用于控制用于建筑物或用于船舶的真空污水系统的方法，其包括真空单元(11)、真空管路(7)、污水源(91,92,93,94)，以及在每个污水源与真空管路之间的排放阀(8)，其中真空单元生成真空管路中的预定真空水平，在该方法中监测真空污水系统的操作。以便确保有效操作真空污水系统，监测真空单元的运行时间，且监测真空管路的真空水平。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于控制用于建筑物或用于船舶的真空污水系统的方法
本专利技术涉及一种根据权利要求1的前序部分的用于控制用于建筑物或用于船舶的真空污水系统的方法，该真空污水系统包括：真空单元；具有至少主管线和至少分支管的真空管路；污水源；以及每个污水源与真空管路之间的排放阀，其中真空单元在真空管路中生成预定真空水平；在此方法中，监测真空单元的运行时间，并且在此方法中，监测真空管路中的真空水平。
技术介绍
用于建筑物或用于船舶的真空污水系统中的真空管路可包括很大的管路网络，例如，其在连接、分支、疏水阀和排水管处经受泄漏，特别是在延长使用期间。此外，真空污水系统中输送的污水往往会在真空管路中形成沉积物和层，具体是因为真空管路的小直径。真空污水系统中的此真空管路的直径大体上在40mm到60mm之间。阻塞或部分阻塞也可出于各种原因发生，例如，累积的沉积物或层，或排入真空管路中的非期望的材料。考虑到真空污水管路的所述小直径，此类阻塞或部分阻塞是不利的。在大型管路网络中，此类问题事件的检测和定位很难。用于监测真空污水系统的泄漏的各种布置是已知的。WO02/50381A1公开了一种系统，其中污水由重力从建筑物排入外部收集罐，污水从罐单独地且随后通过真空进一步输送。已知的系统包括用于监测真空阀的故障的控制系统，基于监测真空泵的额外运行时间，污水从外部收集罐经由真空阀排入真空管路中。JP3164750B2公开了对应的系统，其中通过监测真空泵的流通和运行时间来检测进入真空系统的空气泄漏。JP4864513B2也公开了对应的系统，其中真空管路的泄漏由若干真空传感器监测。已知的系统仅限于泄漏控制。
技术实现思路
本专利技术的目的在于检测真空管路中的沉积物或层的阻塞或形成。本专利技术的另一个目的在于定位真空管路中的阻塞或部分阻塞、沉积物或层。这些目的借助于根据权利要求1的方法来达成。本专利技术的附加目的在于检测真空管路中的泄漏，以及定位真空管路中的泄漏。本专利技术的基本构想在于监测真空单元的操作，以便检测与正常设计的运行时间和真空水平的偏差。为了检测与真空单元的正常设计的运行时间的偏差，确定预定时间段期间的运行时间的第一给定参考值。当真空单元的运行时间相比于第一给定参考值较短时，存在沉积物或层形成在真空管路中而引起阻塞或部分阻塞的指示。为了基于监测真空单元的运行时间定位问题事件的位置，如，真空管路中的沉积物、层、部分阻塞或阻塞，在真空管路的至少两个单独的预定位置处监测真空管路中的真空水平。结合污水源的排出或冲洗顺序，比较至少两个单独的预定位置处监测到的真空水平。运行时间有利地由运行时间计量单元监测，计量单元登记真空单元的运行时间。运行时间计量单元可包括在真空单元的控制面板中。测量预定时间段内的总登记运行时间。该总运行时间然后可与总运行时间的第一给定参考值相比较，参考值可通过在真空污水系统投入使用且仍包装完好时和在真空管路仍清洁且无污染时(即，没有形成在真空管路中的阻塞、部分阻塞、沉积物或层)的例如一个月时间期间的预定时间段内执行监测而获得。有利地，真空水平由置于真空管路的每个分支管中的至少两个真空传感器监测。由置于分支管中的成组的两个相邻的真空传感器指出的真空水平结合污水源的排放或冲洗顺序来比较。以此方式，可确定问题事件的更精确的位置。在正常操作中，分支管中的真空水平应结合排放或冲洗顺序明显降低。然而，如果降低更加激进，则存在导致分支管中较小的容积或流动截面的阻塞、部分阻塞、沉积物或层形成在分支管中的明确指示。真空污水系统中的真空单元一般间断地运行，以便在真空管路中将真空生成和保持在预定高真空水平处或周围，以确保真空污水系统的适当操作。当使用污水源时，例如，冲马桶，真空水平由于空气和污水吸入或冲入真空管路中而降低。在一定量的使用之后，真空水平降低到预定低真空水平，其代表最低所需的真空水平，以确保真空污水系统的操作。因此，在此预定低真空水平下，触发真空单元启动或重启，以便将真空水平升高到所述预定高真空水平。为了实现其，真空单元在适合的时间段内运行。根据该方法，此外，真空单元的启动频率由计数器单元有利地监测，计数器单元登记真空单元的启动数量。计数器单元可包括在真空单元的控制面板中。定义"启动频率"指出真空单元在预定时间段内启动的次数。优选地，监测预定时间段内的总启动数量。启动数量然后可与总启动数量的给定第二参考值比较，第二参考值可通过在真空污水系统投入使用且仍包装完好时和在真空管路仍清洁且无污染时(即，没有形成在真空管路中的阻塞、部分阻塞、沉积物或层)的例如一个月时间期间的预定时间段内执行监测而获得。有利地，当运行时间的持续时间相比于给定的第一参考值更长或启动数量相比于第二给定参考值更高时，真空水平由至少置于真空管路的一个预定位置处的真空传感器监测，该位置有利地是分支管的污水源端部。以此方式，可确定和定位问题事件，如，泄漏。