一种屏蔽装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术实施例提供了一种屏蔽装置，该屏蔽装置包括：上屏蔽罩体和下屏蔽罩体；所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接，形成屏蔽腔；所述屏蔽腔，用于放置待屏蔽对象。因此，本实用新型专利技术提供的方案可以提高待屏蔽对象的抗电磁干扰能力。

A Shielding Device

The embodiment of the utility model provides a shielding device, which comprises an upper shielding cover body and a lower shielding cover body; the upper shielding cover body is connected with the lower shielding cover body to form a shielding cavity; and the shielding cavity is used for placing the shielding object. Therefore, the scheme provided by the utility model can improve the anti-electromagnetic interference ability of the object to be shielded.

【技术实现步骤摘要】
一种屏蔽装置
本技术涉及机械
，特别是涉及一种屏蔽装置。
技术介绍
随着科学技术的发展越来越多的电子设备应用到人们的生活中。电子设备中包括有各种保证其运行的电路、电子元件等电子部件。这些电子部件在通电或运行时，会对其周围的电子部件产生电磁干扰，从而导致被干扰的电子部件的工作受到影响。因此，急需一种屏蔽装置来提高这些电子部件的抗电磁干扰能力。
技术实现思路
有鉴于此，本技术实施例提出了一种屏蔽装置，主要目的在于可以提高待屏蔽对象的抗电磁干扰能力。本技术实施例提供了一种屏蔽装置，该屏蔽装置包括：上屏蔽罩体和下屏蔽罩体；所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接，形成屏蔽腔；所述屏蔽腔，用于放置待屏蔽对象。可选的，所述上屏蔽罩体中包括第一罩设体；所述第一罩设体，用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件。可选的，所述下屏蔽罩体中包括第二罩设体；所述第二罩设体，用于对应罩设所述待屏蔽对象的下表面上的第二待屏蔽元件。可选的，在所述上屏蔽罩体中包括所述第一罩设体时，所述第一罩设体的数量根据所述第一待屏蔽元件的数量确定；在所述下屏蔽罩体中包括所述第二罩设体时，所述第二罩设体的数量根据所述第二待屏蔽元件的数量确定。可选的，所述上屏蔽罩体为平面结构。可选的，所述下屏蔽罩体为平面结构。可选的，所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体的尺寸和形状均相同。可选的，所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体的尺寸，和/或，所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体的形状不相同。可选的，所述屏蔽装置进一步包括：连接件；所述上屏蔽罩体，和/或，所述下屏蔽罩体的尺寸小于所述待屏蔽对象的尺寸；所述连接件，用于穿过所述待屏蔽对象连接所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体。可选的，所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体以固定连接方式连接。可选的，所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体以活动连接方式连接。可选的，在所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体以固定连接方式连接时，所述上屏蔽罩体或所述下屏蔽罩体上设置至少一个焊接孔；所述下屏蔽罩体或所述上屏蔽罩体上设置至少一个焊接件；所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体通过所述至少一个焊接孔和至少一个焊接件焊接连接。可选的，在所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体以活动连接方式连接时，所述上屏蔽罩体或所述下屏蔽罩体上设置至少一个卡接孔；所述下屏蔽罩体或所述上屏蔽罩体上设置至少一个卡接件；所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体通过所述至少一个卡接孔和至少一个卡接件卡接连接。可选的，所述上屏蔽罩体上设置有至少一个第一散热孔。可选的，所述下屏蔽罩体上设置有至少一个第二散热孔。可选的，所述上屏蔽罩体为金属的上屏蔽罩体。可选的，所述下屏蔽罩体为金属的下屏蔽罩体。本技术实施例提供了一种屏蔽装置，该屏蔽装置包括上屏蔽罩体和下屏蔽罩体。其中，上屏蔽罩体与下屏蔽罩体连接形成屏蔽腔，而屏蔽腔用于放置待屏蔽对象。通过上述可知，在本技术实施例中由于上屏蔽罩体与下屏蔽罩体连接形成的屏蔽腔中可以放置待屏蔽对象，在一定程度上上屏蔽罩体与下屏蔽罩体可以屏蔽电磁干扰。因此，本技术实施例提供的方案可以提高待屏蔽对象的抗电磁干扰能力。上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本技术的上述和其它目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举本技术的具体实施方式。附图说明为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1示出了本技术一个实施例提供的一种屏蔽装置的结构示意图；图2示出了本技术另一个实施例提供的一种屏蔽装置的结构示意图；图3示出了本技术又一个实施例提供的一种屏蔽装置的结构示意图；图4示出了本技术一个实施例提供的一种放置了待屏蔽对象的屏蔽装置的剖视图；图5示出了本技术另一个实施例提供的一种放置了待屏蔽对象的屏蔽装置的剖视图；图6示出了本技术又一个实施例提供的一种放置了待屏蔽对象的屏蔽装置的剖视图；图7示出了本技术又一个实施例提供的一种屏蔽装置的结构示意图。具体实施方式下面将参照附图更加详细地描述本公开的示例性实施例。虽然附图中显示了本公开的示例性实施例，然而应当理解，可以以各种形式实现本公开而不应被这里阐述的实施例所限制。相反，提供这些实施例是为了能够更透彻地理解本公开，并且能够将本公开的范围完整的传达给本领域的技术人员。如图1所示，本技术实施例提供了一种屏蔽装置，该屏蔽装置包括：上屏蔽罩体101和下屏蔽罩体102；所述上屏蔽罩体101与所述下屏蔽罩体102连接，形成屏蔽腔；所述屏蔽腔，用于放置待屏蔽对象。根据图1所示的实施例，该屏蔽装置包括上屏蔽罩体和下屏蔽罩体。其中，上屏蔽罩体与下屏蔽罩体连接形成屏蔽腔，而屏蔽腔用于放置待屏蔽对象。通过上述可知，在本技术实施例中由于上屏蔽罩体与下屏蔽罩体连接形成的屏蔽腔中可以放置待屏蔽对象，在一定程度上上屏蔽罩体与下屏蔽罩体可以屏蔽电磁干扰。因此，本技术实施例提供的方案可以提高待屏蔽对象的抗电磁干扰能力。在本技术一个实施例中，图1中上屏蔽罩体101和下屏蔽罩体102之间的物体为待屏蔽对象。在本技术一个实施例中，如图2和图3所示均为屏蔽装置的结构示意图。从图中可以看出上屏蔽罩体101和下屏蔽罩体102之间形成了屏蔽腔，且屏蔽腔中放置了待屏蔽对象20。在本实施例中，待屏蔽对象的具体类型可以根据业务要求确定。只要需要抗电磁干扰的产品均可以被当作待屏蔽对象。比如，待屏蔽对象可以为电路板。在本技术一个实施例中，所述上屏蔽罩体101中包括第一罩设体1011；所述第一罩设体1011，用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件。在本实施例中，第一罩设体1011的数量根据第一待屏蔽元件的数量确定。第一待屏蔽元件的数量越多，且布置越分散，第一罩设体的数量越多。在本实施例中，每一个第一罩设体1011中罩设腔的大小应能保证可以完全罩设住对应的第一待屏蔽元件。在本实施例中，举例说明：当各个第一待屏蔽元件布置的较为集中时，可以设置一个第一罩设体1011。当各个第一待屏蔽元件布置的较为分散，则根据分散程度来设置第一罩设体1011的数量。在本实施例中，举例说明：如图4所示，图4为一个放置了待屏蔽对象的屏蔽装置的剖视图。从图中可以看出由于待屏蔽对象20上表面上的各个第一待屏蔽元件201布置的较为集中。因此上屏蔽罩体101中仅包括有一个第一罩设体1011。在本实施例中，举例说明：如图6所示，图6为一个放置了待屏蔽对象的屏蔽装置的剖视图。从图中可以看出由于待屏蔽对象20上表面上的各个第一待屏蔽元件201布置的较为分散。因此上屏蔽罩体101中包括有两个第一罩设体1011。根据上述实施例，在待屏蔽对象的上表面中有一个或多个第一待屏蔽元件时，上屏蔽罩体中可以包括有一个或多个第一罩设体。每一个第一罩设体用于罩设对应的一个或多个目标第一待屏蔽元件。由于上屏蔽罩体中包括第一罩设体的数量可以根据待屏蔽对象中包括的待屏蔽元件的数量确定。因此本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种屏蔽装置，其特征在于，包括：上屏蔽罩体和下屏蔽罩体；所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接，形成屏蔽腔；所述屏蔽腔，用于放置待屏蔽对象；所述上屏蔽罩体中包括第一罩设体；所述第一罩设体，用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件；和/或，所述下屏蔽罩体中包括第二罩设体；所述第二罩设体，用于对应罩设所述待屏蔽对象的下表面上的第二待屏蔽元件。

