一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法技术

技术编号:20155085 阅读:76 留言:0更新日期:2019-01-19 00:07
本发明专利技术公开了一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法,包括以下原料:酸液、增溶剂、表面活性剂、去离子水;酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成,增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成,表面活性剂为脂肪酸甘油酯。环保型显影槽污垢清除剂的制备方法,包括以下步骤:添水,向添加有去离子水的搅拌罐中加入硫酸溶液,向搅拌罐中加入盐酸,添加羟基乙酸,加乙醇,添加乙二醇单丁醚,添加二乙二醇单丁醚,添加表面活性剂,最后加入去离子水定容并充分搅拌。

【技术实现步骤摘要】
一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法
本专利技术涉及一种印制电路板制造工艺中的显影槽污垢清洗剂,具体是一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法。
技术介绍
在线路板的制造过程中,通过对材料的表面干膜曝光-显影-退膜-蚀刻-退膜等工艺,来实现图形的转移,在材料表面获得特殊的电路图形。PCB干膜显影液通常为1-3%碳酸钠溶液。碳酸钠溶液与干膜反应,将不需要的部分干膜剥离下来,在这个过程中,溶液中会溶解大量的干膜残渣。工业碳酸钠中含有少量杂质,生产车间经过长时间积累,残膜渣与其他杂质容易在显影设备中结垢,不利于生产,因此需要对设备进行清洗。目前显影槽清洗剂主要采用大量极性有机溶液对设备进行浸洗,虽然,有机溶剂可以有效的清洗设备中的各种污垢,但是,由于有机溶剂本身易挥发、气味大、易着火、毒性大、运输不安全、废水COD极高等特点,在使用时受到限制。另外,有机溶剂容易腐蚀显影槽的辊轮、槽体、管道等,也限制了其应用。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种环保型显影槽污垢清除剂及其制备方法和使用方法,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:一本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种环保型显影槽污垢清除剂,其特征在于,包括以下原料:酸液5‑30份、增溶剂5‑20份、表面活性剂1‑5份、去离子水45‑89份。

【技术特征摘要】
1.一种环保型显影槽污垢清除剂,其特征在于,包括以下原料:酸液5-30份、增溶剂5-20份、表面活性剂1-5份、去离子水45-89份。2.根据权利要求1所述的一种环保型显影槽污垢清除剂,其特征在于,包括以下原料:酸液10-20份、增溶剂8-16份、表面活性剂2-4份、去离子水57-77份。3.根据权利要求1所述的一种环保型显影槽污垢清除剂,其特征在于,包括以下原料:酸液15份、增溶剂12份、表面活性剂3份、去离子水65份。4.根据权利要求1-3任一所述的一种环保型显影槽污垢清除剂,其特征在于,所述酸液为硫酸、盐酸、硝酸、乙酸、羟基乙酸、柠檬酸等中的一种或多种成分按等质量比混合组成,增溶剂为乙醇、丙二醇、异丙醇、丁二醇、异丁醇、乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚等中的一种或多种成分按等质量比组成,表面活性剂为脂肪酸甘油酯。5.根据权利要求1所述的一种环保型显影槽污垢清除剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤一,添水,向搅拌罐中添加10-18升的去离子水,按动开关启动搅拌罐开始搅拌;步骤二,向添加有去离子水的搅拌罐中加入10-18升硫酸溶液,其中硫酸的质量分数为50%,继续搅拌20-40分钟;步骤三,再向搅拌罐中加入5-9...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘立志
申请(专利权)人:珠海特普力高精细化工有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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