阵列基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置。该阵列基板包括衬底基板和阵列分布在衬底基板上的多个像素单元，像素单元包括透明隔离层、相变材料层和具有光反射作用的像素电极，透明隔离层和相变材料层依次层叠在像素电极上，当白光依次透射相变材料层和透明隔离层时，相变材料层和透明隔离层之间的干涉效应会改变透射光谱，使透射的光线会显示出一定的颜色，透射的光线在像素电极的作用下反射后可以进入观察者眼中，这样不设置彩膜基板也可以进行颜色显示，从光线入射相变材料层到光线经过像素电极反射后出射相变材料层的过程中，产生的总的光损失相对于光线两次透射彩膜层时产生的总的光损失要低，提高了反射式液晶显示装置的亮度。

Array Substrate and Its Fabrication Method and Display Device

The invention discloses an array substrate, a manufacturing method and a display device thereof. The array substrate includes a substrate substrate and a plurality of pixel units distributed on the substrate. The pixel units include a transparent isolation layer, a phase change material layer and a pixel electrode with light reflection. The transparent isolation layer and the phase change material layer are stacked on the pixel electrode in turn. When white light transmits the phase change material layer and the transparent isolation layer in turn, the phase change material layer and the transparent isolation layer are between the phase change material layer and the transparent isolation layer. The interference effect will change the transmission spectrum, so that the transmitted light will show a certain color. The transmitted light can be reflected by the pixel electrode into the eyes of the observer, so that the color display can also be carried out without the color film substrate. The total light loss occurs in the process from the light incident on the phase change material layer to the light reflecting from the pixel electrode to the phase change material layer. The total loss of light is lower than that of light transmitted twice through the color film layer, which improves the brightness of the reflective liquid crystal display device.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示装置领域，特别涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
液晶显示装置由于众多优点成为被广泛应用的一种显示器件。反射式液晶显示装置是液晶显示装置的一种，由于反射式液晶显示装置不需要设置背光源，因此整体的功耗很低。目前反射式液晶显示装置一般包括相对设置的阵列基板和彩膜基板，阵列基板上阵列分布有多个像素单元，每个像素单元包括像素电极，像素电极具有光反射作用。在阵列基板和彩膜基板之间夹有液晶层，当环境光透过彩膜基板后，通过调节液晶层中液晶分子的偏转角度，使环境光可以照射到像素电极上，像素电极对光线进行反射，反射的光线后再次透过彩膜基板，出射到观察者眼中，这样观察者就可以观察到所显示的画面。由于光线需要两次透过彩膜基板的彩膜层，在进出彩膜层时，在彩膜层的两个表面一共会产生四次反射，由彩膜层的反射以及彩膜层的吸收造成的光损失较高，使得反射式液晶显示装置的亮度较低。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，能够提高反射式液晶显示装置的亮度。所述技术方案如下：一方面，本专利技术实施例提供了一种阵列基板，包括衬底基板和阵列分布在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括透明隔离层、相变材料层和具有光反射作用的像素电极，所述透明隔离层和所述相变材料层依次层叠在所述像素电极上。可选地，所述多个像素单元的透明隔离层的厚度相同。可选地，所述像素单元还包括相变电极，在同一所述像素单元中，沿平行于所述衬底基板的方向，所述相变电极与所述像素电极并排布置，所述相变电极与所述像素电极绝缘，所述相变电极与所述相变材料层连接。可选地，所述相变电极为镍电极或镍合金电极。可选地，所述阵列基板还包括导电的透明覆盖层，所述透明覆盖层位于所述相变材料层上。可选地，所述阵列基板还包括在所述衬底基板上的相互绝缘的第一供电线和第二供电线，所述第一供电线与所述透明覆盖层连接，所述第二供电线与所述相变电极连接。可选地，所述多个像素单元包括第一像素单元和第二像素单元，所述第一像素单元的透明隔离层的厚度与所述第二像素单元的透明隔离层的厚度不同。可选地，所述阵列基板还包括透明绝缘层，所述透明绝缘层位于以下位置中的至少一处：所述像素电极与所述透明隔离层之间；所述透明隔离层与所述相变材料层之间。第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示装置，所述显示装置包括如前所述的阵列基板。第三方面，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括：提供一衬底基板；在所述衬底基板上形成阵列分布的多个像素单元，所述像素单元包括所述像素单元包括透明隔离层、相变材料层和具有光反射作用的像素电极，所述透明隔离层和所述相变材料层依次层叠在所述像素电极上。