亮科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71