一种纹影系统中的纹影光源技术方案

本实用新型专利技术公开了一种纹影系统中的纹影光源，包括：控制端、触屏手机，触屏手机放置于三维升降台上，触屏手机与纹影镜、CMOS相机保持在同一高度；控制端与触屏手机无线连接。实用新型专利技术可以在极小的范围内调整光源大小；同时可以减少调节光源大小的光栅装置，这使得可以减弱光源的干涉效应和衍射效应，极大的提高了光源的质量。

【技术实现步骤摘要】
一种纹影系统中的纹影光源
本申请涉及纹影系统领域，尤其涉及一种纹影系统中的纹影光源。
技术介绍
在众多流场显示技术中，纹影法一直是流场显示较为清晰的一种技术，它不但直观地演示了流场的流动图谱，展示了流态地结构，而且也获得了流场地某些定量试验数据流场的直观显示对于数据采集分析可以提供直接的物理依据，进一步它还在声场、流场、传热、冲击波、等离子放电等方面研究中广泛使用。但纹影法对光源的要求高。纹影系统的灵敏度与纹影镜焦距和刀口切割光源大小有直接关系，纹影镜焦距越大，刀口挡掉光源部分越大，纹影系统灵敏度越高。因此，在一定范围内，光源越小，刀口挡掉光源部分越大，纹影系统灵敏度越高。但在常见的纹影光源装置中，一般在光源前加光栅等装置调节光源的大小，这会对光源产生一定干涉现象，同时仪器多，调试费时。
技术实现思路
本技术实施例提供了一种纹影系统中的纹影光源，用以提升纹影系统中光源的光束质量，以及提升纹影系统的灵敏度。其具体的技术方案如下：一种纹影系统中的纹影光源，所述纹影光源包括：控制端、触屏手机、三维升降台、纹影镜、CMOS相机、扰动区域，其中；所述触屏手机放置于所述三维升降台上，所述触屏手机与纹影镜本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种纹影系统中的纹影光源，其特征在于，所述纹影光源包括：控制端、触屏手机、三维升降台、纹影镜、CMOS相机、扰动区域，其中；所述触屏手机放置于所述三维升降台上，所述触屏手机与纹影镜、CMOS相机保持在同一高度；所述控制端与所述触屏手机无线连接；两次通过扰动区域即因干扰源引起的空气折射率变化的区域，图像信息被COMS相机所采集。

【技术特征摘要】
1.一种纹影系统中的纹影光源，其特征在于，所述纹影光源包括：控制端、触屏手机、三维升降台、纹影镜、CMOS相机、扰动区域，其中；所述触屏手机放置于所述三维升降台上，所述触屏手机与纹影镜、CMOS相机保持在同一高度；所述控制端与所述触屏手机无线连接；两次通过扰...

【专利技术属性】
技术研发人员：邓凯文，王泓鑫，黄昊楠，欧慧东，陈嘉颖，薛竣文，
申请(专利权)人：北京理工大学珠海学院，
类型：新型
国别省市：广东,44