一种阵列基板及其制作方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，为解决现有技术中的一些阵列基板，无法通过灭点化处理来维修的问题。所述阵列基板包括：由栅线和数据线交叉限定的多个像素单元，每个像素单元包括像素电极和薄膜晶体管，所述阵列基板还包括：与所述像素电极中的目标像素电极一一对应的多个维修单元，所述维修单元分别与对应的所述目标像素电极和目标信号线连接，所述维修单元被配置为与所述维修单元连接的所述目标像素电极与所述目标信号线连通或绝缘。本发明专利技术提供的阵列基板用于制作显示面板。

An Array Substrate and Its Fabrication Method and Display Device

The invention discloses an array substrate, its fabrication method and display device, which relates to the display technology field. In order to solve the problem that some array substrates in the prior art can not be maintained by extinction treatment. The array substrate includes: a plurality of pixel units defined by the intersection of grid lines and data lines, and each pixel unit includes a pixel electrode and a thin film transistor. The array substrate also includes a plurality of repair units corresponding to the target pixel electrode in the pixel electrode, which are respectively connected with the corresponding target pixel electrode and the target signal line, and the dimensions thereof. The repair unit is configured to connect or insulate the target pixel electrode connected with the repair unit and the target signal line. The array substrate provided by the invention is used for making display panel.

【技术实现步骤摘要】
一种阵列基板及其制作方法、显示装置
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置。
技术介绍
在液晶显示器
中，薄膜晶体管液晶显示器(英文：ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，以下简称TFT-LCD)以其大尺寸、高度集成、功能强大、工艺灵活、低成本等优势广泛应用于电视机、电脑、手机等领域。TFT-LCD中的显示面板一般由制作完成的阵列基板和彩膜基板对盒组装并灌注液晶而成，在阵列基板的制作过程中，如果其中的TFT元件(每个TFT元件均包括栅极、半导体层、源极与漏极)发生损坏，例如出现栅极与源极发生短路(DGS)等问题，就会导致该损坏的TFT元件所在像素区域会透射出比其他正常TFT元件所在像素区域明亮得多的光，即产生亮点像素瑕疵(BrightPixelDefect)现象，严重影响显示面板品质。为解决上述问题，现有技术中一般对该损坏的TFT元件所在像素区域进行灭点化处理，该处理过程一般是将损坏的TFT元件所在像素区域内的像素电极与阵列基板中的信号线焊接在一起，以将该像素区域内的像素电极的电位控制在较低的恒定值，避免产本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种阵列基板，包括：由栅线和数据线交叉限定的多个像素单元，每个像素单元包括像素电极和薄膜晶体管，其特征在于，所述阵列基板还包括：与所述像素电极中的目标像素电极一一对应的维修单元，所述维修单元分别与对应的所述目标像素电极和目标信号线连接，所述维修单元被配置为与所述维修单元连接的所述目标像素电极与所述目标信号线连通。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，包括：由栅线和数据线交叉限定的多个像素单元，每个像素单元包括像素电极和薄膜晶体管，其特征在于，所述阵列基板还包括：与所述像素电极中的目标像素电极一一对应的维修单元，所述维修单元分别与对应的所述目标像素电极和目标信号线连接，所述维修单元被配置为与所述维修单元连接的所述目标像素电极与所述目标信号线连通。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述维修单元包括层叠设置的第一维修图形和第二维修图形，以及位于所述第一维修图形和所述第二维修图形之间的绝缘层；其中所述第一维修图形与对应的所述目标像素电极连接，所述第二维修图形与对应的所述目标信号线连接，所述第一维修图形和所述第二维修图形在垂直于所述阵列基板的衬底基板的方向存在交叠区域，位于所述交叠区域的绝缘层被熔接，使所述第一维修图形和所述第二维修图形在所述交叠区域连通。3.一种阵列基板，包括：由栅线和数据线交叉限定的多个像素单元，每个像素单元包括像素电极和薄膜晶体管，其特征在于，所述阵列基板还包括：与所述像素电极中的目标像素电极一一对应的维修单元，所述维修单元分别与对应的所述目标像素电极和目标信号线连接，所述维修单元被配置为与所述维修单元连接的所述目标像素电极与所述目标信号线绝缘。4.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述维修单元包括层叠设置的第一维修图形和第二维修图形，以及位于所述第一维修图形和所述第二维修图形之间的绝缘层；其中所述第一维修图形与对应的所述目标像素电极连接，所述第二维修图形与对应的所述目标信号线连接，所述第一维修图形在所述阵列基板的衬底基板上的正投影与所述第二维修图形在所述衬底基板上的正投影至少部分重叠。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一维修图形在所述衬底基板上的正投影与所述第二维修图形在所述衬底基板上的正投影的重叠区域的面积至少为9μm2。6.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一维修图形在所述衬底基板上的正投影位于所述阵列基板中黑矩阵在所述衬底基板上的正投影的内部；和/或，所述第二维修图形在所述衬底基板上的正投影位于所述阵列基板中黑矩阵在所述衬底基板上的正投影的内部。7.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：白雅杰，王武，王小元，许卓，毕瑞琳，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，重庆京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11