【技术实现步骤摘要】
一种无线充电线圈模组及其制造方法
本申请涉及无线充电领域,尤其涉及一种无线充电线圈模组及其制造方法。
技术介绍
随着各类电子产品普及率的不断提高,用户对电子产品的充电需求也越来越高,无线充电技术凭借其更加便利的特点逐渐成为对电子产品进行充电的新趋势。无线充电技术要求电子产品中设置有无线充电接收线圈,用于接收无线充电器上无线充电发射线圈所产生的电磁波,从而进行充电。传统的无线充电接收线圈通常在基板上面先后设置有保护层、线圈层、粘接层以及绝缘层,其中,保护层用于保护线圈层中的金属线圈不被氧化,粘接层用于将绝缘层固定在线圈层上。然而,目前的电子产品都在朝着更轻更薄的方向发展,因此对无线充电接收线圈的整体厚度是有限制的,使得线圈层的厚度减小,线圈的通流能力减弱,导致充电的效率减低,影响用户体验。
技术实现思路
本申请实施例提供了一种无线充电线圈模组及其制造方法,在线圈模组整体厚度受限的情况下,可以最大限度的增加线圈层的厚度,提高了线圈的通流能力,提高了线圈模组的充电效率,进而提升了用户体验。有鉴于此,本申请实施例第一方面提供了一种无线充电线圈模组的制造方法,包括:形成基板;在所述基板的上表面形成保护层,所述保护层是通过溅射形成的种子层,以减少所述保护层的厚度;在所述保护层的上表面形成线圈层,所述线圈层包括N层金属线圈以及N层绝缘层,所述N为大于或等于1的整数,所述线圈层中的每一层金属线圈的上表面形成有绝缘层,所述种子层用于增加所述基板与所述线圈层之间的结合力;在所述线圈层的上表面形成屏蔽层,并形成所述无线充电线圈模组。本实施例中,基板和线圈层之间的保护层是通过溅射工艺 ...
【技术保护点】
1.一种无线充电线圈模组的制造方法,其特征在于,包括:形成基板;在所述基板的上表面形成保护层,所述保护层是通过溅射形成的种子层,以减少所述保护层的厚度;在所述保护层的上表面形成线圈层,所述线圈层包括N层金属线圈以及N层绝缘层,所述N为大于或等于1的整数,所述线圈层中的每一层金属线圈的上表面形成有绝缘层,所述种子层用于增加所述基板与所述线圈层之间的结合力;在所述线圈层的上表面形成屏蔽层,并形成所述无线充电线圈模组。
【技术特征摘要】
1.一种无线充电线圈模组的制造方法,其特征在于,包括:形成基板;在所述基板的上表面形成保护层,所述保护层是通过溅射形成的种子层,以减少所述保护层的厚度;在所述保护层的上表面形成线圈层,所述线圈层包括N层金属线圈以及N层绝缘层,所述N为大于或等于1的整数,所述线圈层中的每一层金属线圈的上表面形成有绝缘层,所述种子层用于增加所述基板与所述线圈层之间的结合力;在所述线圈层的上表面形成屏蔽层,并形成所述无线充电线圈模组。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述N为大于1的整数,在所述保护层的上表面形成线圈层包括:在所述保护层的上表面电镀第一层金属线圈;在所述第一层金属线圈的上表面旋涂第一层绝缘层;基于所述第一层金属线圈和第一层绝缘层的加工方式,逐层加工至第N层金属线圈以及第N层绝缘层。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在每一层绝缘层中加工至少一个通孔,所述至少一个通孔连接与所述每一层绝缘层相邻的两层金属线圈。4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述线圈层中的每一层金属线圈至少包括M圈,所述M为大于1的整数。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:在所述基板的上表面加工凹槽,所述凹槽的尺寸与第1层金属线圈中第1圈到第M圈的距离相适配。6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:对所述线圈层进行加工得到第一接头和第二接头,所述第一接头位于所述线圈层中第1层金属线圈的第1圈的一端,所述第二接头位于所述线圈层中第N层金属线圈的第M圈的一端;将所述第一接头沿着所述凹槽由第1层金属线圈的第1圈引出至第1层金属线圈的第M圈的外侧。7.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述N为大于1的整数,所述方法还包括:对所述线圈层进行加工得到第一接头和第二接头,所述第一接头位于所述线圈层中第N层金属线圈的第1圈的一端,所述第二接头位于所述线圈层中第1层金属线圈的第M圈的一端;将所述第一接头由第N层金属线圈的第1圈引出至第N层金属线圈的第M圈的外侧。8.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述屏蔽层的边缘朝着线圈层的方向呈弯曲形状,其中,所述屏蔽层的横截面积大于所述线圈层的横截面积。9.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,在所述线圈层的上表面形成屏蔽层包括:在第N层绝缘层的上表面电镀或粘贴所述屏蔽层。10.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述种子层的厚度小于1μm,每一层绝缘层的厚度均小于1μm,所述屏蔽层的厚度小于1μm。11.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述基板为非金属基板,所述基板的材料包括陶瓷或玻璃;所述屏蔽层的材料包括磁性材料。12.根据权利要求1至7中任一项所述的方法,其特征在于,所述N层金属线圈的形状包括圆形线圈、椭圆形线圈和/或四边形线圈。13...
【专利技术属性】
技术研发人员:胡小情,景遐明,罗涛,林勇钊,刘志芳,
申请(专利权)人:华为技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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