【技术特征摘要】
1.一种屏蔽装置，其特征在于，包括：上屏蔽罩体和下屏蔽罩体；所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体连接，形成屏蔽腔；所述屏蔽腔，用于放置待屏蔽对象；所述上屏蔽罩体中包括第一罩设体；所述第一罩设体，用于对应罩设所述待屏蔽对象的上表面上的第一待屏蔽元件；和/或，所述下屏蔽罩体中包括第二罩设体；所述第二罩设体，用于对应罩设所述待屏蔽对象的下表面上的第二待屏蔽元件。2.根据权利要求1所述的屏蔽装置，其特征在于，在所述上屏蔽罩体中包括所述第一罩设体时，所述第一罩设体的数量根据所述第一待屏蔽元件的数量确定；在所述下屏蔽罩体中包括所述第二罩设体时，所述第二罩设体的数量根据所述第二待屏蔽元件的数量确定。3.根据权利要求1所述的屏蔽装置，其特征在于，所述上屏蔽罩体为平面结构；和/或，所述下屏蔽罩体为平面结构。4.根据权利要求1所述的屏蔽装置，其特征在于，所述上屏蔽罩体与所述下屏蔽罩体的尺寸和形状均相同；或，所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体的尺寸，和/或，所述上屏蔽罩体和所述下屏蔽罩体的形状不相同。5.根据权利要求1至4中任一所述的屏蔽装置，其特征在于，所述屏蔽装置进一步包括：连接件；所述上屏蔽罩体，和/或，所述下屏蔽罩体的尺寸小于所述待屏蔽对象的尺...

【专利技术属性】
技术研发人员：张立涛，葛忠磊，
申请(专利权)人：出门问问信息科技有限公司，
类型：新型
国别省市：北京,11