一种安全控制系统及一种光刻机曝光系统技术方案

本实用新型专利技术涉及一种安全控制系统，包括：多个互锁开关、互锁回路、安全控制板卡及安全机构；其中，所述互锁回路接收多个所述互锁开关的信号；所述安全控制板卡获取所述互锁回路的信号，并依据接收的信号控制所述安全机构的状态。通过所述互锁回路对需安全保护的系统进行安全防护，通常是在工艺设备中出现问题后，安全控制系统暂停工艺，并发出指示预警，使操作者能及时发现故障，避免人体被伤害，使存在潜在危害的工艺安全可靠。所述安全控制板卡根据所述互锁回路的信号获取可能导致故障的因素，便于维修需安全保护的系统；并通过本系统进行安全控制，可弥补软件安全保护缺陷。增加操作面板的权限限制，从而加强安全保护意识和措施。

【技术实现步骤摘要】
一种安全控制系统及一种光刻机曝光系统
本技术涉及半导体设备行业的安全控制领域，特别涉及一种安全控制系统及一种光刻机曝光系统。
技术介绍
光刻机技术是利用曝光系统把掩膜版上的图形精确地投影曝光到涂过光刻胶的硅片上，这需要用高能量高频率的深紫外光作为光刻机的光源。众所周知，紫外线不能引起人们的视觉，并且波长越短对人体危害越大，而光刻机中采用的光源就是短波，它可穿过皮肤层直接对人体产生危害，同时因人体眼睛是紫外线的敏感器官，紫外光会对晶状体造成不可逆的损伤。因此光刻机中曝光分系统内对于紫外光的防护尤为重要。如图1所述，图1是一种常见的曝光分系统光路图，此种曝光分系统采用的光源为准分子激光器100，后续光路主要包括扩束镜组101，光束调整102，光束传输103，可变衰减器104，光能量探测器105，光束整形106，中继镜组107，匀光单元108，均匀性补偿器109，投影物镜110，点能量探测器111。其中激光器100发出光束后经过扩束镜组101后对光束的光斑尺寸进行放大并对光斑形状进行调整，然后经过光束传输102可实现光束20米距离的传输，同时通过光束调整系统实现光束位置和指向的闭环控制。而本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种安全控制系统，其特征在于，包括：多个互锁开关、互锁回路、安全控制板卡及安全机构；其中，所述互锁回路接收多个所述互锁开关的信号；所述安全控制板卡获取所述互锁回路的信号，并依据接收的信号控制所述安全机构的状态。

【技术特征摘要】
1.一种安全控制系统，其特征在于，包括：多个互锁开关、互锁回路、安全控制板卡及安全机构；其中，所述互锁回路接收多个所述互锁开关的信号；所述安全控制板卡获取所述互锁回路的信号，并依据接收的信号控制所述安全机构的状态。2.如权利要求1所述的安全控制系统，其特征在于，所述多个互锁开关串联至所述互锁回路。3.如权利要求1所述的安全控制系统，其特征在于，所述安全控制系统还包括操作面板，所述操作面板传递信号至所述安全控制板卡。4.如权利要求3所述的安全控制系统，其特征在于，所述操作面板包括钥匙开关、安全机构状态指示灯及危险源状态指示灯。5.一种光刻机曝光系统，其特征在于，包括：光源、光束调整结构、多个互锁开关、互锁回路、安全控制板卡及安全快门；其中，所述安全快门设置在所述光源与...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘婷婷，黄伟，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31