一种高灵敏度传感器及其制备方法技术

技术编号:20220423 阅读:39 留言:0更新日期:2019-01-28 19:24
本发明专利技术公开一种高灵敏度传感器及其制备方法,其中,所述方法包括步骤:在烧结体基片表面制备柱状阵列碳纳米管膜;将气敏材料涂覆在所述表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片上,进行烧结处理,得到气敏烧结体;将加热丝放入所述气敏烧结体中,按照旁热式器件常规工艺进行焊接、封装、电老化,制成高灵敏度传感器。本发明专利技术通过在烧结体基片表面上制备柱状阵列碳纳米管膜,不仅增加了烧结体基片的比表面积,从而增加气敏材料涂覆在烧结体基片单位面积上的量;进一步地,具有较佳气敏性能的碳纳米管自身还能够和涂覆在其表面的气敏材料发生协同作用,从而有效提升传感器的灵敏度。

【技术实现步骤摘要】
一种高灵敏度传感器及其制备方法
本专利技术涉及气敏传感器领域,尤其涉及一种高灵敏度传感器及其制备方法。
技术介绍
气体传感器技术有着广阔的应用前景,可用于家庭、工厂、车间和矿山的各种易燃易爆或有害气体的检测。近年来,随着硅加工技术的发展,特别是微机械加工技术带来了制造加工技术的根本性变革。采用微电子、为机械加工和薄膜加工技术制备的微结构气敏传感器通常具有微型化、低功耗等优点。现有技术通常通过对气敏材料进行改进来提高气敏传感器的灵敏度,但是并不能取得显著的效果。因此,现有技术还有待于改进和发展。
技术实现思路
鉴于上述现有技术的不足,本专利技术的目的在于提供一种高灵敏度传感器及其制备方法,旨在解决现有气敏传感器灵敏度较差的问题。本专利技术的技术方案如下:一种高灵敏度传感器的制备方法,其中,包括步骤:将烧结体基片放入石英管中,以酞菁铁作为碳源和催化剂,在氩气和氢气的流动气氛中进行加热处理,得到表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片;将预先配制的气敏材料涂覆在所述表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片上,进行烧结处理,得到气敏烧结体;将加热丝放入所述气敏烧结体中,按照旁热式器件常规工艺进行本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种高灵敏度传感器的制备方法,其特征在于,包括步骤:将烧结体基片放入石英管中,以酞菁铁作为碳源和催化剂,在氩气和氢气的流动气氛中进行加热处理,得到表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片;将预先配制的气敏材料涂覆在所述表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片上,进行烧结处理,得到气敏烧结体;将加热丝放入所述气敏烧结体中,按照旁热式器件常规工艺进行焊接、封装、电老化,制成高灵敏度传感器。

【技术特征摘要】
1.一种高灵敏度传感器的制备方法,其特征在于,包括步骤:将烧结体基片放入石英管中,以酞菁铁作为碳源和催化剂,在氩气和氢气的流动气氛中进行加热处理,得到表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片;将预先配制的气敏材料涂覆在所述表面生长有柱状阵列碳纳米管膜的烧结体基片上,进行烧结处理,得到气敏烧结体;将加热丝放入所述气敏烧结体中,按照旁热式器件常规工艺进行焊接、封装、电老化,制成高灵敏度传感器。2.根据权利要求1所述高灵敏度传感器的制备方法,其特征在于,所述氩气和氢气的体积比为1:1。3.根据权利要求1所述高灵敏度传感器的制备方法,其特征在于,所述加热处理的温度为800-1000℃,加热时间为10-20min。4.根据权利要求1所述高灵敏度传感器的制备方法,其特征在于,所述烧结体基片表面生长的柱状阵列碳纳米管膜中,每根碳纳米管的直径为30-5...

【专利技术属性】
技术研发人员:陶晓彦
申请(专利权)人:安徽康佳同创电器有限公司
类型:发明
国别省市:安徽,34

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