【技术实现步骤摘要】
低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构
本技术涉及一种低电压无尘洁净擦拭面料，尤其是一种低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构。
技术介绍
随着电子技术的不断发展，大规模和超大规模集成电路的快速发展，电子产品对生产环境要求越来越高，同时对静电防护要求越来越高。用于擦拭硅片表面的擦拭布要求具有优良的擦拭效果，并且能够防止静电产生，以确保集成电路板的质量；因而，对擦拭布提出了低摩擦、防静电和无尘的要求。
技术实现思路
本技术的目的是克服现有技术中存在的不足，提供一种低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构，具有优良的擦拭效果，能够防止静电产生，以确保集成电路板的质量。按照本技术提供的技术方案，所述低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构，其特征是：所述面料结构由涤锦复合丝和复合型导电纤维网络交织而成；所述涤锦复合丝包括涤纶纤维基体，在涤纶纤维基体的横截面上沿横截面的圆周方向布置若干呈发射状的锦纶部分，若干呈发射状的锦纶部分将涤纶纤维基体在横截面上分割成若干呈发射状的瓣体部分，锦纶部分和涤纶纤维基体的瓣体部分之间相隔离形成空隙，使涤锦复合丝的横截面形成若干瓣体。进一步地，所述面...
【技术保护点】
1.一种低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构，其特征是：所述面料结构由涤锦复合丝（1）和复合型导电纤维（2）网络交织而成；所述涤锦复合丝（1）包括涤纶纤维基体（11），在涤纶纤维基体（11）的横截面上沿横截面的圆周方向布置若干呈发射状的锦纶部分（12），若干呈发射状的锦纶部分（12）将涤纶纤维基体（11）在横截面上分割成若干呈发射状的瓣体部分（13），锦纶部分（12）和涤纶纤维基体（11）的瓣体部分（13）之间相隔离形成空隙，使涤锦复合丝（1）的横截面形成若干瓣体。
【技术特征摘要】
1.一种低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构，其特征是：所述面料结构由涤锦复合丝（1）和复合型导电纤维（2）网络交织而成；所述涤锦复合丝（1）包括涤纶纤维基体（11），在涤纶纤维基体（11）的横截面上沿横截面的圆周方向布置若干呈发射状的锦纶部分（12），若干呈发射状的锦纶部分（12）将涤纶纤维基体（11）在横截面上分割成若干呈发射状的瓣体部分（13），锦纶部分（12）和涤纶纤维基体（11）的瓣体部分（13）之间相隔离形成空隙，使涤锦复合丝（1）的横截面形成若干瓣体。2.如权利要求1所述的低摩擦电压高密超细无尘擦拭布的面料结构，其特征是：所述面料结构...
【专利技术属性】
技术研发人员：韩俊鸣，陈兰，张晓静，
申请(专利权)人：江苏省纺织研究所股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32
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