本专利技术实施例提供的技术方案带来的有益效果是：通过在衬底基板上设置阵列分布的多个像素单元，每个像素单元均包括像素电极和依次层叠在像素电极上的透明隔离层、相变材料层，相变材料层和透明隔离层构成光学谐振腔，当白光依次透射相变材料层和透明隔离层时，相变材料层和透明隔离层之间的干涉效应会改变透射光谱，使得只有一定范围内的波长的光可以透射，从而使透射的光线会显示出一定的颜色，透射的光线在像素电极的作用下反射后可以进入观察者眼中，这样不设置彩膜基板也可以进行颜色显示，而通过测试，从光线入射相变材料层到光线经过像素电极反射后出射相变材料层的过程中，产生的总的光损失相对于光线两次透射彩膜层时产生的总的光损失要低，因此可以提高反射式液晶显示装置的亮度。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部结构示意图；图2是图1中的A-A截面图；图3是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部截面示意图；图4是本专利技术实施例提供的一种像素单元的截面结构示意图；图5是本专利技术实施例提供的一种像素单元的截面结构示意图；图6是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部结构示意图；图7是图6中的C-C截面图；图8是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的结构示意图；图9是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部剖面示意图；图10是本专利技术实施例提供的另一种阵列基板的结构示意图；图11是本专利技术实施例提供的一种显示装置的结构示意图；图12是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程图；图13是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程图；图14～图25为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作过程示意图；图26是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程图；图27～图29为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作过程示意图；图30是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作方法的流程图；图31～图33为本专利技术实施例提供的一种阵列基板的制作过程示意图。具体实施方式为使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本专利技术实施方式作进一步地详细描述。图1是本专利技术实施例提供的一种阵列基板的局部结构示意图。如图1所示，阵列基板包括衬底基板10和阵列分布在衬底基板10上的多个像素单元20。图2是图1中的A-A截面图。如图2所示，像素单元20包括透明隔离层22、相变材料层23和具有光反射作用的像素电极21。透明隔离层22和相变材料层23依次层叠在像素电极21上。图1中所示仅为阵列基板的局部结构，阵列基板的形状可以为矩形，也可以为矩形之外的其他形状，例如多边形、圆形、椭圆形等。本专利技术实施例中通过在衬底基板上设置阵列分布的多个像素单元，每个像素单元均包括像素电极和依次层叠在像素电极上的透明隔离层、相变材料层，相变材料层和透明隔离层构成光学谐振腔，当白光依次透射相变材料层和透明隔离层时，相变材料层和透明隔离层之间的干涉效应会改变透射光谱，使得只有一定范围内的波长的光可以透射，从而使透射的光线会显示出一定的颜色，透射的光线在像素电极的作用下反射后可以进入观察者眼中，这样不设置彩膜基板也可以进行颜色显示，而通过测试，从光线入射相变材料层到光线经过像素电极反射后出射相变材料层的过程中，产生的总的光损失相对于光线两次透射彩膜层时产生的总的光损失要低，因此可以提高反射式液晶显示装置的亮度。经过测试，光线在进出彩膜层时，由彩膜层的反射以及彩膜层的吸收造成的光损失通常在65％以上，而光线在进出透明隔离层、相变材料层时，所产生的总的光损失不到50％，因此显著提高了反射式液晶显示装置的亮度。可选地，相变材料层23的厚度可以为3nm～100nm，例如可以为3.5nm、7nm等。相变材料层23可以采用相变材料(PhaseChangeMaterial，PCM)制成，例如采用Ge2Sb2Te5制成。相变材料可以发生相变，包括可以在不同晶相间转变，例如晶态和非晶态之间转变。在不同晶相的状态下，相变材料的光学特性，例如折射率、反射率，会不同。可选地，像素电极21可以采用金属金、银、铝或铂制成，金、银、铝、铂都具有良好的导电性能和良好的反光能力。像素电极21的厚度可以为50nm～150nm。像素电极21厚度过大会增加制作的难度，厚度过薄本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板和阵列分布在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括透明隔离层、相变材料层和具有光反射作用的像素电极，所述透明隔离层和所述相变材料层依次层叠在所述像素电极上。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底基板和阵列分布在所述衬底基板上的多个像素单元，所述像素单元包括透明隔离层、相变材料层和具有光反射作用的像素电极，所述透明隔离层和所述相变材料层依次层叠在所述像素电极上。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述多个像素单元的透明隔离层的厚度相同。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素单元还包括相变电极，在同一所述像素单元中，沿平行于所述衬底基板的方向，所述相变电极与所述像素电极并排布置，所述相变电极与所述像素电极绝缘，所述相变电极与所述相变材料层连接。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述相变电极为镍电极或镍合金电极。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括导电的透明覆盖层，所述透明覆盖层位于所述相变材料层上。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括在所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：林允植，商广良，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11