一种Ni-Mo/g-C3N4复合光催化剂及其制备和应用制造技术

本发明专利技术涉及一种Ni‑Mo/g‑C3N4复合光催化剂及其制备和应用，催化剂是由Ni‑Mo合金纳米颗粒和g‑C3N4材料构筑而成的复合物；该催化剂的制备方法是以g‑C3N4为基体，通过一步还原法还原g‑C3N4与Ni‑Mo合金的前驱体制备得到；该复合光催化剂可有效降低光生电子与空穴的复合，提高光生电子与空穴的利用率，延长光催化剂的使用寿命，可用于光分解水制氢反应并具有较高的效率；其制备方法和所需设备简单，成本低，制备周期短且易于大规模生产。

【技术实现步骤摘要】
一种Ni-Mo/g-C3N4复合光催化剂及其制备和应用
本专利技术属于可见光催化剂及其制备和应用领域，特别涉及一种Ni-Mo/g-C3N4复合光催化剂及其制备和应用。
技术介绍
氢能是公认的清洁能源，作为低碳和零碳能源正在脱颖而出。21世纪，我国和美国、日本、加拿大、欧盟等都制定了氢能发展规划，并且目前我国已在氢能领域取得了多方面的进展，在不久的将来有望成为氢能技术和应用领先的国家之一。世界各国正在研究如何能大量而廉价的生产氢。利用太阳能来分解水是一个主要研究方向，在光的作用下将水分解成氢气和氧气，关键在于找到一种合适的催化剂。近年来，一种新型的、可见光下响应的非金属材料g-C3N4，由于禁带宽度(约2.7eV)较窄、化学稳定性好、制备方法简便等优点受到广泛的关注。但g-C3N4在光照下所产生的光生电子与空穴极易复合，导致其光催化的效果并不理想。为了抑制光生电子-空穴对的复合，可以将一些贵金属沉积在g-C3N4的表面作为助催化剂，提升其光生电子的输送效率，并抑制光生电子和空穴的复合，从而提高光催化效率。已见报道的贵金属主要包括Pt、Ag、Ir、Au、Ru、Pd、Rh等，其中有关Pt的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种Ni‑Mo/g‑C3N4复合光催化剂的制备方法，包括：(1)将镍源和钼源加入去水中至全部溶解，然后加入氨水溶液，再加入二甘醇，搅拌，加热，离心水洗，干燥，得到Ni‑Mo合金的前驱体；(2)将g‑C3N4与步骤(1)的Ni‑Mo合金的前驱体混合，在还原气氛下煅烧，得到Ni‑Mo/g‑C3N4复合光催化剂。

【技术特征摘要】
1.一种Ni-Mo/g-C3N4复合光催化剂的制备方法，包括：(1)将镍源和钼源加入去水中至全部溶解，然后加入氨水溶液，再加入二甘醇，搅拌，加热，离心水洗，干燥，得到Ni-Mo合金的前驱体；(2)将g-C3N4与步骤(1)的Ni-Mo合金的前驱体混合，在还原气氛下煅烧，得到Ni-Mo/g-C3N4复合光催化剂。2.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述镍源为六水合硝酸镍；钼源为七钼酸铵。3.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中镍源与钼源的质量比为1：9～9：1；加入的氨水溶液、二甘醇和水的体积比为1：45：5～...

【专利技术属性】
技术研发人员：张青红，韩鑫，王宏志，李耀刚，侯成义，
申请(专利权)人：东华大学，
类型：发明
国别省市：上海,31