一种屏蔽装置制造方法及图纸

技术编号:20431385 阅读:42 留言:0更新日期:2019-02-23 10:59
本实用新型专利技术实施例提供了一种屏蔽装置,该屏蔽装置包括:上屏蔽罩体和下屏蔽罩体;所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接,形成屏蔽腔;所述屏蔽腔,用于放置待屏蔽对象。因此,本实用新型专利技术提供的方案可以提高待屏蔽对象的抗电磁干扰能力。

A Shielding Device

The embodiment of the utility model provides a shielding device, which comprises an upper shielding cover body and a lower shielding cover body; the upper shielding cover body is connected with the lower shielding cover body to form a shielding cavity; and the shielding cavity is used for placing the shielding object. Therefore, the scheme provided by the utility model can improve the anti-electromagnetic interference ability of the object to be shielded.

【技术实现步骤摘要】
一种屏蔽装置
本技术涉及机械
,特别是涉及一种屏蔽装置。
技术介绍
随着科学技术的发展越来越多的电子设备应用到人们的生活中。电子设备中包括有各种保证其运行的电路、电子元件等电子部件。这些电子部件在通电或运行时,会对其周围的电子部件产生电磁干扰,从而导致被干扰的电子部件的工作受到影响。因此,急需一种屏蔽装置来提高这些电子部件的抗电磁干扰能力。
技术实现思路
有鉴于此,本技术实施例提出了一种屏蔽装置,主要目的在于可以提高待屏蔽对象的抗电磁干扰能力。本技术实施例提供了一种屏蔽装置,该屏蔽装置包括:上屏蔽罩体和下屏蔽罩体;所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接,形成屏蔽腔;所述屏蔽腔,用于放置待屏蔽对象。可选的,所述上屏蔽罩体中包括第一罩设体;所述第一罩设体,用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件。可选的,所述下屏蔽罩体中包括第二罩设体;所述第二罩设体,用于对应罩设所述待屏蔽对象的下表面上的第二待屏蔽元件。可选的,在所述上屏蔽罩体中包括所述第一罩设体时,所述第一罩设体的数量根据所述第一待屏蔽元件的数量确定;在所述下屏蔽罩体中包括所述第二罩设体时,所述第二罩设体的数量根据所述第二待屏蔽本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏蔽装置,其特征在于,包括:上屏蔽罩体和下屏蔽罩体;所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接,形成屏蔽腔;所述屏蔽腔,用于放置待屏蔽对象;所述上屏蔽罩体中包括第一罩设体;所述第一罩设体,用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件;和/或,所述下屏蔽罩体中包括第二罩设体;所述第二罩设体,用于对应罩设所述待屏蔽对象的下表面上的第二待屏蔽元件。

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽装置,其特征在于,包括:上屏蔽罩体和下屏蔽罩体;所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接,形成屏蔽腔;所述屏蔽腔,用于放置待屏蔽对象;所述上屏蔽罩体中包括第一罩设体;所述第一罩设体,用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件;和/或,所述下屏蔽罩体中包括第二罩设体;所述第二罩设体,用于对应罩设所述待屏蔽对象的下表面上的第二待屏蔽元件。2.根据权利要求1所述的屏蔽装置,其特征在于,在所述上屏蔽罩体中包括所述第一罩设体时,所述第一罩设体的数量根据所述第一待屏蔽元件的数量确定;在所述下屏蔽罩体中包括所述第二罩设体时,所述第二罩设体的数量根据所述第二待屏蔽元件的数量确定。3.根据权利要求1所述的屏蔽装置,其特征在于,所述上屏蔽罩体为平面结构;和/或,所述下屏蔽罩体为平面结构。4.根据权利要求1所述的屏蔽装置,其特征在于,所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体的尺寸和形状均相同;或,所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体的尺寸,和/或,所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体的形状不相同。5.根据权利要求1至4中任一所述的屏蔽装置,其特征在于,所述屏蔽装置进一步包括:连接件;所述上屏蔽罩体,和/或,所述下屏蔽罩体的尺寸小于所述待屏蔽对象的尺...

【专利技术属性】
技术研发人员:张立涛葛忠磊
申请(专利权)人:出门问问信息科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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