【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】随后的MRI配置依赖性涡流补偿
本专利技术涉及一种具有涡流校正的磁共振成像系统，以及一种关于生成梯度磁场操作所述磁共振成像系统的方法。
技术介绍
在磁共振(MR)检查的领域中，已知由MR成像系统的梯度线圈有意地生成的时间变化的磁场可以在作为MR成像系统的部分的导电物体中生成非期望的涡流。作为一个效应，所生成的涡流自身继而生成磁场，所述磁场可以在MR成像中引起严重的问题并且可以导致图像失真、重影效应、不可靠的水脂分离，并且可以影响定量参数评价，诸如q-流。涡流因此通常针对MR成像系统并且在有限视场(FOV)处被表征并且补偿。例如，专利申请US2012/0229139A1描述了一种MR成像装置，包括存储单元、涡流校正单元和梯度磁场电源。存储单元在其中存储均对应于成像位置的涡流校正参数，以校正涡流磁场的影响。涡流校正单元接收根据成像状况所计算的梯度磁场的波形，通过使用根据位置所选择的涡流校正参数来执行到接收到的梯度磁场的波形上的计算，并且将作为计算结果所获得的经校正的波形输出到梯度磁场电源。梯度磁场电源接收经校正的波形并且根据经校正的波形施加梯度磁场。摘要ISMRM-2...
【技术保护点】
1.一种磁共振成像系统(10)，包括：‑磁梯度线圈系统(22)，其包括：‑至少一个磁梯度线圈，‑至少一个磁梯度线圈驱动器单元(48)，其用于根据期望的磁共振检查模式将预定时间电流分布提供到所述至少一个磁梯度线圈，以及‑磁梯度线圈控制单元(46)，其被配置用于控制所述至少一个磁梯度线圈驱动器单元(48)；其中，所述磁梯度线圈系统(10)被配置用于生成要被叠加到所述磁共振成像系统(10)的静态磁场B0的梯度磁场；‑内部区域(44)，其由距包络所述至少一个磁梯度线圈的最小虚拟圆柱体的外部表面的预定最大距离定义；‑数字数据存储单元(30)，其包括能用于修改所述时间预定电流分布的多个...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.22 EP 16152337.81.一种磁共振成像系统(10)，包括：-磁梯度线圈系统(22)，其包括：-至少一个磁梯度线圈，-至少一个磁梯度线圈驱动器单元(48)，其用于根据期望的磁共振检查模式将预定时间电流分布提供到所述至少一个磁梯度线圈，以及-磁梯度线圈控制单元(46)，其被配置用于控制所述至少一个磁梯度线圈驱动器单元(48)；其中，所述磁梯度线圈系统(10)被配置用于生成要被叠加到所述磁共振成像系统(10)的静态磁场B0的梯度磁场；-内部区域(44)，其由距包络所述至少一个磁梯度线圈的最小虚拟圆柱体的外部表面的预定最大距离定义；-数字数据存储单元(30)，其包括能用于修改所述时间预定电流分布的多个预定参数集；其中，所述磁共振成像系统(10)被配置用于在接收到指示所述内部区域(44)内的至少一个额外的设备(50)的存在的信息的情况下至少基于所述多个预定参数集的至少一个预定参数集来修改所述预定电流分布，其中，所述额外的设备(50)当暴露于所生成的梯度磁场时能够在所述额外的设备(50)的至少部分中生成涡流。2.根据权利要求1所述的磁共振成像系统(10)，还包括人类接口设备(28)，其中，关于所述内部区域(44)内的所述至少一个额外的设备(50)的存在的所述信息经由所述人类接口设备(28)被提供到所述磁共振成像系统(10)的控制单元(26、50)。3.根据权利要求1或2所述的磁共振成像系统(10)，还包括至少一个检测模块，所述至少一个检测模块被配置用于检测所述内部区域(44)内的所述额外的设备(50)的存在，并且还被配置用于在检测到所述存在的情况下将关于所述内部区域(44)内的额外的设备(50)的所述存在的所述信息提供到所述磁共振成像系统(10)的控制单元(26、50)。4.根据权利要求3所述的磁共振成像系统(10)，其中，所述至少一个检测模块被配置为确定一个或多个所述额外的设备(50)相对于所述内部区域(44)的位置和取向中的至少一个。5.根据权利要求3或4所述的磁共振成像系统(10)，其中，所述至少一个检测模块由光学相机(52)形成。6.根据前述权利要求中的任一项所述的磁共振成像系统(10)，其中，所述预定参数集中的每一个唯一地与指示所述额外的设备(50)相对于所述内部区域(44)的位置和取向中的至少一个以及所述至少一个额外的设备(50)的数据集相关。7.一种关于通过梯度线圈系统(22)中的至少一个磁梯度线圈生成梯度磁场来操...
【专利技术属性】
技术研发人员：J·S·范登布林克，
申请(专利权)人：皇家飞利浦有限公司，
类型：发明
国别省市：荷兰,NL
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