如果真空管路包括许多分支管，则真空传感器有利地置于每个分支管的污水源处，由此比较由每个分支管的污水源端部处放置的真空传感器指出的真空水平。为了单独地监测分支管，分支管可由切断阀关闭预定时间。切断阀有利地是电动的，以便允许自动化。有利地对比较进行定时，使得在特定时间间隔比较真空水平。配置的真空单元是真空泵，例如，旋转旋转凸轮泵、液环泵等，或例如，备选的喷射器单元。运行时间和启动频率的监测和测量，以及真空水平的监测和比较通过自动化来有利地执行，这在于本领域的技术人员的能力，因此并未在此方面进行任何详细的描述。然后，可以以适当方式指出所得的数据，以便提供和便于任何所需的维护和修理措施。用语"长"、"短"、"低"和"高"因此与所述给定参考值相比较，且指出与给定参考值的明显偏差。首先，换言之，如果存在运行时间的给定第一参考值，即，给定的测得运行时间，则"短"、"较短"、"长"或"较长"运行时间指出在运行时间上存在参考值相对于给定第一参考值的明显偏差。认为本领域的技术人员能够确定偏差是否满足"短"、"较短"、"长"或"较长"的标准。其次，换言之，如果启动频率存在给定的第二参考值，即启动数量，则"高"、"较高"、"低"或"较低"启动频率指出在启动数量上存在参考值相对于给定的第二参考值的明显偏差。认为本领域技术人员能够确定偏差是否满足"高"、"较高"、"低"或"较低"的标准。权利要求2至13中给出了该方法的有利特征。附图说明在下文中，将仅通过示例的方式参考所附的示意图更详细地描述本专利技术，在附图中：图1示出了用于建筑物或船舶的真空污水系统的大体布局，其中使用了根据本专利技术的方法，图2示出了用于定位阻塞、沉积物或层的布置，图3示出了用于定位泄漏的布置，以及图4示出了用于定位泄漏的备选布置。具体实施方式图1示出了用于建筑物或用于船舶的真空污水系统1的大体布局。换言之，根据本专利技术的真空污水系统作为整体配置或定位在建筑物内或船舶上。用语建筑物认作是包括住宅、酒店、百货商店、超市、工业建筑等。用语船舶认作是包括游艇、船只、巡洋舰、货轮、离岸平台等。换言之，本专利技术涉及一种真空污水系统，其中真空污水系统的所有构件都布置或定位在建筑物或船舶内。由真空污水系统中的真空输送污水发生在建筑物或船舶内。本专利技术不涉及配置在建筑物外且收集和输送从建筑物接收的污水的真空污水系统。以对应的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1. 用于控制用于建筑物或用于船舶的真空污水系统的方法，所述真空污水系统包括真空单元(11)、具有至少主管线(72)和至少分支管(71)的真空管路(7)、污水源(9, 91 , 92, 93, 94)，以及每个污水源与所述真空管路之间的排放阀(8)，其中所述真空单元在所述真空管路中生成预定真空水平，在所述方法中，监测所述真空单元(11)的运行时间，并且在所述方法中，监测所述真空管路(7)中的真空水平，其特征在于，确定预定时间段期间对于所述运行时间的第一给定参考值，监测所述真空单元的所述运行时间(11)，且在所述运行时间的持续时间相比于所述第一给定参考值是短的时，在所述真空管路(7)的至少两个单独的预定位置处监测所述真空管路(7)中的所述真空水平。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2016.01.26 FI 201650481.用于控制用于建筑物或用于船舶的真空污水系统的方法，所述真空污水系统包括真空单元(11)、具有至少主管线(72)和至少分支管(71)的真空管路(7)、污水源(9,91,92,93,94)，以及每个污水源与所述真空管路之间的排放阀(8)，其中所述真空单元在所述真空管路中生成预定真空水平，在所述方法中，监测所述真空单元(11)的运行时间，并且在所述方法中，监测所述真空管路(7)中的真空水平，其特征在于，确定预定时间段期间对于所述运行时间的第一给定参考值，监测所述真空单元的所述运行时间(11)，且在所述运行时间的持续时间相比于所述第一给定参考值是短的时，在所述真空管路(7)的至少两个单独的预定位置处监测所述真空管路(7)中的所述真空水平。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，结合所述污水源的排出或冲洗顺序，比较所述至少两个单独的预定位置处监测到的所述真空水平。3.根据权利要求1或权利要求2所述的方法，其特征在于，所述真空单元(11)的所述运行时间由登记所述真空单元的所述运行时间的运行时间计量单元(111)监测。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，测量所述预定时间段内的总登记运行时间，以便确定对于所述运行时间的所述第一给定参考值。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其特征在于，所述真空水平由置于所述真空管路(7)中的每个分支管(71)中的至少两个真空传感器(P1,P2,P3)监测，且由...
【专利技术属性】
技术研发人员：V拉帕莱因恩，M卡尔雅莱因恩，
申请(专利权)人：埃瓦克有限公司，
类型：发明
国别省市：芬兰,FI
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