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关于青椒的种植技术制造技术

技术编号:20501204 阅读:30 留言:0更新日期:2019-03-05 21:36
关于青椒的种植技术,其特点是:1、整地起垄:按照常规整理灌溉土地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;2、播种:将种子提前用营养液浸泡12小时。按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,用手耙轻耧一下,然后,覆土深至2厘米,为防地下害虫钻食种子及幼苗,覆土后,将地块全部打一遍除草剂,在种穴上按垄覆盖一层地膜,地膜两边压土以防风吹;3、幼苗保护:待4天5宿后,将种穴上的地膜打一孔,以利于幼苗生长;此技术适用于青椒播种使用。

Planting Technology of Green Pepper

The characteristics of green pepper planting technology are as follows: 1. Land preparation and ridging: according to the conventional arrangement of irrigated land, ridging and furrowing, fertilization, ridge combination, ridge spacing 80-90 cm; 2. Sowing: Soak seeds in advance with nutrient solution for 12 hours. According to 30 cm plant spacing, 1-3 seeds per hole are seeded on demand with a seeder. Later, rake them lightly with a hand, and then cover the soil to 2 cm deep to prevent underground pests from drilling seeds and seedlings. After covering the soil, all the plots are covered with herbicide once, a layer of plastic film is covered on the ridge of the seed hole, and the two sides of the plastic film are pressed to prevent wind blowing. 3. Seedling protection: after 4 days and 5 beds, the plastic film on the seed hole is beaten. One hole for seedling growth; this technology is suitable for green pepper sowing.

【技术实现步骤摘要】
关于青椒的种植技术
本专利技术涉及蔬菜种植领域,具体的说是关于青椒的种植技术。
技术介绍
目前,青椒的播种主要采用传统的埋土包方式,即采用开沟、施肥、起垄、开穴、播种的传统工艺方式,其缺点是在播种过程中,无论播种深浅,出苗都易受天气影响,一旦碰上连续降雨,土堆就容易板结,或造成出苗不齐、不均匀的状况,不利于培育选择壮苗,也对后期大田的管理有着不利影响。
技术实现思路
本专利技术为解决上述技术问题,所采取的技术方案,青椒一播全苗播种技术,其特殊之处是包括以下过程:1、整地起垄:按照常规整理灌溉土地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;2、播种:将种子提前用营养液浸泡12小时。按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,用手耙轻耧一下,然后,覆土深至2厘米,为防地下害虫钻食种子及幼苗,覆土后,将地块全部打一遍除草剂,在种穴上按垄覆盖一层地膜,地膜两边压土以防风吹;3、幼苗保护:待4天5宿后,将种穴上的地膜打一孔,以利于幼苗生长。技术效果本专利技术的技术效果是,采用上述技术方案,可以实现一播全苗的成果,这种方式不仅方便、实用,而且可以达到出苗快、匀、齐,有利于培育选择壮苗,不易烤苗的效果,对于后期大田管理有着很好的辅助作用。具体实施方式1、整地起垄:按照常规整理灌溉土地,耕地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;2、播种:将种子提前用营养液浸泡12小时。按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,用手耙轻耧一下,然后,覆土深至2厘米,为防地下害虫钻食种子及幼苗,覆土后,将地块全部打一遍除草剂,在种穴上按垄覆盖一层地膜,地膜两边压土以防风吹;3、幼苗保护:待4天5宿后,将种穴上的地膜打一孔,以利于幼苗生长。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.关于青椒的种植技术,其特征是包括以下过程:整地起垄:按照常规整理灌溉土地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;播种:将种子提前用营养液浸泡12小时;按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,用手耙轻耧一下,然后,覆土深至2厘米,为防地下害虫钻食种子及幼苗,覆土后,将地块全部打一遍除草剂,在种穴上按垄覆盖一层地膜,地膜两边压土以防风吹;3、幼苗保护:待4天5宿后,将种穴上的地膜打一孔,以利于幼苗生长。

【技术特征摘要】
1.关于青椒的种植技术,其特征是包括以下过程:整地起垄:按照常规整理灌溉土地,起垄开沟、施肥、合垄,垄距80—90厘米;播种:将种子提前用营养液浸泡12小时;按30厘米株距,用播种机每穴点播种子1—3粒,稍后,...

【专利技术属性】
技术研发人员:万太胜
申请(专利权)人:万太胜
类型:发明
国别省市:山东,37

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