The invention discloses a set-engraving measuring device based on deformation prevention and photoastigmatism matching four-sided clamp block. Its structure includes adjusting vertical bar, rotator, photolithography probe, mounting base, support rod, fixed screw rod and screw base with thread groove. The two cooperate with each other to fix and stabilize the light-gathering device, at the same time, make the positioning block press the material plate and the sleeve plate, and fix the warping plate and the pressing block to fit. Stable, prevent the press material board and cover board from dislocation due to vibration during photolithography, and then reduce the set error. There are four fastening rings, and they cooperate with each other to fasten around the photolithography probe. At the same time, the deformable plates are joined with each other to form a small space with the support plate, so that the photolithography probe can prevent the light source from scattering and improve efficiency in the process of lithography.
【技术实现步骤摘要】
一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置
本专利技术是一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置,属于光刻套刻装置领域。
技术介绍
雕刻技术分为多种,其中光刻套刻使利用激光及套板对材料进行雕刻,但是在装载材料与套板时,容易出现偏差,且由于激光雕刻时仍然会出现小幅振动,进而使材料与套板出现轻微错位,再者由于光源传播时环境的亮度会使其出现散射,影响效率。但现有套刻测量装置存在以下弊端:在装载材料与套板时,由于没有可以依据参考的实物件,故容易出现偏差,且由于激光雕刻时仍然会出现小幅振动,进而使材料与套板出现轻微错位,引起套刻误差,再者由于光源传播时环境的亮度会使其出现散射,影响效率。
技术实现思路
针对现有技术存在的不足,本专利技术目的是提供一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置,以解决在装载材料与套板时,由于没有可以依据参考的实物件,故容易出现偏差,且由于激光雕刻时仍然会出现小幅振动,进而使材料与套板出现轻微错位,引起套刻误差,再者由于光源传播时环境的亮度会使其出现散射,影响效率的问题。为了实现上述目的,本专利技术是通过如下的技术方案来实现:一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置,其结构包括调节竖杆、旋转器、光刻探头、置物座、底座、支撑杆,所述调节竖杆底部与底座后端固定连接,所述调节竖杆与底座顶部相互垂直,所述置物座底部与底座顶部固定连接,所述底座底部与支撑杆顶部为螺纹连接,所述支撑杆顶部与底座底部为垂直连接,所述旋转器右端与光刻探头左端为一体化结构,所述旋转器左端与调节竖杆上端为活动连接,旋转器为可旋转且可升降结构,便于调节光刻探头;所 ...
【技术保护点】
1.一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置,其结构包括调节竖杆(1)、旋转器(2)、光刻探头(3)、置物座(4)、底座(5)、支撑杆(6),其特征在于:所述调节竖杆(1)底部与底座(5)后端固定连接,所述调节竖杆(1)与底座(5)顶部相互垂直,所述置物座(4)底部与底座(5)顶部固定连接,所述底座(5)底部与支撑杆(6)顶部为螺纹连接,所述支撑杆(6)顶部与底座(5)底部为垂直连接,所述旋转器(2)右端与光刻探头(3)左端为一体化结构,所述旋转器(2)左端与调节竖杆(1)上端为活动连接;所述置物座(4)由主框架(41)、固定旋杆(42)、螺纹座(43)、稳定光聚装置(44)、滑轨(45)组成,所述主框架(41)外壁与螺纹座(43)外壁相焊接,所述稳定光聚装置(44)底部与滑轨(45)内部为活动连接,所述固定旋杆(42)右端与稳定光聚装置(44)底部相贴合,所述固定旋杆(42)中端与螺纹座(43)内壁为螺纹连接,所述稳定光聚装置(44)顶部与主框架(41)上端相贯通。
【技术特征摘要】
1.一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置,其结构包括调节竖杆(1)、旋转器(2)、光刻探头(3)、置物座(4)、底座(5)、支撑杆(6),其特征在于:所述调节竖杆(1)底部与底座(5)后端固定连接,所述调节竖杆(1)与底座(5)顶部相互垂直,所述置物座(4)底部与底座(5)顶部固定连接,所述底座(5)底部与支撑杆(6)顶部为螺纹连接,所述支撑杆(6)顶部与底座(5)底部为垂直连接,所述旋转器(2)右端与光刻探头(3)左端为一体化结构,所述旋转器(2)左端与调节竖杆(1)上端为活动连接;所述置物座(4)由主框架(41)、固定旋杆(42)、螺纹座(43)、稳定光聚装置(44)、滑轨(45)组成,所述主框架(41)外壁与螺纹座(43)外壁相焊接,所述稳定光聚装置(44)底部与滑轨(45)内部为活动连接,所述固定旋杆(42)右端与稳定光聚装置(44)底部相贴合,所述固定旋杆(42)中端与螺纹座(43)内壁为螺纹连接,所述稳定光聚装置(44)顶部与主框架(41)上端相贯通。2.根据权利要求1所述的一种基于形变防止光散配合四面夹块的套刻测量装置,其特征在于:所述稳定光聚装置(44)由聚光扣(441)、定位夹(442)、支撑板(443)、滑块(444)组成,所述聚光扣(441)底部与支撑板(443)顶部固定连接,所述支撑板(443)中端与定位夹(442)外壁为机械连接...
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