This application proposes an evaporation plating device and its control method. The evaporation plating device includes a platform for loading the target substrate; an evaporation plating component, which is relative to the platform, comprises a first shell; a first switch for controlling the opening or closing of the evaporation plating component; an evaporation source located in the first shell; and at least one connection with the evaporation plating source. Recovery tank. By setting at least one recovery tank connected with the evaporation source in the evaporation plating component, the application enables the evaporation plating material to be collected by the recovery tank during the substrate switching process, thereby reducing the waste of materials and reducing the production cost.
【技术实现步骤摘要】
蒸镀装置及其控制方法
本申请涉及面板制造领域,特别涉及一种蒸镀装置及其控制方法。
技术介绍
目前,有机发光二极管(OrganicLight-EmittingDiode,OLED)器件制作的主要方式是加热蒸发镀膜。在工艺上,由于蒸发镀膜不是连续蒸镀,每次完成一片基板的镀膜后,需要将蒸发源的开关闭合。而蒸镀装置不能关闭,只能直到下一片基板进入腔体后才将蒸发源的开关打开。因此,在基板切换过程中,蒸镀材料一直在消耗,造成了材料的浪费,导致显示面板的制造成本增加。因此,目前亟需一种新型的蒸镀装置解决上述问题。
技术实现思路
本申请提供一种蒸镀装置及其控制方法,以解决现有显示面板蒸镀过程中原材料浪费的技术问题。为解决上述技术问题,本申请提供的技术方案如下:本申请提供了一种蒸镀装置,其包括:载台,用于装载目标基板;蒸镀部件,与所述载台相对设置,所述蒸镀部件包括:第一壳体;第一开关,用于控制所述蒸镀部件的打开或闭合;位于所述第一壳体内的蒸镀源;以及与所述蒸镀源连接的至少一回收槽。在本申请的蒸镀装置中,所述蒸镀源包括第二壳体及设置于所述第二壳体上的第一通孔。在本申请的蒸镀装置中,所述蒸镀源还包括设置于所述第二壳体内的至少一气流分散板、及设置所述气流分散板上的第二通孔。在本申请的蒸镀装置中,靠近所述载台的所述气流分散板上的所述第二通孔的密度,不小于远离所述载台的所述气流分散板上的所述通孔的密度。在本申请的蒸镀装置中,靠近所述载台的所述气流分散板上所述第二通孔的孔径大小,不小于远离所述载台的所述气流分散板上的所述第二通孔的孔径大小。在本申请的蒸镀装置中,所述蒸镀部件还包括设置于所述 ...
【技术保护点】
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:载台,用于装载目标基板;蒸镀部件,与所述载台相对设置,所述蒸镀部件包括:第一壳体;第一开关,用于控制所述蒸镀部件的打开或闭合;位于所述第一壳体内的蒸镀源;以及与所述蒸镀源连接的至少一回收槽。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀装置,其特征在于,包括:载台,用于装载目标基板;蒸镀部件,与所述载台相对设置,所述蒸镀部件包括:第一壳体;第一开关,用于控制所述蒸镀部件的打开或闭合;位于所述第一壳体内的蒸镀源;以及与所述蒸镀源连接的至少一回收槽。2.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀源包括第二壳体及设置于所述第二壳体上的第一通孔。3.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀源还包括设置于所述第二壳体内的至少一气流分散板、及设置于所述气流分散板上的第二通孔。4.根据权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,靠近所述载台的所述气流分散板上的所述第二通孔的密度不小于远离所述载台的所述气流分散板上的所述通孔的密度。5.根据权利要求3所述的蒸镀装置,其特征在于,靠近所述载台的所述气流分散板上的所述第二通孔的孔径大小不小于远离所述载台的所述气流分散板上的所述第二通孔的孔径大小。6.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀部件还包括设置于所述第二壳体上的第三开关;所述第三开关覆盖所述第二壳体上的所述第一通孔。7.根据权利要求2所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀源还包括设置于所述第一通孔内的隔档板、及放置所述隔档板的凹槽。8.根据权利要求1所述的蒸镀装置,其特征在于,所述蒸镀部件还包括至少一第一通道;所述第一通道的一端与所述回收槽连接,所述第一通道的另一端与所述蒸镀源连接。9.根据权利要求8所述的蒸镀装置,其特征在于,每一所述第一通道上设置有至少一第二开关。10.根据权利要求8所述的蒸镀装置,其特征在于,每一所述回收槽与至少一所述...
【专利技术属性】
技术研发人员:徐超,
申请(专利权)人:武汉华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北,42
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