一种用于等离子体产生的真空容器制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于等离子体产生的真空容器，涉及真空容器技术领域，可解决现有真空容器因难以实现接管相对位置的临时调整而导致临时性附件安装不便的问题。该真空容器包括相互对接以围成真空腔的第一壳体和第二壳体，所述第一壳体和所述第二壳体的非中心位置设有与所述真空腔连通的接管，所述第一壳体上与所述第二壳体的对接处设有第一法兰，所述第二壳体上与所述第一壳体的对接处设有第二法兰，所述第一法兰上沿其周向均匀设置有多个第一连接部，所述第二法兰上沿其周向均匀设置有与所述第一连接部数量相等的第二连接部，每个所述第一连接部均可与任意一个所述第二连接部连接。本实用新型专利技术用于等离子体的产生。

【技术实现步骤摘要】
一种用于等离子体产生的真空容器
本技术涉及真空容器
，尤其涉及一种用于等离子体产生的真空容器。
技术介绍
真空容器是用于提供低于大气压环境的容器，广泛用于半导体制造、镀膜以及等离子体物理科研实验等领域。真空容器可采用金属或非金属材料制作，并采用一定的密封结构进行密封，除满足真空度要求外，还需根据需要采用不同的材料实现耐温、隔离磁场、绝缘等要求。对于尺寸较大的真空容器，一般设计的接口位置确定，即采用非临时方式，因此接管安装完成后各个接管的相对位置随即固定，且无法更改，难以实现接管相对位置的临时调整，导致临时性附件安装不便。
技术实现思路
本技术的实施例提供一种用于等离子体产生的真空容器，可解决现有真空容器因难以实现接管相对位置的临时调整而导致临时性附件安装不便的问题。为达到上述目的，本技术的实施例采用如下技术方案：一种用于等离子体产生的真空容器，包括相互对接以围成真空腔的第一壳体和第二壳体，第一壳体和第二壳体的非中心位置设有与真空腔连通的接管，第一壳体上与第二壳体的对接处设有第一法兰，第二壳体上与第一壳体的对接处设有第二法兰，第一法兰上沿其周向均匀设置有多个第一连接部，第二法兰上沿其周向本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于等离子体产生的真空容器，其特征在于，包括相互对接以围成真空腔的第一壳体和第二壳体，所述第一壳体和所述第二壳体的非中心位置设有与所述真空腔连通的接管，所述第一壳体上与所述第二壳体的对接处设有第一法兰，所述第二壳体上与所述第一壳体的对接处设有第二法兰，所述第一法兰上沿其周向均匀设置有多个第一连接部，所述第二法兰上沿其周向均匀设置有与所述第一连接部数量相等的第二连接部，每个所述第一连接部均可与任意一个所述第二连接部连接。

【技术特征摘要】
1.一种用于等离子体产生的真空容器，其特征在于，包括相互对接以围成真空腔的第一壳体和第二壳体，所述第一壳体和所述第二壳体的非中心位置设有与所述真空腔连通的接管，所述第一壳体上与所述第二壳体的对接处设有第一法兰，所述第二壳体上与所述第一壳体的对接处设有第二法兰，所述第一法兰上沿其周向均匀设置有多个第一连接部，所述第二法兰上沿其周向均匀设置有与所述第一连接部数量相等的第二连接部，每个所述第一连接部均可与任意一个所述第二连接部连接。2.根据权利要求1所述的真空容器，其特征在于，所述第一连接部和所述第二连接部均为螺栓孔，所述第一连接部和所述第二连接部通过螺栓连接。3.根据权利要求1所述的真空容器，其特征在于，所述第一法兰与所述第二法兰之间通过密封圈密封。4.根据权利要求3所述的真空容器，其特征在于，所述第一法兰为凹面法兰，所述第二法兰为凸面法兰，所述密封圈位于所述第一法兰和所述第二法...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨圆明，赵鑫，王汉清，宋韵洋，杨恩武，刘兰超，杨林月，刘敏胜，
申请(专利权)人：新奥科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：河北,13