流量控制装置、流量控制方法和程序存储介质制造方法及图纸

本发明专利技术提供流量控制装置、流量控制方法和程序存储介质，能够以比以往小的时间延迟得到作为控制点的阀中的实际流量，可以通过使测定点与控制点一致而大幅度提高响应速度。为此，流量控制装置包括：流体阻力件，设置于流路；下游侧阀，设置在流体阻力件的下游侧；下游侧压力传感器，测定所述流体阻力件与所述下游侧阀之间的所述流路的容积部中的压力；第一流量算出部，计算出流过所述流体阻力件的第一流量；第二流量算出部，基于第一流量和由所述下游侧压力传感器测定的下游侧压力的时间变化量，计算出从所述下游侧阀流出的第二流量；以及流量控制部，基于设定流量和第二流量来控制所述下游侧阀。

【技术实现步骤摘要】
流量控制装置、流量控制方法和程序存储介质
本专利技术涉及一种流量控制装置，该流量控制装置例如用于控制半导体制造装置所使用的流体的流量。
技术介绍
在半导体工序中，为了控制例如向蚀刻室内导入的各种气体的流量而使用被称为质量流量控制器的流量控制装置，该流量控制装置将各种流体设备与控制机构集成化。例如，质量流量控制器包括：流量传感器，设置于流路；阀，设置在流量传感器的下游侧；以及流量控制部，以使由流量传感器测定的测定流量成为作为目标值的设定流量的方式控制所述阀的开度(参照专利文献1)。在这种质量流量控制器中需求提高响应速度，以便使阀的下游侧流动的实际的气体流量尽可能快地追随设定流量。但是，近年来在半导体制造工序中所需求的响应速度非常严格，具有如上所述的流量控制系统的质量流量控制器越来越难以应对。本申请的专利技术人对其原因进行了认真研究后，发现了存在以下说明的原理性问题。即，在上述质量流量控制器中，对比阀更靠上游侧测定的流量进行反馈来控制阀，由流量传感器测定流量的测定点与由阀控制流量的控制点偏离了流量传感器与阀的设置间隔。例如，当流量传感器具有层流元件等流体阻力件时，以实现所需要的压力的方式本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种流量控制装置，其特征在于，包括：流体阻力件，设置于流路；下游侧阀，设置在流体阻力件的下游侧；下游侧压力传感器，测定所述流体阻力件与所述下游侧阀之间的所述流路的容积部中的压力；第一流量算出部，计算出流过所述流体阻力件的第一流量；第二流量算出部，基于第一流量和由所述下游侧压力传感器测定的下游侧压力的时间变化量，计算出从所述下游侧阀流出的第二流量；以及流量控制部，基于设定流量和第二流量来控制所述下游侧阀。

【技术特征摘要】
2017.07.31 JP 2017-1478011.一种流量控制装置，其特征在于，包括：流体阻力件，设置于流路；下游侧阀，设置在流体阻力件的下游侧；下游侧压力传感器，测定所述流体阻力件与所述下游侧阀之间的所述流路的容积部中的压力；第一流量算出部，计算出流过所述流体阻力件的第一流量；第二流量算出部，基于第一流量和由所述下游侧压力传感器测定的下游侧压力的时间变化量，计算出从所述下游侧阀流出的第二流量；以及流量控制部，基于设定流量和第二流量来控制所述下游侧阀。2.根据权利要求1所述的流量控制装置，其特征在于，所述第二流量算出部包括：变化量算出部，计算出下游侧压力的时间变化量；以及流量运算部，基于第一流量与根据下游侧压力的时间变化量计算出的换算流量之差，计算出第二流量。3.根据权利要求1所述的流量控制装置，其特征在于，还包括：上游侧阀，设置成比所述流体阻力件更靠上游侧；上游侧压力传感器，测定所述上游侧阀与所述流体阻力件之间的所述流路的容积部中的压力；以及压力控制部，基于设定压力和由所述上游侧压力传感器测定的上游侧压力来控制所述上游侧阀。4.根据权利要求3所述的流量控制装置，其特征在于，所述第一流量算出部基于上游侧压力和下游侧压力计算出流过所述流体阻力件的第一流量。5.根据权利要求1所述的流量控制装置，其特征在于，还包括诊断部，所述诊断部在所述下游侧阀关闭的状态下，对第一流量和第二流量进行比较来诊...

【专利技术属性】
技术研发人员：安田忠弘，比尔·怀特，帕特里克·洛厄里，麦斯米兰·冈德拉赫，瑞安·欧文斯，
申请(专利权)人：株式会社堀场STEC，
类型：发明
国别省市：日本,JP