图形线宽测量方法及系统、数据处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。该图形线宽测量方法包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。本发明专利技术所提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置，能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。

【技术实现步骤摘要】
图形线宽测量方法及系统、数据处理装置
本专利技术涉及显示
，特别涉及一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。
技术介绍
为了生产出相同品质的显示产品，例如OLED产品，需要保证制作过程中基板上形成的图形的一致性，当基板上形成的图形的线宽均匀性存在周期性的变化或严重偏差时，对整体产品的特性将产生影响，产出的显示产品的画面可能会产生色差等现象。因此，对制作过程中在基板上形成的图形的线宽均匀性的管控尤为重要，而掩膜板的图形的线宽均匀性是影响形成在基板上的图形的线宽均匀性的最重要的因素。换言之，掩膜板的图形线宽问题和工艺方面的问题是造成基板上的图形的线宽均匀性问题的最主要的影响因素。掩膜板的图形线宽均匀性主要通过对掩膜板的图形的线宽进行测量后得出的数据，但是显示产品制作过程中所使用的掩膜板的大小往往较大，使得对掩膜板所有区域的图形进行线宽测量非常困难，耗时较长，测量效率低。因此，现有技术中，通常通过对掩膜板的局部区域的图形的线宽进行测量，将掩膜板局部区域的图形的线宽均匀性数据作为掩膜板所有区域的图形线宽均匀性数据。但现有技术中掩膜板的图形线宽测量方法，仅通过测量掩膜板的部分局部区域的图形线宽，无法准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性，且现有技术的方法难以实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量。
技术实现思路
本专利技术旨在至少解决上述现有技术中存在的技术问题之一，提供一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。为实现上述目的，本专利技术提供了一种图形线宽测量方法，该图形线宽测量方法包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。可选地，所述获取所述待测量区域的光透过率信息包括：获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。可选地，所述待测量区域的光透过率信息包括所述待测量区域的平均光透过率，所述平均光透过率为其中，TA为所述待测量区域的平均光透过率，IT1为所述第二光强，IT2为所述第一光强，C为预先获取的光强修正参数。可选地，所述确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息之后还包括：根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。为实现上述目的，本专利技术提供了一种数据处理装置，该数据处理装置包括获取模块和数据处理模块；所述获取模块用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；所述数据处理模块用于根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。可选地，所述获取模块具体用于获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。为实现上述目的，本专利技术提供了一种图形线宽测量系统，该图形线宽测量系统包括掩膜板和数据处理装置；所述数据处理装置用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。可选地，该图形线宽测量系统还包括光源和分光装置，所述光源与所述掩膜板的待测量区域对应设置，所述分光装置位于所述光源和所述掩膜板之间；所述光源用于向所述分光装置发射所述特定波长的光；所述分光装置用于将所述特定波长的光分成传输至所述掩膜板的待测量区域的光和未传输至所述掩膜板的待测量区域的光；所述数据处理装置具体用于获取未传输至所述掩膜板的待测量区域的光的第一光强和透过所述待测量区域的光的第二光强；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。可选地，该图形线宽测量系统还包括第一光强检测装置和第二光强检测装置，所述掩膜板位于所述第二光强检测装置和所述分光装置之间，所述第二光强检测装置与所述待测量区域对应设置，所述第二光强检测装置和所述第一光强检测装置分别与所述数据处理装置连接；所述第二光强测量装置用于检测透过所述待测量区域的光的第二光强，并向所述数据处理装置发送所述第二光强；所述第一光强测量装置用于检测未传输至所述掩膜板的待测量区域光的第一光强，并向所述数据处理装置发送所述第一光强。可选地，所述数据处理装置还用于根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。本专利技术的有益效果：本专利技术所提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置的技术方案中，获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息，从而能够实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量，并准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性。附图说明图1为现有技术中掩膜板图形线宽测量方法的示意图；图2为本专利技术实施例一提供的一种图形线宽测量方法的流程图；图3为本专利技术实施例二提供的一种图形线宽测量方法的流程图；图4为一种掩膜板的平面示意图；图5为光源、掩膜板、分光装置、第一光强检测装置和第二光强检测装置的结构示意图；图6为各图片信息对应的平均灰阶的示意图；图7为图形密度与平均灰阶的对应关系示意图；图8为本专利技术实施例三提供的一种数据处理装置的结构示意图；图9为本专利技术实施例四提供的一种图形线宽测量系统的结构示意图；图10为图9中的图形线宽测量系统的一种应用示意图。具体实施方式为使本领域的技术人员更好地理解本专利技术的技术方案，下面结合附图对本专利技术提供的图形线宽测量方法及系统、数据处理装置进行详细描述。图1为现有技术中掩膜板图形线宽测量方法的示意图，如图1所示，具体而言，现有技术中掩膜板局部区域的图形线宽测量方法，首先获取掩膜板需要测量的区域即局部区域的图片信息(图1左边部分)，然后通过图像处理的方式对该图片信息进行线宽测试，例如，根据图片信息获得图片信息对应的平均垂直光强(图1右边部分)，再根据平均垂直光强计算出掩膜板的局部区域的平均图形线宽CD。但现有技术中掩膜板的图形线宽测量方法，仅通过测量掩膜板的部分局部区域的图形线宽，无法准确地测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性，且该方法难以实现对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量。为更好地解决对掩膜板所有区域的图形线宽进行测量较难以及无法准确测量出掩膜板所有区域的图形线宽均匀性的问题，本专利技术提出一种图形线宽测量方法及系统、数据处理装置。图2为本专利技术实施例一提供的一种图形线宽测量方法的流程图，如图2所示，该图形线宽测量方法包括：步骤101、获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，掩膜板包括多个待测量区域。步骤102、根据待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出待测量区域的光透过率信息对应的图形本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种图形线宽测量方法，其特征在于，包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。

【技术特征摘要】
1.一种图形线宽测量方法，其特征在于，包括：获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。2.根据权利要求1所述的图形线宽测量方法，其特征在于，所述获取所述待测量区域的光透过率信息包括：获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所述待测量区域的上表面的光；根据所述第一光强和所述第二光强生成所述待测量区域的光透过率信息。3.根据权利要求2所述的图形线宽测量方法，其特征在于，所述待测量区域的光透过率信息包括所述待测量区域的平均光透过率，所述平均光透过率为其中，TA为所述待测量区域的平均光透过率，IT1为所述第二光强，IT2为所述第一光强，C为预先获取的光强修正参数。4.根据权利要求1所述的图形线宽测量方法，其特征在于，所述确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息之后还包括：根据所有待测量区域的图形线宽信息，绘制出所述掩膜板的图形线宽信息分布图。5.一种数据处理装置，其特征在于，包括获取模块和数据处理模块；所述获取模块用于获取掩膜板的待测量区域的光透过率信息，所述掩膜板包括多个待测量区域；所述数据处理模块用于根据所述待测量区域的光透过率信息和预先建立的光透过率信息和图形线宽信息的对应关系，确定出所述待测量区域的光透过率信息对应的图形线宽信息。6.根据权利要求5所述的数据处理装置，其特征在于，所述获取模块具体用于获取所述待测量区域对应的入射光的第一光强和对应的透射光的第二光强，所述透射光为透过所述待测量区域的光，所述入射光为入射至所...

【专利技术属性】
技术研发人员：成在文，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，成都京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11